JP2005238109A - 基板洗浄装置、基板洗浄方法及び電気光学装置の製造方法 - Google Patents

基板洗浄装置、基板洗浄方法及び電気光学装置の製造方法 Download PDF

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Koji Kaneda
光司 金田
Hirotaka Maeda
博孝 前田
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Abstract

【課題】パレット上に基板を載せた搬送しながら、基板の確実な洗浄を可能にする。
【解決手段】 複数の基板3が載置されたパレット1を搬送する搬送機構2と、前記搬送機構2によって搬送されるパレット1の上方の所定位置において、前記パレット1の搬送方向に交差する方向に揺動しながら、前記基板3に向けて洗浄液を吐出する吹き出し部4と、前記パレット1と前記基板3との間の水分を除去する水切り機構とを具備したことを特徴とする。
【選択図】 図1

Description

本発明は、液晶基板のラビング後の洗浄工程等に好適な基板洗浄装置、基板洗浄方法及び電気光学装置の製造方法に関する。
例えば、液晶装置は、ガラス基板、石英基板等の2枚の基板間に液晶を封入して構成される。液晶装置の構造としては、基板の表面に画素をマトリクス状に配列させたパッシブ方式のものや、各画素毎にTFT(Thin Film Transistor:薄膜トランジスタ)やTFD(Thin Film Diode:薄膜ダイオード)等の非線形素子を設け、この非線形素子を介して信号電極と画素電極とを接続したアクティブ方式のもの等がある。
アクティブ方式の液晶装置は、一方の基板に、能動素子をマトリクス状に配置し、他方の基板に対向する電極を配置して、両基板間に封止した液晶層の光学特性を画像信号に応じて変化させることで、画像表示を可能にする。
TFTを配置したTFT基板と、TFT基板に対向配置される対向基板とは、別々に製造される。両基板は、パネル組立工程において高精度に貼り合わされた後、液晶が封入される。
パネル組立工程においては、先ず、各基板工程において夫々製造されたTFT基板と対向基板との対向面、即ち、対向基板及びTFT基板の液晶層と接する面上に配向膜が形成され、次いでラビング処理が行われる。次に、一方の基板上の端辺に接着剤となるシール部が形成される。TFT基板と対向基板とをシール部を用いて貼り合わせ、アライメントを施しながら圧着硬化させる。シール部の一部には切り欠きが設けられており、この切り欠きを介して液晶を封入する。
配向膜を形成してラビング処理を施すことで、電圧無印加時の液晶分子の配列が決定される。配向膜は、例えばポリイミドを約数十ナノメーターの厚さで塗布することにより形成される。液晶層に対向する両基板の面上に配向膜を形成することで、液晶分子を基板面に沿って配向処理することができる。ラビング処理は、配向膜表面に細かい溝を形成して配向異方性の膜にするものであり、配向膜に一定方向のラビング処理を施すことで、液晶分子の配列を規定することができる。
ところで、このようなラビング処理では、多量の塵埃が発生し、基板表面に付着してしまうことがある。そこで、両基板のラビング処理後に、基板表面に付着した塵埃を除去する洗浄工程が行われる。
ラビング後の洗浄工程としては、バッチ洗浄方式、インラインシャワー洗浄方式、エアーブロー方式及びテープ除塵方式等がある。バッチ洗浄方式は、純水槽に基板を浸漬させ、バブリングや超音波によって洗浄する方法である。インラインシャワー洗浄方式は、基板をコロ搬送により順送りしながら、表裏面に純水シャワーを吹き付けて洗浄する方法である。エアーブロー方式は、フィルターを通してN2(窒素)ガスを吹き付けることにより、基板表面をクリーニングする方法である。また、テープ除塵方式は、クリーニング用テープの貼付け及び剥離によって汚染物をテープに転写するクリーニング方法である。
特に、サイズが比較的小さい対向基板の洗浄方法としては、洗浄の容易さ或いは製造効率等の理由から、複数の対向基板をパレットに載置して行うテープ除塵が採用される。なお、基板をパレット上に載せて搬送するものとして特許文献1の装置がある。
特開2000−214463号公報
ところが、テープ除塵においては、クリーニング用テープからの汚染物や粘着物の逆転写による表面汚染の問題があり、更に、テープの貼り付けによってダメージが生じる虞もあるという問題点があった。
