KR20180042884A - LLO(Laser Lift-Off) 공정 전 OLED 캐리어 글라스 기판 후면 세정 장치 - Google Patents
LLO(Laser Lift-Off) 공정 전 OLED 캐리어 글라스 기판 후면 세정 장치 Download PDFInfo
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 85
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 30
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 80
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 30
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 7
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 3
- 238000011086 high cleaning Methods 0.000 abstract 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 5
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 5
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 5
- 229940068984 polyvinyl alcohol Drugs 0.000 description 5
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 5
- 210000004209 hair Anatomy 0.000 description 4
- 210000000707 wrist Anatomy 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 3
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001621 AMOLED Polymers 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H01L51/56—
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B1/00—Cleaning by methods involving the use of tools, brushes, or analogous members
- B08B1/001—Cleaning by methods involving the use of tools, brushes, or analogous members characterised by the type of cleaning tool
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- B08B1/12—
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
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- B08B11/00—Cleaning flexible or delicate articles by methods or apparatus specially adapted thereto
- B08B11/04—Cleaning flexible or delicate articles by methods or apparatus specially adapted thereto specially adapted for plate glass, e.g. prior to manufacture of windshields
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02041—Cleaning
- H01L21/02043—Cleaning before device manufacture, i.e. Begin-Of-Line process
- H01L21/02052—Wet cleaning only
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02041—Cleaning
- H01L21/02096—Cleaning only mechanical cleaning
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
- H01L21/67046—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly scrubbing means, e.g. brushes
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- H—ELECTRICITY
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
- H01L21/67051—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly spraying means, e.g. nozzles
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- H01L51/003—
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- H01L51/0097—
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H10K77/00—Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
- H10K77/10—Substrates, e.g. flexible substrates
- H10K77/111—Flexible substrates
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- H01L2227/326—
-
- H01L2251/5338—
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H10K2102/00—Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
- H10K2102/301—Details of OLEDs
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Abstract
본 발명은 세정력이 우수하고, 불량 발생률을 줄일 수 있는 LLO(Laser Lift-Off) 공정 전 OLED 캐리어 글라스 기판 후면 세정 장치로, OLED 기판을 세정부로 이송하는 기판 이송롤러; 세정액을 외부 표면에 뭍혀 상기 이송된 OLED 기판 후면을 세척하는 롤 브러쉬; 상기 롤 브러쉬 하부에 구비되어, 상기 롤 브러쉬에 세정액을 공급하는 세정액 공급부; 및 상기 OLED 기판 상부에 배치되어, 상기 OLED 기판 상면에 세정액 뭍지 않도록 하는 세정액 튐 방지 유닛을 포함하는 것을 특징으로 한다.
Description
본 발명은 LLO(Laser Lift-Off) 공정 전 OLED 캐리어 글라스 기판 후면 세정 장치에 대한 것으로, OLED 제조공정에 사용되는 장치이다.
LCD 산업의 성숙 단계 진입 및 주요 경쟁국의 본격 추격 화에 따라, 고해상도 패널, 고부가 가치를 창출할 수 있는 차세대 Flexible Display의 시장 진입이 시급한 상황이다. 지금까지 봉지의 재료로는 Glass를 많이 사용해왔지만 봉지 면적이 증가함에 따라 산소 및 수분에 대한 노출민감도가 높아졌다. 그리하여 유리 기판 및 흡습제 방식은 대형 OLED TV에는 적합하지 않을 것이라 판단되며, 대형 봉지기술의 대안은 다층의 유기-무기 복합 막으로 소자를 외부로부터 보호하는 Film봉지 방식이 필수적이 될 것이다.
Flexible OLED는 향후 Flexible 디스플레이의 대부분을 차지할 기술로 Flexible OLED의 기판은 현재 PI 계열로 거의 확정됐다. 기존의 AMOLED 공정을 그대로 활용하며 PI(Polyimide)를 Carrier Glass에 부착하고, 그 상부에 Passivation 막을 형성한다. 이어 TFT와 OLED 공정을 모두 진행하고 난 후 하부의 Glass를 레이저, 열, 화학적 박리 등의 방법으로 떼어내는 기술을 사용하고 있다.
