JP2006010947A - 基板製造方法、基板洗浄方法及び基板洗浄装置、並びに電気光学基板、電気光学装置、及びこれを備えた電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】 タイリングされた基板の境界のうち、基板を洗浄する際の基板の搬送方向に沿った境界を重点的に洗浄する。
【解決手段】 有機ＥＬ素子が形成されるパネルユニットがタイリングされてなる有機ＥＬディスプレイ用基板において、各パネルユニットの境界のうち、有機ＥＬディスプレイ用基板を洗浄する際の基板の搬送方向に沿った境界にノズルを移動させて洗浄液を吐出する。これにより、境界からはみ出した接着剤を重点的に除去することが可能になる。
【選択図】 図２

Description

本発明は、例えば、複数の有機ＥＬパネルをタイリングすることによって形成される大型サイズの有機ＥＬディスプレイ基板を製造するための基板製造方法、基板洗浄方法及び基板洗浄装置、並びに電気光学基盤、電気光学装置、及びこれを備えた電子機器の技術分野に関する。

各種基板の洗浄工程においては、基板の表面の面内方向に沿った方向であり、且つ基板を搬送する搬送方向に直交する方向である基板の幅方向に沿って配置されたノズルによって基板を洗浄する場合が多い。この場合、基板は、固定されたノズルの下側を搬送され、その表面が順次洗浄される。このような基板洗浄方法を行う基板洗浄装置の一例が、特許文献１に記載されている。

また、基板と、基板に表面処理を施す処理手段との両方を移動することにより、表面処理を効率良く行うことを目的とした技術も開示されている。例えば、特許文献２によれば、表面伝導型電子源基板の表面処理を行う際に、処理液を噴射するノズル、エアーナイフ等の処理手段の基板に対する相対的な位置の移動を、基板及び各処理手段の両方を移動させることによって行うことが記載されている。

特開平０６−２０８０９８号公報 特開２０００−２４６１９１号公報

しかしながら、例えば、複数の基板をタイリングにより貼り合わせた大型サイズの基板を洗浄する際には、上述したような洗浄方法を用いて洗浄しようとした場合、充分な洗浄を行いながら処理能力を確保することが難しいと言う課題がある。

タイリングにより大型サイズの基板を作製する場合、貼り合わせ時に、貼り合わせる基板の間から基板の接合部分に沿って接着剤がはみ出し易く、洗浄によりこのはみ出した接着剤を取り除く必要がある。しかし、この接着剤のはみ出し部分は、幅の狭いものではあるが、基板の全面に渡ってかなりの厚みを持って分布するため、効率的に洗浄することが非常に難しい。また、貼り合せ部近傍に存在するものであるため、貼り合せ部分の凹凸の影響を受け、単に洗浄液に浸すのみでは充分に除去できず、ノズルから噴射する洗浄液を直接当てて洗浄を行う必要がある。

特許文献１に記載されたような基板洗浄装置を用いてこの基板を洗浄しようとした場合、汚れが少ない他の領域を含めて全面で、接着剤のはみ出し部分が除去できる位に長時間ノズルから噴射された洗浄液が当たるように洗浄を行うことが必要となる。したがって、基板の搬送速度を相当に遅くする必要があり、処理能力が大きく低下する。

特許文献２には、洗浄液を噴射するノズルと基板の両方を移動することにより、効率的な洗浄を行うことに言及しているが、具体的な構成は記載されていない。さらに、上述したようなタイリングにより作製した大型サイズの基板の洗浄に関する課題についての認識も見られない。

よって、本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであり、例えば、タイリングされた複数の基板を備える大型サイズの基板を洗浄する際に、これら複数の基板の間からはみ出した接着剤を装置の処理能力を低下させること無く、重点的に洗浄することが可能である基板製造方法、基板洗浄方法及び基板洗浄装置、並びに電気光学基板、電気光学装置及びこれを備えた電子機器を提供することを課題とする。

本発明に係る基板製造方法は上記課題を解決するために、支持基板と、前記支持基板上の接着剤を介して前記支持基板と接着される複数の基板要素とを備えた複合基板を形成する基板形成工程と、前記複合基板を前記複合基板の搬送方向に沿って傾斜させた状態で保持しつつ搬送すると共に、前記複合基板の表面に洗浄液を吐出する吐出手段を、前記表面の面内方向であり、且つ前記搬送方向に直交する方向である前記複合基板の幅方向に沿って移動させることによって、前記複数の基板要素の境界のうち少なくとも前記搬送方向に沿った境界からはみ出した前記接着剤に前記洗浄液を選択的に吐出する基板洗浄工程とを備える。