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、洗浄効率を低下させることなく、複数の基板を同時に且つ確実に洗浄することができる基板洗浄装置、基板洗浄方法及び電気光学装置の製造方法を提供することを目的とする。
本発明に係る基板洗浄装置は、複数の基板が載置されたパレットを搬送する搬送機構と、前記搬送機構によって搬送されるパレットの上方の所定位置において、前記パレットの搬送方向に交差する方向に揺動しながら、前記基板に向けて洗浄液を吐出する吹き出し部と、前記パレットと前記基板との間の水分を除去する水切り機構とを具備したことを特徴とする。
このような構成によれば、パレット上には複数の基板が載置される。搬送機構は、複数の基板が載置されたパレットを搬送する。吹き出し部は、搬送機構によって搬送されるパレットの上方の所定位置において、パレットの搬送方向に交差する方向に揺動しながら、基板に向けて洗浄液を吐出する。搬送機構によるパレットの搬送と吹き出し部との揺動とによって、吹き出し部から吐出される洗浄液は、十分な強さで且つ基板表面に対して種々の角度から基板表面に吹き付けられることになり、基板表面の異物等の除去効果が高い。これにより、複数の基板を高い洗浄力で同時に洗浄することが可能となる。
また、前記吹き出し部は、前記洗浄液を吐出する複数の開口部を具備し、前記複数の開口部の間隔以上の距離を揺動することを特徴とする。
このような構成によれば、吹き出し部が開口部間隔以上の距離を揺動するので、吹き出し部から吐出される洗浄液は、基板全域に隙間無く吹き付けられることになり、基板の確実な洗浄が可能となる。
また、前記水切り機構は、前記搬送機構によって搬送されるパレットの下方の所定位置において、前記パレットに形成された開孔に臨む吸引部と、前記吸引部を介して前記パレット上への吸引力を発生する吸引手段とを具備したことを特徴とする。
このような構成によれば、吸引部は、搬送機構によって搬送されるパレットの下方の所定位置においてパレットに形成された開孔に臨み、この開孔を介してパレット上面側に吸引力を施す。これにより、複数の基板を載置した状態のパレットを搬送しながら、例えばパレット上の基板に残留する水分を吸引排出することができる。
また、前記吸引手段は、前記基板を前記パレットに吸着させる吸着手段を兼ねていることを特徴とする。
このような構成によれば、吸引手段によって、基板をパレットに吸着させているので、洗浄工程及び乾燥工程等において、基板がパレットから外れてしまうことを防止することができる。
また、前記パレットを更に具備し、前記パレットは、前記基板が載置される底面と前記基板との間に、前記吸引手段の吸引経路を構成する隙間が形成されていることを特徴とする。
このような構成によれば、パレット底面の溝部又は突部によって、パレットと基板との間には隙間が形成されるので、この隙間を介して基板に残留する水分を排出することが容易となる。
また、前記吹き出し部は、前記パレットの移動方向の反対方向を頂点とするV字形状を有することを特徴とする。
このような構成によれば、V字形状の吹き出し部からの洗浄液は、基板の中央から周辺部に向けて流れやすいので、基板表面に異物が残留することを防止して、確実な洗浄が可能となる。
また、本発明に係る基板洗浄装置は、複数の基板が載置されたパレットを搬送する搬送機構と、前記搬送機構によって搬送されるパレットの下方の所定位置において、前記パレットに形成された開孔に臨む吸引部と、前記搬送機構による搬送途中で洗浄液が吹き付けられて洗浄された前記基板に付着した水分を、前記吸引部を介して吸引する吸引手段とを具備したことを特徴とする。
このような構成によれば、複数の基板が載置されたパレットは搬送機構によって搬送される。この搬送機構の搬送途中において、基板は洗浄液が吹き付けられて洗浄される。吸引部は、洗浄後に搬送機構によって搬送されるパレットの下方の所定位置において、パレットに形成された開孔に臨む。吸引手段は、吸引部を介した吸引によって、パレット上の基板に付着した水分を吸引する。これにより、基板裏面側の水分も確実に水切りされる。
また、本発明に係る基板洗浄装置は、複数の基板が載置されたパレットを搬送する搬送機構と、前記搬送機構によって搬送されるパレットの上方の所定位置において、前記パレットの移動方向の反対方向を頂点とするV字形状を有して、前記パレットの搬送方向に交差する方向に揺動しながら、前記基板に向けて洗浄液を吐出する吹き出し部とを具備したことを特徴とする。
