CN106623189A - 基板清洗设备 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种基板清洗设备，包括机架、位于所述机架上方的护罩、传送机构、及喷淋机构，所述传送机构包括并列设置的数个导辊，且所述数个导辊中至少有一个为海绵刷导辊，且每一海绵刷导辊的上方相对设有一个第一压制辊，相比于对现有技术，通过在传送机构中增设海绵刷导辊，能够有效提高清洗效果，从而当该基板清洗设备用于基板显影后的终极清洗工序时，能够有效避免光刻胶残留及滚痕的形成，提高产品的清洗良率。

Description

基板清洗设备
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种基板清洗设备。
背景技术
在显示技术领域，液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)与有机发光二极管显示器(Organic Light Emitting Diode，OLED)等平板显示器已经逐步取代阴极射线管(Cathode Ray Tube，CRT)显示器，广泛的应用于液晶电视、手机、个人数字助理、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等。
显示面板是LCD、OLED的重要组成部分。不论是LCD的显示面板，还是OLED的显示面板，通常都具有一薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)阵列基板。以LCD的显示面板为例，其主要是由一TFT阵列基板、一彩色滤光片(Color Filter，CF)基板、以及配置于两基板间的液晶层(Liquid Crystal Layer)所构成，其工作原理是通过在TFT阵列基板与CF基板上施加驱动电压来控制液晶层中液晶分子的旋转，将背光模组的光线折射出来产生画面。
在TFT阵列基板的制作过程中，基板都需要经过涂布光刻胶、曝光、显影这样一个光刻工序。显影的目的是去除在曝光过程中发生了光学反应的光刻胶，从而在基板上形成与曝光掩模板对应的光刻胶图形，显影后基板上覆盖有光刻胶的位置，在下一个工序刻蚀的过程中由于光刻胶的保护，相应位置的金属或非金属膜不会受到损害，从而最后达到在基板上形成TFT电路的目的。显影后还需要对玻璃基板上被显影的光刻胶和残留的显影液进行清洗，如果清洗不彻底，基板上会残留药液以及光刻胶颗粒，最终会引起基板不良。
目前的基板显影后的清洗过程参照图1所示，图中A为基板显影区，H表示显影后基板走向，基板显影区紧挨着显影后基板清洗区，显影后基板清洗区通常包括三级清洗单元，对显影后的基板进行三个阶段的清洗，三级清洗单元具体设置为依次邻接的初级清洗区B、中级清洗区C和终极清洗(Final-Rinse，FR)区D，初级清洗区B上设置有初级清洗设备100，由初级清洗设备100对显影后基板进行一级清洗；中级清洗区C上设置有中级清洗设备200，由中级清洗设备200对一级清洗后基板进行中级清洗；终极清洗区D上设置有终极清洗设备300，由终极清洗设备300供纯水以对中级清洗后基板进行终极清洗。
显影后基板清洗的目的是除去其上的光刻胶和显影液，初级清洗去除了基板上大部分的光刻胶和显影液，中级清洗去除了剩余的一部分，最后通过终极清洗将光刻胶和显影液完全清除，终极清洗为了保证基板的清洁度，必须使用纯水，初级清洗和中级清洗对清洗用水的要求不局限于纯水，所以为了节约用水，通常会在中级清洗区C和终极清洗区D之间设置一集水池，与终极清洗设备相连通，收集终极清洗区D排出的含有极少光刻胶和显影液的废水，该废水作为循环水，通过水泵(pump)将该循环水供给与第一集水池相连通的初级清洗设备100和/或中级清洗设备200以对基板进行清洗。
如图2所示，现有的终极清洗设备包括机架310、固定于机架上310的护罩320、位于护罩320内的数道并列设置的传送辊330、及设于护罩320内并分布于所述数道传送辊(Roller)330上下两侧的数道喷水管340；如图3所示，在清洗过程中，基板400放置于传送辊330上，使得基板400的背面与传送辊330接触，利用基板400本身的重力使基板400与传送辊330产生摩擦力，并在传送辊330转动时推动基板400往固定方向行进，同时，喷水管340上设于数个喷嘴341，这些喷嘴341向基板400的表面喷射纯水，用以清洗玻璃基板400。然而在基板显影后的实际清洗过程中，经历过终极清洗后的基板400，其上仍会存在光刻胶残留，在基板400表面形成滚痕(Roller Mark)，造成清洗不良的情况产生。