本発明に係る基板製造方法によれば、先ず、基板形成工程によって、支持基板上の接着剤を介して支持基板と複数の基板要素とを接着することによって複合基板を形成する。複数の基板要素を支持基板に接着する前又は後に、支持基板或いは基板要素に、各種の導電層、絶縁層、半導体層等から、各種の電子素子、電極、配線等が、例えば、ＣＶＤ等の成膜技術やフォトリスグラフィ、エッチング等のパターニング技術により形成されてもよい。

基板洗浄工程においては、基板形成工程で形成された複合基板を、該複合基板の搬送方向に沿って傾斜させた状態で保持しつつ搬送する。この際、基板を傾斜方向に沿って傾斜させた状態で保持することによって、吐出手段から吐出された洗浄液が基板の表面に沿って流れ、複合基板の表面から除去される汚れが再度複合基板の表面に付着することを低減することができる。本発明に係る「複合基板を該複合基板の搬送方向に沿って傾斜させた状態で保持しつつ搬送する」とは、例えば、複合基板を製造する際の床面に対して複合基板を傾斜させた状態で複合基板を保持することを意味する。したがって、基板に吐出された洗浄液が基板の表面に沿って下方に流れることになる。

このような複合基板の搬送と同時に或いは相前後して、複合基板の表面に対して、吐出手段により洗浄液を吐出する。この際、前記表面の面内方向であり、且つ前記搬送方向に直交する方向である前記複合基板の幅方向に沿って吐出手段を移動させることによって、複数の基板要素の境界のうち少なくとも前記搬送方向に沿った境界からはみ出した前記接着剤に臨むように前記吐出手段を位置合わせすることができる。このように位置合わせされた吐出手段から前記境界からはみ出した接着剤に直接洗浄液を吐出することによって境界からはみ出した接着剤を除去することが可能である。尚、吐出手段から洗浄液を吐出する際には、複合基板を搬送する搬送速度を変更するほか、搬送を一時的に停止させることによって吐出手段と複合基板との相対的な位置を調整することも可能である。

以上の結果、例えば、複数の基板要素を支持基板に貼り合わせることによって、基板要素より大きな大型サイズの複合基板を製造する場合でも、基板洗浄の処理能力を低下させることなく、基板要素の境界からはみ出した接着剤を除去することが可能である。

本発明に係る基板製造方法の一の態様においては、前記基板洗浄工程において、前記複合基板を前記搬送方向に揺動させながら前記複合基板の表面に前記洗浄液を吐出する。

この態様によれば、複合基板を揺動することによって複合基板の表面の汚れが洗浄液によって除去されやすくなり、基板表面の洗浄むらを低減することが可能である。ここで、本発明における「基板を揺動させる」とは、複合基板の搬送方向に沿って複合基板を揺動させる概念を含むものである。搬送方向に沿って複合基板を揺動させることによって、洗浄液を吐出する一つの吐出手段から直接洗浄液が吐出される領域を広げることができ、一つの吐出手段から吐出された洗浄液によって複合基板表面の広い範囲を洗浄することができる。したがって、複合基板表面における洗浄むらを低減することが可能である。また、一つの吐出手段によって広い範囲に洗浄液を吐出できることについて別の見方をすれば、洗浄液が直接吐出される領域が、吐出手段を減らす前後で変わらないことになる。したがって、洗浄能力を低下させることなく、吐出手段の個数を低減することができることになり、基板洗浄を行う際のコストの低減につながる。例えば、吐出手段として高価なノズルを用いる場合には、本発明に係る基板製造方法は適用である。

本発明に係る基板製造方法の他の態様においては、前記吐出手段を前記幅方向に沿って往復させることによって、前記複合基板の表面に繰り返し前記洗浄液を吐出してもよい。

この態様によれば、前記吐出手段を前記幅方向に沿って往復させることによって、前記表面を繰り返し洗浄することができる。例えば、吐出手段が複合基板表面の汚れが多い領域を通過した場合でも、再度汚れが多い領域に吐出手段を移動させることによって、十分に汚れを除去することができる。したがって、複合基板の表面全体を十分に洗浄することが可能であり、洗浄むらを低減することができる。

本発明に係る基板製造方法の他の態様においては、前記基板洗浄工程において、前記複合基板を揺動させることおよび／または前記吐出手段を前記幅方向に沿って往復させることにより、前記複数の基板要素の境界のうち少なくとも前記搬送方向に沿った境界からはみ出した前記接着剤に繰り返し前記洗浄液を吐出してもよい。