このような構成によれば、複数の基板はパレットに載置された状態で、搬送機構により搬送される。搬送機構によって搬送されるパレットの上方の所定位置には、パレットの移動方向の反対方向を頂点とするV字形状を有する吹き出し部が配置される。吹き出し部は、パレットの搬送方向に交差する方向に揺動しながら、基板に向けて洗浄液を吐出する。基板の移動及びパレットの揺動によって、基板表面には、十分な強さで且つ種々の角度から洗浄液が吹き付けられる。更に、吹き出し部がV字形状を有するので、洗浄液は基板の中央から周辺部に向けて流れやすく、基板表面に異物が残留することを防止して、確実な洗浄が可能となる。
本発明に係る基板洗浄方法は、複数の基板が載置されたパレットを搬送する搬送手順と、搬送されるパレットの上方の所定位置において、前記パレットの搬送方向に交差する方向に揺動しながら、前記基板に向けて洗浄液を吐出する吹き出し部によって前記基板を洗浄する洗浄手順と、前記パレットと前記基板との間の水分の水切りを行う水切り手順とを具備したことを特徴とする。
このような構成によれば、複数の基板が載置されたパレットは、洗浄手順において吹き出し部の下方を搬送される。洗浄手順においては、吹き出し部は、パレットの搬送方向に交差する方向に揺動しながら、基板に向けて洗浄液を吐出する。これにより、高い洗浄力が得られる。水切り手順では、パレットと基板との間の水分の水切りが行われる。これにより、基板は確実に乾燥されて、水垢等が残ることが防止される。
本発明に係る電気光学装置の製造方法は、電気光学装置用の基板をパレット上に載置する手順と、上記基板洗浄方法を用いて前記パレット上の複数の基板を洗浄・水切りする手順とを具備したことを特徴とする。
このような構成によれば、パレット上に載置された複数の基板は、高い洗浄力で同時に洗浄され、確実に水切り処理が行われる。これにより、表示性能に優れた電気光学装置を製造することができる。
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について詳細に説明する。図1は本発明の第1の実施の形態に係る基板洗浄装置を示す斜視図である。図2は図1中の吹き出し口を説明するための説明図、図3は基板洗浄装置の全体構成を示す説明図である。図4は本実施の形態における水切り機構を説明するための説明図である。
本実施の形態においては、図3に示すように、パレット1上に複数の基板3を配置した状態で、パレット1を搬送路上で移動させながら、洗浄工程及び乾燥工程を実施するようになっている。
図3(a),(b)の洗浄工程においては、吹き出し部としてのシャワーノズル4を用いた洗浄を行う。図1において、搬送路上に搬送機構としての複数の搬送ローラ2が設けられている。搬送ローラ2は、搬送路に固定された図示しない支持部材によって回転軸が支持されて回動する。搬送ローラ2上にはパレット1が載置されるようになっている。パレット1上には、例えば液晶装置に用いられる対向基板等の基板3が複数配置されるようになっている。例えば、パレット1上には基板3のサイズに応じた図示しない溝が形成されており、基板3はこの溝部に底部側が嵌込まれて、パレット1上に固定的に配置される。パレット1が載置された搬送ローラ2が回転することによって、パレット1を基板3と共に搬送路上で移動させることができる。
なお、本実施の形態におけるパレット1は、後述するように、底面に開孔13(図4参照)が形成されている。また、パレット1の各基板3が配置される部分には、突部又は溝部が形成されて、各基板3は少なくとも一部において、パレット1の底面と隙間を有して配置されるようになっている。また、この隙間とパレット1の底面に設けられた開孔13とは連通されている。また、パレット1は開孔13又は図示しない他の開孔を介して、真空吸着されるようになっている。これにより、洗浄工程及び乾燥工程途中において、基板3がパレット1から外れることを防止することができる。
なお、洗浄中においては、パレット1の底面と基板3との間の隙間に水が溜まっており、パレット1の底面に設けた開孔からの真空吸着によって、十分な吸着力で基板3をパレット1上に固定的に配置することができる。また、この隙間に水が溜まっていない場合でも、隙間の間隔が比較的小さい場合にはある程度の吸着力が得られる。
本実施の形態においては、搬送路上の所定位置には、パレット1上に隣接してシャワーノズル4が配設されている。シャワーノズル4は先端に吹き出し口6を有しており、図示しない洗浄液収納タンク等から洗浄液等が供給されて、洗浄液等5を吹き出し口6から吹き出すことができるようになっている。洗浄液の吹き出し口6の開口面積を比較的小さく設定することによって、シャワーノズル4は、比較的高い水圧で洗浄液5を基板3表面に吐出することができる。