OLED공정을 진행 중 필연적으로 유기혼합물들이 캐리어 글라스 기판 후면(Back)에 흡착이 된다. 그런데 OLED 공정 중 흡착된 유기혼합물들로 인하여, Polarizer 부착 장비의 오염이 발생됨으로 인한 연속 생산에 차질이 빚어진다. Polarizer 부착 전 글라스 기판 후면 세정기는 Flexible OLED의 생산성 향상을 위한 핵심 장비로 불량률 감소 및 생산 효율 증가를 위해 절대적으로 필요한 제조 장치이다. 그러나 종래의 OLED 세정기는 글라스 기판 후면의 이물질을 완전히 제거하지 못하여 LLO(Laser Lift-Off) 공정시 불량을 초래하게 하였으며, 또한 세정시 발생하는 수분이 글라스 기판 상면에 작용하여 유기재료의 수명저하를 초래하게 하였다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, OLED 캐리어 글라스 기판을 손상시키지 않으면서, 세정액에 의한 기판 상면 패턴을 손상시키지 않는 LLO(Laser Lift-Off) 공정 전 OLED 캐리어 글라스 기판 후면 세정 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
다만, 본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기 목적 달성을 위한 본 발명의 LLO(Laser Lift-Off) 공정 전 OLED 캐리어 글라스 기판 후면 세정 장치, OLED 기판을 세정부로 이송하는 기판 이송롤러; 세정액을 외부 표면에 뭍혀 상기 이송된 OLED 기판 후면을 세척하는 롤 브러쉬; 상기 롤 브러쉬 하부에 구비되어, 상기 롤 브러쉬에 세정액을 공급하는 세정액 공급부; 및 상기 OLED 기판 상부에 배치되어, 상기 OLED 기판 상면에 세정액 뭍지 않도록 하는 세정액 튐 방지 유닛을 포함한다.
일 실시형태로, 상기 튐 방지 유닛은 에어 토출 기능을 더 구비할 수 있다.
다른 일 실시형태로, 상기 튐 방지 유닛은 상기 OLED 기판에 40 내지 60도 기울어져 구비될 수 있다.
또 다른 일 실시형태로, 상기 롤 브러쉬의 외부 표면에는 복수의 원통형 모가 형성될 수 있다.
또 다른 일 실시형태로, 상기 원통형 모는 PVA 소재로 형성될 수 있다.
또 다른 일 실시형태로, 상기 원통형 모는 롤 브러쉬의 길이방향으로 형성되며, 원통형 모의 직경은 3 내지 5 Cm이고, 원통형 모 간의 길이방향 이격간격은 5 내지 7Cm 일 수 있다.
또 다른 일 실시형태로, 상기 원통형 모는 원둘레 방향으로 교차하여 형성되며,하나의 모와 교차하여 형성되는 모와의 최단 이격간격은 상기 모간의 길이방향 이격간격과 동일할 수 있다.
또 다른 일 실시형태로, 상기 롤 브러쉬는 2개의 약액용 롤 브러쉬와 2개의 DIW 세정용 롤 브러쉬가 배치되고, 상기 2개의 약액용 롤 브러쉬는 OLED 기판 유입방향 전단에 평행하게 배치되며, 상기 2개의 DIW 세정용 롤 브러쉬가 상기 약액용 롤 브러쉬 후단에 평행하게 배치될 수 있다.
상기와 같이 종래 기술의 문제점을 해결하기 위해 도출된 본 발명은 OLED 캐리어 글라스 기판을 손상시키지 않으면서 우수한 세정이 가능하므로, LLO(Laser Lift-Off) 공정의 효율성을 향상시킬 수 있다.