この態様によれば、前記複合基板を揺動させることおよび／または前記吐出手段の前記幅方向に沿って往復させることによって、基板要素間の境界のうち搬送方向に沿って延在する境界からはみ出した接着剤の広い範囲に洗浄液を直接吐出することができる。さらに、幅方向に吐出手段を往復させることにより、基板要素間の境界のうち搬送方向に沿って延在する境界からはみ出した接着剤に、吐出手段から繰り返し直接洗浄液を吐出することが可能である。したがって、板要素間の境界のうち搬送方向に沿って延在する境界からはみ出した接着剤を重点的に除去することできることになり、境界からはみ出した接着剤によって生じる複合基板表面の凹凸をより効率よく低減することができる。この態様によれば、複合基板表面をより平坦にすることにより、複合基板表面への各種素子或いは配線等の形成を基板洗浄工程の後に行う場合でも、これら各種素子或いは配線等を容易に形成することが可能になる。

本発明に係る基板製造方法の他の態様においては、前記基板要素は、有機ＥＬ素子を形成するためのパネルユニットであってもよい。

この態様によれば、支持基板にパネルユニットを複数貼り付けた後、これらパネルユニットの表面を含む複合基板の表面に有機ＥＬ素子を形成することができる。より具体的には、パネルユニットの境界からはみ出した接着剤を除去することによって、接着剤によって形成される凹凸を複合基板の表面からなくすことができ、有機ＥＬ素子を容易に形成することができる。例えば、有機ＥＬ素子を形成する際の素子形成方法としてインクジェット法の如き塗布法を用いた場合、各種有機層（例えば、正孔注入層或いは発光層等）を構成する有機材料を塗布するヘッドが複合基板表面の凹凸に接触することを低減することができる。なお、この態様においては、パネルユニットを支持基板に貼り付ける前に、有機ＥＬ素子を駆動するための素子或いは電極を支持基板に予め形成しておいてもよく、有機ＥＬ素子の下部電極及び隔壁（バンク）までをパネルユニットに形成しておいてもよい。このような態様は、複数のパネルユニットを支持基板に貼り合わせてより大型の有機ＥＬ表示装置を製造する際に適用な基板製造方法である。

本発明に係る基板洗浄方法は上記課題を解決するために、基板の表面内の他の領域より付着物が多い特定領域を検出する検出工程と、前記検出工程において検出された前記特定領域の情報に基づいて、前記基板を前記基板の搬送方向に沿って傾斜させた状態で保持しつつ搬送すると共に、前記基板の表面に洗浄液を吐出する吐出手段を、前記表面の面内方向であり、且つ前記搬送方向に直交する方向である前記基板の幅方向に沿って移動させることによって、前記特定領域に選択的に前記吐出手段から前記洗浄液を吐出する基板洗浄工程とを備える。

本発明に係る基板洗浄方法によれば、先ず、検出工程においては、基板表面内における付着物が多い特定領域、すなわち汚れが多い領域を検出する。次に、特定領域の情報に基づいて、前記基板を前記基板の搬送方向に沿って傾斜させた状態で保持しつつ搬送することによって、基板表面に吐出される洗浄液が傾斜した基板表面の下方に流れ、基板の表面全体に広がることになる。したがって、基板表面を流れる洗浄液によって、基板表面から除去された付着物が再度基板表面に付着することを低減することが可能である。

基板を搬送すると共に、前記基板の表面に洗浄液を吐出する吐出手段を、前記表面の面内方向であり、且つ前記搬送方向に直交する方向である前記基板の幅方向に沿って移動させることによって、吐出手段を特定領域に位置合わせすることができ、特定領域に選択的に洗浄液を吐出することができる。したがって、この態様によれば、基板表面内の汚れが多い領域を重点的に洗浄することができ、洗浄能力を低下させることなく、基板表面全体を洗浄することができる。

本発明に係る基板洗浄装置は上記課題を解決するために、基板の表面内の他の領域より付着物が多い特定領域を検出する検出手段と、前記基板を前記基板の搬送方向に沿って傾斜させた状態で保持する保持手段と、前記基板を前記保持手段により保持されたままで前記搬送方向に沿って搬送する搬送手段と、前記基板の表面に洗浄液を吐出する吐出手段と、前記表面の面内方向であり、且つ前記搬送方向に直交する方向である前記基板の幅方向に沿って前記吐出手段を移動させる移動手段とを備える。

本発明に係る基板洗浄装置によれば、上述した基板洗浄方法と同様に、基板表面内の汚れが多い領域を重点的に洗浄することができ、洗浄能力を低下させることなく、基板表面全体を洗浄することができる。