更に、本実施の形態においては、シャワーノズル4は、洗浄液5を吹き出しながら、パレット1の移動方向に交差する方向、例えば直交する方向に揺動自在である。
図2はシャワーノズル4の吹き出し口6の一例を示している。図2に示すように、シャワーノズル4の先端には複数の吹き出し口6が設けられている。パレット1の揺動は、例えば吹き出し口6相互の間隔以上の移動量に設定される。これにより、シャワーノズル4によって、基板3の全域に洗浄液5を吹き付けることができると共に、基板3の全域のいずれの部分においても、十分な水圧で洗浄液5を吹き付けることができる。
更に、シャワーノズル4と揺動とパレット1の移動とが同時に行われ、シャワーノズル4は、洗浄液等5を十分な強度で基板3表面に吹き付けることができる。また、基板3には、基板3表面に対して種々の角度傾斜した方向からも洗浄液5が吹き付けられることになる。これにより、基板3上の異物等の除去効果が極めて高く、高い洗浄効果を得ることができる。
なお、シャワーノズル4の吹き出し口の個数及び間隔、並びに、シャワーノズル4自体の揺動速度及び距離を適宜設定することによって、洗浄効率を向上させるようになっている。
搬送ローラ1は、洗浄工程終了後のパレット1を、図3(c)に示す乾燥工程の処理位置まで搬送することができる。図3(c)に示す乾燥工程においては、エアーナイフ8を用いた乾燥処理が行われる。
エアーナイフ8は、搬送上のパレット1上方に配置されており、基板3の表面に対して所定角度傾斜したエア吹き出し口を有している。エアナイフ8は、高圧のエアを基板3の表面に、基板3表面に対して所定角度傾斜した方向から吹き付けることができ、これにより、基板3表面の水分を基板3表面から吹き飛ばすことができるようになっている。
更に、本実施の形態においては、図3(c)に示す乾燥工程において、パレット1底面に設けた開孔13を介して、水分を下方に吸引することができるようになっている。図4は図3(c)に示す乾燥工程における水切り機構を示す説明図である。図4においては、説明を簡略化するために、パレット1が1個の基板3のみを配置するようになっているものとして説明する。
図4においては、パレット1は、底面に開孔13が形成されている。また、パレット1は、基板3が配置される部分の底面に突部11が形成されており、基板3はこの突部11上に配置されることで、基板3底部とパレット1の底面上との間に隙間を有して基板3が配置されることになる。なお、突部11に代えて、所定形状の溝部を形成することによっても、基板3底部とパレット1の底面上との間に隙間有して基板3を配置することができることは明らかである。
一方、図4では図示しない搬送ローラ2の下方には、回収部15が図示しない支持部材に支持されて固定配置されている。回収部15は上面の吸引管部9及び底面の排出口14のみが開口した筐体である。回収部15の吸引管部9はパレット1の開孔13に対応する位置の複数箇所に配列されており、パレット1の移動に応じて、各吸引管部9がパレット1の開孔13に臨むようになっている。なお、1カ所に吸引管部9を設けた構成であってもよい。
一方、回収部15は、排出口14に図示しない回収ポンプが接続されており、回収ポンプの吸引力によって、図4の矢印に示す水の流れを生じさせるようになっている。即ち、パレット1の開孔13が吸引管部9に対向することによって、回収ポンプの吸引力によって、パレット1の底面上に残留している水分が、吸引管部9を介して回収部15に流れ出し、更に、排出口14を介して外部に排出されるようになっている。
搬送ローラ1は、図3(c)に示す乾燥工程が終了すると、図3(d)に示す乾燥工程の処理位置までパレット1を搬送するようになっている。図3(d)に示す乾燥工程においては、ヒーター10を用いた乾燥処理が行われる。
次に、このように構成された実施の形態の動作について説明する。
複数の基板3をパレット1に配置し、パレット1を搬送ローラ2上に載置する。搬送ローラ2は、回転することによって、パレット1と共に基板3を搬送路上で搬送する。基板3がシャワーノズル4の吹き出し口6に対向する位置まで搬送されると、図示しないシャワーノズル4の揺動機構によって、シャワーノズル4がパレット1の進行方向に例えば直交する方向に揺動する。
この状態で、図示しない洗浄液収納タンクから洗浄液等5がシャワーノズル4に供給されて、シャワーノズル4は、吹き出し口6から洗浄液等5を吹き出す。シャワーノズル4から吹き出された洗浄液5は、種々の角度でかつ十分な圧力で基板3の表面に吹き出される。基板3が移動しながら、シャワーノズル4が揺動して、洗浄液5を吹き出しているので、基板3の表面には十分な圧力の洗浄液5が、基板表面3の全域にまんべんなく吹き付けられる。これにより、基板3上の異物等は、基板3の表面から確実に剥離し、基板3上を十分な勢いで流れて、洗浄液5と共に基板3の表面から除去される。