发明内容
本发明的目的在于提供一种基板清洗设备，能够提高清洗效果，避免清洗后的基板上留有脏污及滚痕。
为实现上述目的，本发明提供一种基板清洗设备，包括机架、位于所述机架上方的护罩、传送机构、及喷淋机构；所述护罩用于提供基板清洗空间，所述传送机构用于承载并运送基板，所述喷淋机构用于向基板喷淋清洗液；
所述传送机构包括并列设置的数个导辊，且所述数个导辊中至少有一个为海绵刷导辊，其他的为传送导辊；
每一海绵刷导辊的上方相对设有一个第一压制辊。
所述数个导辊中，所有海绵刷导辊之间的传送导辊、及两侧的部分传送导辊构成一海绵刷传送区，所述海绵刷传送区内每一传送导辊的上方相对设有一个第二压制辊。
每一海绵刷导辊的两端分别设有操作模块、及驱动模块；所述驱动模块包括第一马达，每一海绵刷导辊及每一第一压制辊在相应的第一马达驱动下进行转动。
每一海绵刷导辊下方对应设有两个平衡杆，所述平衡杆的两端分别固定连接于相应的操作模块、及驱动模块上。
所述护罩包括顶板和从所述顶板向下延伸的左侧壁、右侧壁、前侧壁、及后侧壁；
所述护罩的前侧壁与后侧壁上设有数个过孔，每一海绵刷导辊的两端分别穿过所述前侧壁与后侧壁上的过孔并通过轴承与所述操作模块、及驱动模块进行连接，每一第一压制辊的两端分别穿过所述前侧壁与后侧壁上的过孔并通过轴承与所述操作模块、及驱动模块进行连接；
所述护罩的左侧壁、右侧壁上均设有基板传送孔；
所述机架在对应所述护罩的前后两侧分别具有一模块固定座，所述操作模块与驱动模块分别在所述护罩的前后两侧固定于所述模块固定座上。
所述传送机构还包括两个相对设置的轴承座、第二马达、及传动组件，所述传动组件在所述第二马达驱动下带动每个传送导辊、及每个第二压制辊进行转动；
每一轴承座上对应每个海绵刷导辊设有一个第一凹陷部，对应每个传送导辊设有一个第二凹陷部；每一传送导辊的两端分别枢接于所述两个轴承座，每一第二压制辊的两端分别枢接于所述两个轴承座；所述传动组件为齿轮齿条传动组件。
所述喷淋机构包括分布于所述数个导辊上下两侧的数条喷淋管，每一喷淋管上设有数个喷嘴；每一喷淋管对应设于两相邻导辊之间间隙的上方、或下方。
所述海绵刷导辊包括第一旋转杆、及贴附于所述第一旋转杆上的海绵层，所述海绵层的材料为研磨型海绵；所述第一压制辊与第二压制辊均包括第二旋转杆、及贴附于所述第二旋转杆上的塑料层，所述塑料层的材料为聚乙烯醇。
所述的基板清洗设备在使用过程中，所述海绵刷导辊、传送导辊、第一压制辊、及第二压制辊与基板接触点的切线速度均相同；
所述海绵刷导辊的转速为50rpm-500rpm；
所述海绵刷导辊与第一压制辊之间的间隙距离允许基板通过，所述传送导辊、与第二压制辊之间的间隙距离允许基板通过。
所述的基板清洗设备用于基板显影后的终极清洗工序。
本发明的有益效果：本发明提供的一种基板清洗设备，包括机架、位于所述机架上方的护罩、传送机构、及喷淋机构，所述传送机构包括并列设置的数个导辊，且所述数个导辊中至少有一个为海绵刷导辊，且每一海绵刷导辊的上方相对设有一个第一压制辊，相比于对现有技术，通过在传送机构中增设海绵刷导辊，能够有效提高清洗效果，从而当该基板清洗设备用于基板显影后的终极清洗工序时，能够有效避免光刻胶残留及滚痕的形成，提高产品的清洗良率。
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
附图说明
下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式详细描述，将使本发明的技术方案及其它有益效果显而易见。
附图中，
图1为现有基板显影后的清洗方法的示意图；
图2为图1中的终极清洗设备的立体示意图；
图3为图2的终极清洗设备对基板进行清洗的示意图；
图4为本发明的基板清洗设备的立体示意图；
图5为本发明的基板清洗设备对基板进行清洗的示意图；
图6为本发明中的基板清洗设备中海绵刷导辊与操作模块、驱动模块进行的连接示意图；
图7为本发明中的基板清洗设备中护罩的立体示意图；
图8为本发明中的基板清洗设备中轴承座的立体示意图；
图9为本发明中的基板清洗设备中传动组件将第二马达与传送导辊及第二压制辊进行连接的示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图4-图5，本发明提供一种基板清洗设备，包括机架30、位于所述机架30上方的护罩40、传送机构10、及喷淋机构20；所述护罩40用于提供基板清洗空间，所述传送机构10用于承载并运送基板50，所述喷淋机构20用于向基板50喷淋清洗液；