本発明に係る電気光学基板は上述した課題を解決するために、上述した本発明の基板製造方法によって製造されたことを特徴とする。

本発明に係る電気光学基板によれば、例えば、タイリングされた複数の基板要素の境界のうち、該電気光学基板を洗浄する際の基板の搬送方向に沿った境界から臨む接着剤を選択的に除去することが可能である。このため、従来の洗浄工程では、除去することが難しかった領域から接着剤を除去することができる。大型の有機ＥＬディスプレイ装置を複数の基板要素を支持基板に貼り付けて形成した場合、これら基板要素の境界から接着剤がはみ出すことがある。このようなはみ出した接着剤があると接合した複数の要素基板上に有機ＥＬ素子を作成して行くことが困難となる。しかしながら、本発明に係る電気光学基板は、基板要素の境界からはみ出した接着剤が確実にかつ効率的に除去されていることから、大型の有機ＥＬディスプレイを効率的に作製することができる。また、有機ＥＬ素子を作製する場合以外でも、タイリング後に基板上に素子或いは配線等を形成して行く、色々な電気光学装置の作製に有効である。

本発明に係る電気光学装置は上述した課題を解決するために、上述した本発明の基板製造方法によって製造された電気光学基板を備える。

本発明に係る電気光学装置は効率的にタイリングによる大型化を行うことが可能である。このため、製造コストの増大を招くことなく、大型で高性能な表示性能を有する電気光学装置を実現することができる。

本発明に係る電子機器は上述した課題を解決するために、上述した本発明の電気光学装置（但し、その各種態様を含む）を備える。

本発明の電子機器によれば、上述した本発明の電気光学装置を具備してなるので、高品位の表示が可能な、投射型表示装置、液晶テレビ、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルなどの各種電子機器を実現できる。また、本発明の電子機器として、例えば電子ペーパなどの電気泳動装置の他に、電子放出素子を利用した表示装置（Field Emission Display及びSurface-Conduction Electron-Emitter Display）等も実現することが可能である。

本発明のこのような作用及び他の利得は次に説明する実施の形態から明らかにされる。

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。

[第１実施形態]
図１乃至図４を参照しながら、本実施形態に係る基板製造方法について詳細に説明する。本実施形態に係る基板製造方法は、本発明に係る基板製造方法を有機ＥＬディスプレイ用の基板製造方法に適用したものである。図１は、複数のパネルユニットを配列して大型の有機ＥＬディスプレイ用基板を形成する工程を示す工程図であり、図１（ａ）は平面図であり、図１（ｂ）はＩｂ−Ｉｂ´線断面図である。

図１（ａ）及び（ｂ）において、パネルユニット１ａ〜１ｄを接着剤層１２を介して支持基板１１に接着することによって、本発明における「複合基板」の一例である有機ＥＬディスプレイ用基板１０を形成する。

支持基板１１は、後の工程で形成される有機ＥＬ素子を駆動するための半導体素子（例えば、ＴＦＴ等
）及び下部電極を備え、平板状の形状を有する。

パネルユニット１ａ〜１ｄは、支持基板１１上に形成された接着剤層１２の上に平面的に配列され、支持基板１１と接着されている。平板状であるパネルユニット１ａ〜１ｄの平面形状は矩形状であり、所要の間隔を空けて２行２列で配置されている。なお、本実施形態においては、４枚のパネルユニット１ａ〜１ｄを貼り合わせ、４倍の面積の有機ＥＬディスプレイ用基板１０を形成するが、貼り合わせるパネルユニットの枚数は４枚に限定されるものではなく、有機ＥＬディスプレイ用基板のサイズに応じて所要枚数のパネルユニットを貼り付けることができる。

パネルユニット１ａ〜１ｄの境界１２ａ及び１２ｂは、有機ＥＬディスプレイ用基板１０の縦方向及び横方向にそれぞれ延在する。境界１２ａ、１２ｂからはみ出した接着剤は、境界１２ａ及び１２ｂの周囲の領域を覆い、有機ＥＬディスプレイ用基板１０の表面に凹凸を形成し、貼り合せ後の有機ＥＬディスプレイ基板用１０の上に有機ＥＬ素子を作製することを難しくする。このような接着剤を除去することは、タイリングにより大型の有機ディスプレイ用基板１０を製造するうえでは重要になる。

後述するように、有機ＥＬディスプレイ用基板１０は、有機ＥＬディスプレイ用基板１０の横方向に沿って延在する境界１２ａが有機ＥＬディスプレイ基板１０を洗浄する際の搬送方向と一致するように基板洗浄装置に載置される。