搬送ローラ2は、洗浄が終了した基板3をパレット1上に載置した状態で、図3(c)に示す乾燥工程の処理位置に移動させる。図3(c)の乾燥工程においては、エアーナイフ8から十分な圧力のエアが基板3表面に吹き付けられる。これにより、基板3表面の水分は、吹き飛ばされる。
一方、図3(c)の乾燥工程においては、パレット1が搬送されることによって、所定タイミングにおいてパレット1底面の開孔13が回収部15の吸引管部9に臨む。回収部15は、底面に設けられた排出口14を介した回収ポンプの吸引力によって、吸引管部9側から排出口14に向けた吸引を行っている。この吸引によって、パレット1底面と基板3との間の水分16(斜線部)が、パレット1の開孔13、吸引管部9を介して回収部15側に排出され、更に、排出口14を介して回収部15から外部に排出される。
パレット1の移動に伴って、開孔13は複数回吸引管部9に臨むことになり、図3(c)に示す乾燥工程において、基板13の上面及び底面の水分を除去することができる。
最後に、図3(d)に示す乾燥工程において、ヒーター10による加熱処理が行われ、基板3の水分は確実に除去される。
このように、本実施の形態においては、複数の基板をパレットに配置した状態で、洗浄及び乾燥工程を実施する。この場合において、洗浄工程では、パレットを搬送しながら、シャワーノズルをパレット移動方向に交差する方向に揺動させて洗浄液を基板に吐出しており、極めて高い洗浄効果が得られる。また、乾燥工程では、パレット底面に設けた開孔を利用して、基板裏面側の水分を吸引除去しており、確実な水切りが可能である。これにより、基板は確実に乾燥されて、水垢等が残ることが防止される。こうして、極めて高い洗浄効率を得ながら、複数の基板を同時に且つ確実に洗浄することができる。
図5は本実施の形態の変形例を示す説明図である。図5において図4と同一の構成要素には同一符号を付して説明を省略する。
図5は吸引管部9に代えて吸引管部17を採用した点が図4と異なる。図4の吸引管部9はパレット1底面の開孔13と略同じサイズの開口を有している。これに対し、図5の吸引管部17は、パレット1底面の開孔13のサイズよりも大きい開口サイズで構成される。
このような構成によれば、パレット1底面の開孔13が吸引管部17の開口部上に位置する期間だけ、パレット1上の水分の吸引が行われることになり、水切りを確実なものとすることができる。
図6は本実施の形態の他の変形例を示す説明図である。図6において図4と同一の構成要素には同一符号を付して説明を省略する。
図6は吸引管部9を省略した回収部19を採用した点が図4と異なる。図6の回収部19は、上面開口がパレット1底面のサイズよりも小さいサイズで構成されている。これにより、回収部19の上面開口が図4の吸引管部9と同様の機能を有する。
このような構成によれば、パレット1底面によって回収部19の上面開口が閉塞される期間、パレット1上の水分の吸引が行われることになる。比較的長い期間水分の吸引が行われることになり、水切りを確実なものとすることができる。また、回収部19は、上面から突出した吸引管部を設ける必要がなく、構成を簡略化することができる。
図7は本発明の第2の実施の形態に係る基板洗浄装置を示す説明図である。図7は乾燥工程における水切り機構を説明するためのものであり、洗浄工程及び乾燥工程の他の工程を実施するための他の構成は第1の実施の形態と同様である。
図4の実施の形態においては、パレットに開孔を設け、水分を吸引する回収部によって、パレット上の基板の水切りを行った。これに対し、本実施の形態においては、パレット自体に基板1からの水分の排出機構を設けた例を示している。
図7において、ローラ23は搬送ベルト22を搬送して周回させる。搬送ベルト22上にはパレット21が配置されるようになっている。パレット21は複数の基板3を配置可能に構成されている。
本実施の形態においては、パレット21は、図4のパレット1及び回収部15とを組み合わせた構成を有しており、基板3の水分を吸引して排出するようになっている。他の構成は第1の実施の形態と同様である。
このように構成された実施の形態においては、パレット21が基板3表面からの水分を吸引排出することができ、基板3から確実に水分を除去することができる。
他の作用及び効果は第1の実施の形態と同様である。