所述传送机构10包括并列设置的数个导辊105，且所述数个导辊105中至少有一个为海绵刷导辊101，其他的为传送导辊102；每一海绵刷导辊101的上方相对设有一个第一压制辊103；优选地，在本实施例中，所述数个导辊105中有两个为海绵刷导辊101。
具体地，所述数个导辊105中，所有海绵刷导辊101之间的传送导辊102、及两侧的部分传送导辊102构成一海绵刷传送区，所述海绵刷传送区内每一传送导辊102的上方相对设有一个第二压制辊104。
具体地，每一海绵刷导辊101的两端分别设有操作模块111、及驱动模块112；所述驱动模块112包括第一马达，每一海绵刷导辊101及每一第一压制辊103在相应的第一马达驱动下进行转动。
具体地，如图6所示，每一海绵刷导辊101下方对应设有两个平衡杆113，所述平衡杆113的两端分别固定连接于相应的操作模块111、及驱动模块112上。从而通过在操作模块111、及驱动模块112之间设置两个固定的平衡杆113，减轻所述海绵刷导辊101在转动过程中，对两侧的操作模块111、及驱动模块112所引起的震动。
具体地，所述护罩40包括顶板41和从所述顶板41向下延伸的左侧壁42、右侧壁43、前侧壁44、及后侧壁45；
所述护罩40的前侧壁44与后侧壁45上设有数个过孔401，每一海绵刷导辊101的两端分别穿过所述前侧壁44与后侧壁45上的过孔401并通过轴承与所述操作模块111、及驱动模块112进行连接，每一第一压制辊103的两端分别穿过所述前侧壁44与后侧壁45上的过孔401并通过轴承与所述操作模块111、及驱动模块112进行连接；
如图7所示，所述护罩40的左侧壁42、右侧壁43上均设有基板传送孔402；
所述机架30在对应所述护罩40的前后两侧分别具有一模块固定座，所述操作模块111与驱动模块112分别在所述护罩40的前后两侧固定于所述模块固定座上。
如图9所示，具体地，所述传送机构10还包括两个相对设置的轴承座121、第二马达122、及传动组件123，所述传动组件123在所述第二马达122驱动下带动每个传送导辊102、及每个第二压制辊104进行转动；
如图8所示，每一轴承座121上对应每个海绵刷导辊101设有一个第一凹陷部124，对应每个传送导辊102设有一个第二凹陷部125；每一传送导辊102的两端分别枢接于所述两个轴承座121，每一第二压制辊104的两端分别枢接于所述两个轴承座121；
所述传动组件123为齿轮齿条传动组件123。
具体地，所述喷淋机构20包括分布于所述数个导辊105上下两侧的数条喷淋管21，每一喷淋管21上设有数个喷嘴；每一喷淋管21对应设于两相邻导辊105之间间隙的上方、或下方，从而避免喷淋管直接将清洗液喷在第一压制辊103、及第二压制辊104上，而减轻喷淋管对基板50的喷洗效果。
具体地，所述海绵刷导辊101包括第一旋转杆141、及贴附于所述第一旋转杆141上的海绵层142，所述海绵层142的材料为研磨型海绵；所述第一压制辊103与第二压制辊104均包括第二旋转杆143、及贴附于所述第二旋转杆143上的塑料层144，所述塑料层144的材料为聚乙烯醇(PVA)。
具体地，本发明的基板清洗设备在使用过程中，所述海绵刷导辊101、传送导辊102、第一压制辊103、及第二压制辊104与基板50接触点的切线速度均相同；所述海绵刷导辊101的转速为50rpm-500rpm；所述海绵刷导辊101与第一压制辊103之间的间隙距离约为基板50的厚度，从而允许基板50通过，所述传送导辊102、与第二压制辊104之间的间隙距离约为基板50的厚度，从而允许基板50通过。
具体地，本发明的基板清洗设备用于基板显影后的终极清洗工序。
综上所述，本发明提供的一种基板清洗设备，包括机架、位于所述机架上方的护罩、传送机构、及喷淋机构，所述传送机构包括并列设置的数个导辊，且所述数个导辊中至少有一个为海绵刷导辊，且每一海绵刷导辊的上方相对设有一个第一压制辊，相比于对现有技术，通过在传送机构中增设海绵刷导辊，能够有效提高清洗效果，从而当该基板清洗设备用于基板显影后的终极清洗工序时，能够有效避免光刻胶残留及滚痕的形成，提高产品的清洗良率。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。

Claims (10)

1.一种基板清洗设备，其特征在于，包括机架(30)、位于所述机架(30)上方的护罩(40)、传送机构(10)、及喷淋机构(20)；所述护罩(40)用于提供基板清洗空间，所述传送机构(10)用于承载并运送基板(50)，所述喷淋机构(20)用于向基板(50)喷淋清洗液；