ここで、パネルユニット１ａ〜１ｄの支持基板１１への貼り付けについて詳細に説明する。パネルユニット１ａ〜１ｄの支持基板１１への貼り付けは、例えば、次のようにして行うことができる。パネルユニット１ａ〜１ｄの貼り付け面の全面、及び／または支持基板１１の貼り付け面の全面、並びにパネルユニット１ａ〜１ｄの端面に接着剤を塗布し貼り合わせる。接着剤としては、透明で、パネルユニットと同じ程度の屈折率を有するものが好ましい。また、接着剤層の厚みを一定とするためにスペーサを混入しても良い。パネルユニット１ａ〜１ｄの端面を貼り合わせる場合には、パネルユニット１ａ〜１ｄの端面を予め研磨処理しておくことが好ましい。

なお、パネルユニット１ａ〜１ｄの詳細な構造については図示しないが、パネルユニット１ａ〜１ｄは、有機ＥＬ素子が形成される前の、例えば平板状の基板であり、有機ＥＬ素子用の下部電極及び隔壁（バンク）までが形成されている。有機ＥＬディスプレイ用基板１０上に有機ＥＬ素子を形成する際には、例えば、支持基板１１に貼り合わされたパネルユニット１ａ〜１ｄに液滴吐出法により有機ＥＬ素子を形成する。まず、パネルユニット１ａ〜１ｄ上に設けられた隔壁に囲まれた画素電極上に、正孔注入層となる材料を溶媒に溶かしたものを液滴吐出法により各画電極ごとに吐出・供給する。この正孔注入層となる材料を加熱・乾燥することにより固形化し、正孔注入層を形成する。次にこの正孔注入層上に、発光層となる材料を溶媒に溶かしたものを液滴吐出法により各画素電極ごとに吐出・供給する。この発光層となる材料を加熱・乾燥することにより固形化し、発光層を形成する。画素に発光色の異なる発光層材料を吐出・供給することで多色の有機ＥＬ素子を形成しても良い。さらにこの発光層上に真空加熱蒸着法により、カルシウム及びアルミニウムを蒸着し、陰極層を形成し、有機ＥＬ素子を完成する。なお、有機ＥＬ素子は、後述する基板洗浄を行った後に、支持基板１１と貼り合わされた面と反対側の面に形成される。なお、有機ＥＬ素子を封止する封止基板は、陰極まで形成した後にパネルユニット１ａ〜１ｄに貼り合せられる。

パネルユニット１ａ〜１ｄは、走査線及び信号線を駆動するための駆動回路または接続部を備えていても良い。パネルユニット１ａ〜１ｄを支持基板１１に貼り合わせた後に形成される有機ＥＬ素子を含む画素を同期させて駆動することによって、大画面の有機ＥＬディスプレイを提供することができる。

図２乃至図４を参照しながら、有機ＥＬディスプレイ用基板１０の洗浄工程及び洗浄工程に適用な基板洗浄装置２０について説明する。図２は有機ＥＬディスプレイ用基板１０の洗浄工程を説明するための斜視図であり、図３は平面図、図４は断面図である。

図２、図３及び図４において、基板洗浄装置２０は、有機ＥＬディスプレイ用基板１０を保持する基板支えローラー２２及び２３、基板支えローラー２３が配置されたステージ２４、洗浄液を基板に吐出するノズル２７が設けられたノズル配設部２１、ノズル配設部２１を支持すると共に移動させるノズル位置決めユニット２６、ノズル位置決めユニット２６を駆動する駆動装置６１、基板支えローラー２２及び２３を駆動する駆動装置６２、及びノズル２７に洗浄液を供給するポンプ６４を備える。また、基板洗浄装置２０は、駆動装置６１及び６２、並び制御装置６３を備える。

ステージ２４は、水平な床面に対して傾斜しており、その表面には基板支えローラー２３が配設されている。ここで、ステージ２４の長手方向、すなわち図中Ｘ方向は洗浄対象である有機ＥＬディスプレイ用基板１０の搬送方向である。

基板支えローラー２３は、ステージ２４の表面に複数設けられており、これら基板支えローラー２３上に載置された有機ＥＬディスプレイ用基板１０を搬送する。基板支えローラー２３は、ステージ２４に設けられていることから、基板支えローラー２３上に載置された有機ＥＬディスプレイ用基板１０も水平な床面に対して傾斜した状態で搬送される。したがって、有機ＥＬディスプレイ用基板１０の表面に洗浄液を吐出した際には、洗浄液が有機ＥＬディスプレイ用基板１０の表面に沿って下方に流れる。