図8は本発明の第3の実施の形態に係る基板洗浄装置を示す説明図である。図8において図1と同一の構成要素には同一符号を付して説明を省略する。
本実施の形態は、シャワーノズル4に代えてシャワーノズル31を採用した点が第1の実施の形態と異なる。シャワーノズル31は、V字形状の平面形状を有している点がシャワーノズル4と異なる。
このように構成された実施の形態においては、シャワーノズル31がパレット1の移動方向の反対方向を頂点とするV字形状に構成されていることから、基板3表面に向けて吐出される洗浄液は、パレット1が移動することによって、基板3表面を中央から基板外側に向かう方向に流れやすくなる。これにより、基板3表面の異物を基板3の周辺側に除去しやすくなり、基板3表面に異物が残留することを確実に防止することができる。
なお、図8ではV字形状の例を説明したが、基板3中央近傍を頂点とする任意の形状を採用することができることは明らかである。
本発明の第1の実施の形態に係る基板洗浄装置を示す斜視図。 図1中の吹き出し口を説明するための説明図。 基板洗浄装置の全体構成を示す説明図。 本実施の形態における水切り機構を説明するための説明図。 本実施の形態の変形例を示す説明図。 本実施の形態の変形例を示す説明図。 本発明の第2の実施の形態に係る基板洗浄装置を示す説明図。 本発明の第3の実施の形態に係る基板洗浄装置を示す説明図。
符号の説明
1…パレット、2…搬送ローラ、3…基板、4…シャワーノズル、6…吹き出し口。

Claims (10)

  1. 複数の基板が載置されたパレットを搬送する搬送機構と、
    前記搬送機構によって搬送されるパレットの上方の所定位置において、前記パレットの搬送方向に交差する方向に揺動しながら、前記基板に向けて洗浄液を吐出する吹き出し部と、
    前記パレットと前記基板との間の水分を除去する水切り機構とを具備したことを特徴とする基板洗浄装置。
  2. 前記吹き出し部は、前記洗浄液を吐出する複数の開口部を具備し、前記複数の開口部の間隔以上の距離を揺動することを特徴とする請求項1に記載の基板洗浄装置。
  3. 前記水切り機構は、前記搬送機構によって搬送されるパレットの下方の所定位置において、前記パレットに形成された開孔に臨む吸引部と、
    前記吸引部を介して前記パレット上への吸引力を発生する吸引手段とを具備したことを特徴とする請求項1に記載の基板洗浄装置。
  4. 前記吸引手段は、前記基板を前記パレットに吸着させる吸着手段を兼ねていることを特徴とする請求項3に記載の基板洗浄装置。
  5. 前記パレットを更に具備し、
    前記パレットは、前記基板が載置される底面と前記基板との間に、前記吸引手段の吸引経路を構成する隙間が形成されていることを特徴とする請求項3に記載の基板洗浄装置。
  6. 前記吹き出し部は、前記パレットの移動方向の反対方向を頂点とするV字形状を有することを特徴とする請求項1に記載の基板洗浄装置。
  7. 複数の基板が載置されたパレットを搬送する搬送機構と、
    前記搬送機構によって搬送されるパレットの下方の所定位置において、前記パレットに形成された開孔に臨む吸引部と、
    前記搬送機構による搬送途中で洗浄液が吹き付けられて洗浄された前記基板に付着した水分を、前記吸引部を介して吸引する吸引手段とを具備したことを特徴とする基板洗浄装置。
  8. 複数の基板が載置されたパレットを搬送する搬送機構と、
    前記搬送機構によって搬送されるパレットの上方の所定位置において、前記パレットの移動方向の反対方向を頂点とするV字形状を有して、前記パレットの搬送方向に交差する方向に揺動しながら、前記基板に向けて洗浄液を吐出する吹き出し部とを具備したことを特徴とする基板洗浄装置。
  9. 複数の基板が載置されたパレットを搬送する搬送手順と、
    搬送されるパレットの上方の所定位置において、前記パレットの搬送方向に交差する方向に揺動しながら、前記基板に向けて洗浄液を吐出する吹き出し部によって前記基板を洗浄する洗浄手順と、
    前記パレットと前記基板との間の水分の水切りを行う水切り手順とを具備したことを特徴とする基板洗浄方法。
  10. 電気光学装置用の基板をパレット上に載置する手順と、
    前記請求項9に記載の基板洗浄方法を用いて前記パレット上の複数の基板を洗浄・水切りする手順とを具備したことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
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