또한, PVA 브러쉬 타입으로 세정을 함으로써, 약액이나 DIW(delonized water)의 사용량을 절감할 수 있으며, OLED 기판 상면 패턴에 세정액이 튀지 않아 OLED 캐리어 글라스 기판 상면의 유기재료의 손상을 방지할 수 있다.
도 1은 본 발명의 필요성을 설명하기 위한 LLO(Laser Lift-Off) 공정을 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시형태인 OLED 캐리어 글라스 기판 후면 세정 장치를 나타낸 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시형태인 롤 브러쉬의 원통형 모를 나타낸 사진이다.
도 2는 본 발명의 일 실시형태인 OLED 캐리어 글라스 기판 후면 세정 장치를 나타낸 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시형태인 롤 브러쉬의 원통형 모를 나타낸 사진이다.
본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "특징으로 한다", "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세하게 설명하면 다음과 같다. 다만, 본 발명을 설명함에 있어서, 이미 공지된 기능 혹은 구성에 대한 설명은, 본 발명의 요지를 명료하게 하기 위하여 생략하기로 한다.
도 1은 유기소재가 증착된 OLED 기판의 LLO(Laser Lift-Off) 공정을 나타내는 도면으로, 플렉서블(flexible) 기판을 구현하기 위해 PI 소재의 베이스를 캐리어 글라스 기판과 함께 작업을 진행하다가, LLO(Laser Lift-Off) 공정을 거쳐 캐리어 글라스 기판을 PI 베이스로부터 탈착하게 되는데, 본 발명은 이러한 LLO(Laser Lift-Off) 공정 전단계, 즉 레이저를 조사하기 전단계에서 캐리어 글라스 기판의 후면을 세정하는 장치에 대한 것이다. 이와 같이, 캐리어 글라스 기판 후면의 세정이 제대로 이루어 지지 않을 경우에는 이물질에 의해 LLO(Laser Lift-Off) 공정시 레이저의 굴절이나 난반사가 이루어져 균일한 탈착이 이루어지지 않게되어 PI 베이스의 불량 원인으로 작용하게 된다.
도 2는 본 발명의 OLED 캐리어 글라스 기판 후면 세정 장치의 일 실시형태를 나타내는 도면으로, 본 발명의 OLED 캐리어 글라스 기판 후면 세정 장치는, 도 2에 도시된 바와 같이, OLED 기판(G)을 세정부로 이송하는 기판 이송롤러(100); 세정액(310)을 외부 표면에 뭍혀 상기 이송된 OLED 기판(G)을 세척하는 롤 브러쉬(200); 상기 롤 브러쉬(200) 하부에 구비되어, 상기 롤 브러쉬(200)에 세정액(310)을 공급하는 세정액 공급부(300); 및 상기 OLED 기판(G) 상부에 배치되어, 상기 OLED 기판 상면에 세정액 뭍지 않도록 하는 세정액 튐 방지 유닛(400)을 포함한다.
본 발명의 OLED 기판(G)은 캐리어 글라스 기판 상에 고분자 베이스에 유기물이 증착된 형태의 기판을 말하는 것으로, 고분자 베이스는 PI 베이스가 바람직하며, OLED 구현 형태에 따라, 다양한 유기물이 증착될 수 있다. 즉, 본 발명의 OLED 기판(G)은 OLED 용으로 사용되는 부품으로, 캐리어 글라스 기판을 포함하는 형태이면 어떠한 형태의 OLED 기판(G)도 적용될 수 있다.
본 발명의 기판 이송롤러(100)는 상기 OLED 기판(G)을 세정부로 이송하는 장치로, 이송롤러(100)에 대응하여 반대편에는 배출롤러(110)가 배치될 수 있다. 이송롤러(100)와 배출롤러(110)는 OLED 기판(G)을 이송하는 역할 및 OLED 기판(G)을 지지하는 역할도 한다. 또한, 세정부의 기능에 따라, 이송 속도를 조절하여 적절한 세정이 이루어지도록 할 수도 있다. 본 발명서 세정부는 캐리어 기판의 세정이 이루어지는 장소적인 개념을 말한다.