基板支えローラー２２は、基板支えローラー２３上に載置された有機ＥＬディスプレイ用基板１０を保持し、有機ＥＬディスプレイ用基板１０がステージ２４の傾斜方向に沿ってずれることを防止する。基板支えローラー２２及び２３は、制御装置６３から駆動装置６２に送られる搬送指示に基づいて駆動される。基板支えローラー２２及び２３は、ノズル位置決めユニット２６の駆動に同期して有機ＥＬディスプレイ用基板１０を搬送方向に沿って搬送する。これにより、有機ＥＬディスプレイ用基板１０上にはみ出した接着剤の位置にノズル２７を位置合わせすることができ、ノズル２７は、接着剤に直接洗浄液を吐出することができる。

なお、基板支えローラー２２及び２３は、有機ＥＬディスプレイ用基板１０を搬送方向に沿って揺動することができる機構を備えていてもよい。基板支えローラー２２及び２３を揺動させる際には、制御装置６３が基板支えローラー２２及び２３を駆動する駆動装置に揺動指示を行う。基板支えローラー２２及び２３揺動する駆動装置としては、駆動装置６２を兼用してもよいし、駆動装置６２と別個の駆動装置を用いてもよい。

本発明に係る「移動手段」の一例であるノズル位置決めユニット２６は、本発明に係る「吐出手段」の一例であるノズル２７が複数設けられたノズル配設部２１を有機ＥＬディスプレイ用基板１０の幅方向、すなわち、有機ＥＬディスプレイ用基板１０の面内方向であって搬送方向と直交する方向であるＹ方向に沿ってノズル配設部２１を移動させる。ノズル２７は、ノズル配設部２１の長手方向、すなわち図中Ｘ方向に沿って複数設けられていることから、ノズル位置決めユニット２６が有機ＥＬディスプレイ用基板１０上の境界１２ａにノズル配設部２１を位置決めした際に、境界１２ａからはみ出した接着剤にノズル２７が臨むことになる。このため、ノズル２７から接着剤に直接洗浄液を吐出することができ、境界１２ａの周辺を集中的に洗浄することが可能である。したがって、有機ＥＬディスプレイ用基板１０の表面にはみ出した余分な接着剤を除去することができる。

ノズル位置決めユニット２６は、有機ディスプレイ用基板１０の幅方向に沿って上方及び下方にノズル配設部２１を自在に移動させることができ、境界１２ａからはみ出した接着剤に繰り返し洗浄液を吐出して基板表面を洗浄することが可能である。この際、接着剤がはみ出した領域のみを繰り返し洗浄すればよいことから、基板表面全体を洗浄する洗浄能力を低下させることなく、基板表面全体を洗浄することができる。特に、洗浄液のノズル２７が搬送方向に沿って複数設けられていることから、境界１２ａからはみ出した接着剤全体に洗浄液を直接吐出することができる。

ここで、有機ＥＬディスプレイ用基板１０の幅方向に沿って延在する境界１２ｂはノズル２１の移動方向に沿って延在していることから、境界１２ｂからはみ出した接着剤の除去については、境界１２ｂの凹凸の影響を受け難い。一方、境界１２ａには、境界１２ａ上をノズル２１が移動する方向と境界１２ａが延在する方向とが直交しているため、境界１２ａの凹凸の影響を受けて、境界１２ａからはみ出した接着剤を十分に除去できない場合がある。

そこで、ノズル位置決めユニット２６は、ノズル配設部２１を境界１２ａに位置決めし、境界１２ａからはみ出した接着剤にノズル２７から直接洗浄液を吐出する。このとき、洗浄液をノズル２７から吐出する際の噴射圧力としては、例えば、６〜１０ｋｇｆ／ｃｍ^２程度が好ましい噴射圧力とされる。このような噴射圧力でノズル２７から直接洗浄液を接着剤に吐出することによって、接着剤を除去することが可能である。また、ノズル配設部２１を境界１２ａを臨む位置の近傍で有機ＥＬディスプレイ用基板１０の幅方向に沿って往復させることによって、十分に除去されなかった接着剤を除去することもできる。例えば、ノズル配設部２１を５回程度往復させて洗浄すればよく、上述した有機ＥＬディスプレイ用基板１０を揺動させること及びノズル配設部２１を往復させることの少なくとも一方を行うことにより、充分な洗浄能力と処理能力を両立させることができる。

ポンプ６４は、駆動装置６１及び６２と同様に制御装置６３によって制御され、制御装置６３から送られる吐出指示によってノズル２７に洗浄液を供給する。

なお、上述した有機ＥＬディスプレイ用基板１０の搬送、ノズル配設部２１の移動、及びノズル２７からの洗浄液の吐出は、制御装置６３から送られる搬送指示、移動指示及び吐出指示によって行われ、これらの動作は互いに同期して行われることになる。したがって、有機ＥＬディスプレイ用基板１０の表面全体、特に境界１２ａを選択的に洗浄することが可能である。