所述传送机构(10)包括并列设置的数个导辊(105)，且所述数个导辊(105)中至少有一个为海绵刷导辊(101)，其他的为传送导辊(102)；
每一海绵刷导辊(101)的上方相对设有一个第一压制辊(103)。
2.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，所述数个导辊(105)中，所有海绵刷导辊(101)之间的传送导辊(102)、及两侧的部分传送导辊(102)构成一海绵刷传送区，所述海绵刷传送区内每一传送导辊(102)的上方相对设有一个第二压制辊(104)。
3.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，每一海绵刷导辊(101)的两端分别设有操作模块(111)、及驱动模块(112)；所述驱动模块(112)包括第一马达，每一海绵刷导辊(101)及每一第一压制辊(103)在相应的第一马达驱动下进行转动。
4.如权利要求3所述的基板清洗设备，其特征在于，每一海绵刷导辊(101)下方对应设有两个平衡杆(113)，所述平衡杆(113)的两端分别固定连接于相应的操作模块(111)、及驱动模块(112)上。
5.如权利要求4所述的基板清洗设备，其特征在于，所述护罩(40)包括顶板(41)和从所述顶板向下延伸的左侧壁(42)、右侧壁(43)、前侧壁(44)、及后侧壁(45)；
所述护罩(40)的前侧壁(44)与后侧壁(45)上设有数个过孔(401)，每一海绵刷导辊(101)的两端分别穿过所述前侧壁(44)与后侧壁上(45)的过孔(401)并通过轴承与所述操作模块(111)、及驱动模块(112)进行连接，每一第一压制辊(103)的两端分别穿过所述前侧壁(44)与后侧壁(45)上的过孔(401)并通过轴承与所述操作模块(111)、及驱动模块(112)进行连接；
所述护罩(40)的左侧壁(42)、右侧壁(43)上均设有基板传送孔(402)；
所述机架(30)在对应所述护罩(40)的前后两侧分别具有一模块固定座，所述操作模块(111)与驱动模块(112)分别在所述护罩(40)的前后两侧固定于所述模块固定座上。
6.如权利要求2所述的基板清洗设备，其特征在于，所述传送机构(10)还包括两个相对设置的轴承座(121)、第二马达(122)、及传动组件(123)，所述传动组件(123)在所述第二马达(122)驱动下带动每个传送导辊(102)、及每个第二压制辊(104)进行转动；
每一轴承座(121)上对应每个海绵刷导辊(101)设有一个第一凹陷部(124)，对应每个传送导辊(102)设有一个第二凹陷部(125)；每一传送导辊(102)的两端分别枢接于所述两个轴承座(121)，每一第二压制辊(104)的两端分别枢接于所述两个轴承座(121)；
所述传动组件(123)为齿轮齿条传动组件。
7.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，所述喷淋机构(20)包括分布于所述数个导辊(105)上下两侧的数条喷淋管(21)，每一喷淋管(21)上设有数个喷嘴；每一喷淋管(21)对应设于两相邻导辊(105)之间间隙的上方、或下方。
8.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，所述海绵刷导辊(101)包括第一旋转杆(141)、及贴附于所述第一旋转杆(141)上的海绵层(142)，所述海绵层(142)的材料为研磨型海绵；所述第一压制辊(103)与第二压制辊(104)均包括第二旋转杆(143)、及贴附于所述第二旋转杆(143)上的塑料层(144)，所述塑料层(144)的材料为聚乙烯醇。
9.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，在使用过程中，所述海绵刷导辊(101)、传送导辊(102)、第一压制辊(103)、及第二压制辊(104)与基板(50)接触点的切线速度均相同；
所述海绵刷导辊(101)的转速为50rpm-500rpm；
所述海绵刷导辊(101)与第一压制辊(103)之间的间隙距离允许基板(50)通过，所述传送导辊(102)、与第二压制辊(104)之间的间隙距离允许基板(50)通过。
10.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，用于基板显影后的终极清洗工序。
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