상기 이송롤러(100)에 의해 유입된 OLED 기판(G)은, OLED 기판(G) 하부에 배치되는 롤 브러쉬(200)에 의해 OLED 기판(G) 하부면, 즉 캐리어 글라스 기판 후면의 세척이 이루어진다. 도 2에 도시된 바와 같이, 롤 브러쉬(200)는, 롤 브러쉬 하부에 구비된 세정액 공급부(300)에서 담겨져 있는 세정액(310)을 롤 브러쉬(200) 외부 표면에 뭍혀 기판 후면을 세척하게 된다.
본 발명의 세정액(310)은 다양한 종류의 화학 세정액(약액)이나 DIW(delonized water)가 사용될 수 있다. 이러한 세정액(310)은 세정액 공급부(300)에 담겨있게 되는데, 세정액 공급부(300)는 도 2에 도시된 바와 같이 사각형 형태의 공급부일 수 있으나, 이에 한정하는 것은 아니며, 롤 브러쉬(200)의 외부 표면에 적절히 세정액을 공급할 수 있으면 형태이면 어떠한 형상도 가능하다. 화학적인 세정액은 일정한 점도를 가지고 있어야, 롤 브러쉬(200)에 소정의 시간동안 뭍어서 기판 후면을 세정하는데 바람직하다. 또한, 일정한 점도를 가지고 있어야, 세척을 위한 롤 브러쉬(200)를 적게 회전시킬 수 있고, 이러한 적은 회전은 세정액의 튀김을 방지하는데 도움이 된다.
본 발명의 롤 브러쉬(200)는 도 3에 도시된 바와 같이, 롤 브러쉬(200)의 외부 표면에는 복수의 원통형 모(210)가 형성되어 있는 형태가 바람직하다. 롤 브러쉬(200)의 모는 다양한 형태가 가능하나, 본 발명과 같이 원통형 모(210)를 PVA(poly vinyl alcohol) 소재로 사용할 경우, 원통형 모(210)가 균일한 세척을 달성하는데 바람직하다. 또한, PVA 소재를 사용함으로써 세정액 튐 방지 기능도 함께 달성할 수 있다.
롤 브러쉬(200)의 원통형 모(210)는 도 3에 도시된 바와 같이, 롤 브러쉬(200) 길이방향으로 형성되며, 롤 브러쉬(200)의 원 들레 방향으로 교차하여 형성될 수 있다. 이와 같이, 길이 방향으로 교차하여 형성됨으로써, 균일한 원통형 모(210)의 형성이 가능하고, 균일한 원통형 모(210)에 의한 균일한 세척을 가능하게 한다.
원통형 모(210)의 직경은 3 내지 5 Cm가 바람직하며, 3Cm 이하일 경우에는 롤 브러쉬(200)의 높은 회전력을 요하게 되어 세정액(310)의 튐 현상이 발생할 수 있으며, 5Cm 이상일 경우에는 세척력을 약화 시킬 수 있다. 또한, 원통형 모(210)간의 길이방향 이격간격(H)은 5 내지 7Cm인 것이 바람직하다. 5Cm 이하일 경우에는 세정액이 모 사이에 갇힘 현상이 발생하여 새로운 세정액의 공급을 어렵게 할 수 있으며, 7Cm 이상일 경우에는 세척력을 약화 시킬 수 있다.