有機ＥＬディスプレイ用基板１０の傾斜角度φは、２０°から４０°であることが望ましい。ここに「傾斜角度φ」とは、基板洗浄装置２０が配置される水平な床面に対して、有機ＥＬディスプレイ用基板１０の基板面がなす角度を意味する。このような角度で有機ＥＬディスプレイ用基板１０を傾斜させておけば、洗浄液が吐出された有機ＥＬディスプレイ用基板１０の汚れが再付着することを低減することができる。

洗浄液としては、例えば、有機或いは無機のアルカリ性溶液を用いることが好ましい。このような洗浄液を用いることにより、有機ＥＬディスプレイ用基板１０の表面にはみ出した接着剤を十分に除去することが可能である。

[第２実施形態]
次に、本発明に係る基板洗浄方法の一実施形態について説明する。本実施形態に係る基板洗浄方法は、第１の実施形態で説明した基板製造方法に適用可能な基板洗浄方法である。なお、本実施形態に係る基板洗浄方法は、第１実施形態で説明した有機ＥＬディスプレイ用基板１０の洗浄に限定されるものではなく、基板表面内の汚れが多い領域を選択的に洗浄することによって、洗浄能力を低下させることなく、基板表面全体を十分に洗浄することができる点に特徴を有する。なお、本実施形態における基板洗浄装置４０の構成は、第１実施形態で説明した基板洗浄装置２０と同様であることから詳細な説明は省略するが、ノズル配設部４１に設けられるノズルは一つでも複数でもよい。図５は、本実施形態に係る基板洗浄方法を説明するための図である。

図５において、ノズル配設部４１は、基板３０の幅方向に沿って上方及び下方に自在に移動される。ここで、幅方向とはノズル移動方向に沿った方向である。基板３０は、基板３０の搬送方向に沿って傾斜した状態で保持されている。ノズル４１の移動方向は基板３０の幅方向に沿った方向であることから、ノズル４１の移動方向は、基板３０の搬送方向と直交している。

制御装置１００から駆動装置１０１に送られる駆動指示に基いて基板３０を搬送方向に搬送することによって、ノズル配設部４１が備えるノズル４２ａ及び４２ｂの搬送方向に沿った位置決めが可能である。すなわち、ノズル配設部４１を基板３０の搬送方向に沿って移動させることができないため、ノズル配設部４１が備えるノズル４２ａ及び４２ｂの搬送方向に沿った位置決めを基板３０を搬送することによって行う。ノズル４２ａ及び４２ｂの基板３０の幅方向に沿った位置決めは、ノズル位置決めユニット４６がノズル配設部４１を移動させることによって行われる。この際、ノズル位置決めユニット４６は、制御装置１００から駆動装置１０２に送られる移動指示に基づいて移動される。したがって、基板３０の表面内におけるノズル４２及び４２の位置決めを、基板３０の搬送及びノズル配設部４１の移動を同期させることよって行うことが可能である。

また、表面の汚れが多い領域を検出するセンサー部１０３の情報に基づいて、ノズル位置決めユニット２６の移動及び基板３０の搬送を制御装置１００が制御し、基板３０表面の汚れが多い特定領域３１及び３２にノズル４２を位置合わせする。これにより、ノズル４２ａ及び４２ｂから特定領域３１及び３２に洗浄液を直接吐出することができる。このようにすることで、有機ＥＬディスプレイ用基板１０の表面の特定領域を選択的に洗浄することが可能である。

このような基板洗浄方法によれば、基板３０の表面の汚れの分布に応じてノズル４２ａ及び４２ｂを基板３０の表面３５の面内方向について位置決めし、表面３５の汚れが多い領域を選択的に洗浄することも可能である。例えば、基板３０の搬送と、ノズル配設部４１の移動とを組み合わせることによってノズル４２ｂを汚れが多い領域３２に位置合わせして洗浄液を直接吐出する。そして、表面３５のうち他の汚れが多い領域３１に吐出口４２ａを位置合わせして直接洗浄液を吐出することができる。したがって、表面３５内で汚れが多い領域が点在している場合でも、これら汚れが多い領域に選択的にノズルを位置合わせし、洗浄液をこれらの領域に直接吐出することができる。よって、表面３５のうち汚れが多い領域に他の領域より選択的に洗浄液を吐出することによって、表面３５の全体を効率よく洗浄することが可能である。さらに、基板３０が、基板要素とされる小型のパネルユニットを複数配列することによって形成されている場合には、これらパネルユニットの境界を選択的に洗浄することによって基板３０の表面全体を効率良く洗浄することもできる。