또한, 길이방향 원통형 모(210)와 다음으로 형성되는 원둘레 방향에 교차하여 형성되는 원통형 모(210)간의 최단 이격간격(S)은 상기 모간의 길이방향 이격간격(H)과 동일한 것이 바람직하다. 즉, 최단 이격간격(S)은 길이방향 이격간격(H)과 마찬가지로 5 내지 7Cm의 이격간격을 가지는 것이 바람직하다. 이렇게 길이방향 이격간격(H)과 교차 형성되는 모간의 최단 이격간격(S)이 동일하게 형성됨으로써, 정삼각형태의 모 형태가 이루어지게 되어, 전체적으로 균일한 원통형 모가 형성되게 된다. 상기 언급한 바와 같이, 이렇게 균일하게 형성되는 모에 의해 균일한 세척력을 달성할 수 있게 된다.
도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 OLED 기판(G) 상부에는 세척 공정 중 발생하는 세정액이 뭍지 않도록 하는 세정액 튐 방지 유닛(400)이 배치될 수 있다. 튐 방지 유닛(400)은 상기 OLED 기판(G)에 40 내지 60도 기울어져 구비될 수 있으며, 튐 방지 유닛(400) 말단에 에어 토출 기능을 더 구비할 수 있다. 이와 같이, 튐 방지 유닛(400)은 에어를 토출하여 기판 상부에 뭍을 수 있는 이물질를 공기압으로 차단할 수 있을 뿐만 아니라, 기울어진 각도에 의해서도 차단막 역할을 할 수 있다. 기울기가 40도 미만일 경우에는 공기압 전달의 효율성이 떨어질 수 있으며, 기울기가 60도 이상일 경우에는 차단막의 효율성이 떨어질 수 있다.
본 발명의 롤 브러쉬(200)는 복수개가 구비될 수 있다. 바람직하게는 4개의 롤 브러쉬(200)를 배치하여, 2개는 약액용 롤 브러쉬로, 2개는 DIW 세정용 롤 브러쉬로 배치할 수 있다. 이때, 2개의 약액용 롤 브러쉬는 OLED 기판(G) 유입방향 전단에 평행하게 배치될 수 있으며, 2개의 DIW 세정용 롤 브러쉬는 약액용 롤 브러쉬 후단에 평행하게 배치될 수 있다. 이와 같이, 2개씩 병렬 형태로 배치함으로써, 약액을 기판에 뭍히는 기능과 액약을 씻어 내는 기능을 분리하여, 세정력을 더욱 향상시킬 수 있다. 다만, 본 발명은 이에 한정하는 형태는 아님을 주의하여야 한다.
상기와 같이, 본 발명의 세정장치는 종래의 스프레이식 기판 세정장치에 비해 월등히 우수한 세정효과를 가질 수 있는 형태로, 특히, LLO(Laser Lift-Off) 공정 전단계에서 이루어짐으로써, OLED용 기판의 캐리어 기판 후면의 세정력을 높일 수 있을 뿐만 아니라, 세정액의 튐 현상을 방지함으로써, 수분에 약한 OLED용 유기소재의 오랜 수명을 유지할 수 있게 한다. 이와 같이, 본 발명의 세정장치는 LLO(Laser Lift-Off) 공정 전단계의 캐리어 기판 후면 세정장치로 유용하게 산업분야에서 적용될 수 있을 뿐만 아니라, 적용시 생산성 및 경제성을 기대할 수 있는 세정장치이다.
앞에서, 본 발명의 특정한 실시예가 설명되고 도시되었지만 본 발명은 기재된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 일이다.
100 : 이송롤러
200 : 롤 브러쉬
210 : 원통형 모
300 : 세정액 공급부
400 : 세정액 튐 방지 유닛
200 : 롤 브러쉬
210 : 원통형 모
300 : 세정액 공급부
400 : 세정액 튐 방지 유닛
Claims (8)
- OLED 기판을 세정부로 이송하는 기판 이송롤러;
세정액을 외부 표면에 뭍혀 상기 이송된 OLED 기판 후면을 세척하는 롤 브러쉬;
상기 롤 브러쉬 하부에 구비되어, 상기 롤 브러쉬에 세정액을 공급하는 세정액 공급부; 및
상기 OLED 기판 상부에 배치되어, 상기 OLED 기판 상면에 세정액 뭍지 않도록 하는 세정액 튐 방지 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 LLO(Laser Lift-Off) 공정 전 OLED 캐리어 글라스 기판 후면 세정 장치
- 청구항 1에 있어서,
상기 튐 방지 유닛은 에어 토출 기능을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 LLO(Laser Lift-Off) 공정 전 OLED 캐리어 글라스 기판 후면 세정 장치
- 청구항 2에 있어서,
상기 튐 방지 유닛은 상기 OLED 기판에 40 내지 60도 기울어져 구비되는 것을 특징으로 하는 LLO(Laser Lift-Off) 공정 전 OLED 캐리어 글라스 기판 후면 세정 장치
- 청구항 1에 있어서,
상기 롤 브러쉬의 외부 표면에는 복수의 원통형 모가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 LLO(Laser Lift-Off) 공정 전 OLED 캐리어 글라스 기판 후면 세정 장치
- 청구항 3에 있어서
상기 원통형 모는 PVA 소재인 것을 특징으로 하는 LLO(Laser Lift-Off) 공정 전 OLED 캐리어 글라스 기판 후면 세정 장치
- 청구항 4에 있어서,
상기 원통형 모는 롤 브러쉬의 길이방향으로 형성되며,
원통형 모의 직경은 3 내지 5 Cm이고,
원통형 모 간의 길이방향 이격간격은 5 내지 7Cm인 것을 특징으로 하는 LLO(Laser Lift-Off) 공정 전 OLED 캐리어 글라스 기판 후면 세정 장치
- 청구항 4에 있어서,
상기 원통형 모는 원둘레 방향으로 교차하여 형성되며,
하나의 모와 교차하여 형성되는 모와의 최단 이격간격은 상기 모간의 길이방향 이격간격과 동일한 것을 특징으로 하는 LLO(Laser Lift-Off) 공정 전 OLED 캐리어 글라스 기판 후면 세정 장치
- 청구항 1에 있어서,
상기 롤 브러쉬는 2개의 약액용 롤 브러쉬와 2개의 DIW 세정용 롤 브러쉬가 배치되고,
상기 2개의 약액용 롤 브러쉬는 OLED 기판 유입방향 전단에 평행하게 배치되며,
상기 2개의 DIW 세정용 롤 브러쉬가 상기 약액용 롤 브러쉬 후단에 평행하게 배치되는 것을 특징으로 하는 LLO(Laser Lift-Off) 공정 전 OLED 캐리어 글라스 기판 후면 세정 장치
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020160135107A KR20180042884A (ko) | 2016-10-18 | 2016-10-18 | LLO(Laser Lift-Off) 공정 전 OLED 캐리어 글라스 기판 후면 세정 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1020160135107A KR20180042884A (ko) | 2016-10-18 | 2016-10-18 | LLO(Laser Lift-Off) 공정 전 OLED 캐리어 글라스 기판 후면 세정 장치 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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KR20180042884A true KR20180042884A (ko) | 2018-04-27 |
Family
ID=62081693
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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KR1020160135107A KR20180042884A (ko) | 2016-10-18 | 2016-10-18 | LLO(Laser Lift-Off) 공정 전 OLED 캐리어 글라스 기판 후면 세정 장치 |
Country Status (1)
Country | Link |
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KR (1) | KR20180042884A (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11569320B2 (en) | 2020-04-29 | 2023-01-31 | Samsung Display Co., Ltd. | Display panel including dam and recess, and display apparatus including the same |
-
2016
- 2016-10-18 KR KR1020160135107A patent/KR20180042884A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11569320B2 (en) | 2020-04-29 | 2023-01-31 | Samsung Display Co., Ltd. | Display panel including dam and recess, and display apparatus including the same |
US11943975B2 (en) | 2020-04-29 | 2024-03-26 | Samsung Display Co., Ltd. | Method of manufacturing a display panel using a sacrificial layer |
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