[第３実施形態]
次に、本発明に係る電気光学装置の一例である有機ＥＬディスプレイ装置及びこれを備えた電子機器の実施形態について説明する。なお、本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置は、第１実施形態に係る基板製造方法によって製造された有機ＥＬディスプレイ基板を備えており、大画面によって高品質の画像表示を行うことが可能である点に特徴を有する。

（電気光学装置の構成）
図６は、本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置６０の構成を示す平面図であり、図７は本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置６０の構成を示す断面図である。

本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置６０は、支持基板５５、支持基板５５より小型のパネルユニット５１〜５４を主たる構成要素とする。
図６及び図７において、支持基板５５には、有機ＥＬ素子を駆動するための図示しない各種素子及び下部電極等が形成されている。パネルユニット５１〜５４には、後で形成される有機ＥＬ素子を駆動するためのスイッチングトランジスタやドライビングトランジスタ等の駆動用ＴＦＴ、画素を仕切るために設けられた隔壁６２、さらにデータ線５８及び走査線５６等の各種配線が形成されている。このスイッチングトランジスタや駆動用ＴＦＴは図示しないが、これら素子はデータ線５８及び走査線５６等の各種配線と接続されている。データ線５８及び走査線５６は、パネルユニット５１〜５４に設けられた接続部５１ａ〜５４ａを介して支持基板５５の下部電極及び配線等と接続される。なお、パネルユニット５１〜５４は、画素部６１を仕切る隔壁６２が形成された面と反対側の面で支持基板５５と接着されている。画素部６１を仕切る隔壁６２が形成された面とは、すなわちパネルユニット５１〜５４が支持基板５５にタイリングされた後に有機ＥＬ素子が形成される側の面である。
パネルユニット５１〜５４が備える画素部６１は、陽極、電流注入層及び発光層等を含んでなる有機ＥＬ素子、さらには有機ＥＬ素子をアクティブマトリクス駆動するためのＴＦＴ等を含んで構成される。画素部６１に含まれる有機ＥＬ素子は、パネルユニット５１〜５４が支持基板５５にタイリングされた後にインクジェット法の如き塗布法によって所要の有機材料を塗布して形成される。
有機ＥＬ表示装置６０の表面においては、パネルユニット５１〜５４間の境界からはみ出した接着剤が除去されていることから、タイリング後のパネルユニット５１〜５４の表面にインクジェット法の如き塗布法を用いて有機ＥＬ素子を支障なく形成することができる。パネルユニット５１〜５４に形成される有機ＥＬ素子は、上述したＴＦＴ等を用いてアクティブマトリクス駆動することができ、さらに、パネルユニット５１〜５４に形成された有機ＥＬ素子を互いに同期させて駆動することによって有機ＥＬ表示装置６０の全体で大画面の画像表示を行うことができる。

以上では、本発明の電気光学装置の一具体例として有機ＥＬ表示装置を挙げて説明したが、本発明の電気光学装置は、その他にも例えば電子ペーパなどの電気泳動装置や、電子放出素子を用いた表示装置（Field Emission Display及びSurface-Conduction Electron-Emitter Display）等として実現することができる。また、このような本発明の電気光学装置は、テレビジョン受像機や、ビューファインダ型あるいはモニター直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた装置等の各種の電子機器に適用可能である。

（電子機器の態様）
次に、上述した電気光学装置の一例である有機ＥＬ表示装置が搭載された各種電子機器について説明する。本発明に係る電気光学基板は上述したパネルユニットを複数タイリングすることによって形成される大画面の電子機器に適用であり、例えば、大型サイズの画像表示面を備えたテレビ用モニター等に適用である。さらに、大型サイズの画像表示面を備えた電子機器に限定されず、以下に示す各種電子機器においても、上述した電気光学基板を適用である。

＜Ａ：モバイル型コンピュータ＞
モバイル型のパーソナルコンピュータに、上述した有機ＥＬ表示装置を適用した例について、図８を参照しながら説明する。ここに、図８は、コンピュータ１２００の構成を示す斜視図である。

図８において、コンピュータ１２００は、キーボード１２０２を備えた本体部１２０４と、図示しない有機ＥＬ表示装置を用いて構成された表示部１００５を有する表示ユニット１２０６とを備えている。表示部１００５は、パネルユニットを支持基板にタイリングすることによって形成された有機ＥＬディスプレイ用基板を含む。支持基板にパネルユニットを貼り付けることによって形成された有機ＥＬディスプレイ用基板は、貼り付けるパネルユニットを増やすことによって画像表示面を大型化することが容易であり、特に、大型サイズの画像表示面を備えた表示装置に適用である。また、表示部１００５が備える複数の有機ＥＬディスプレイ基板に赤、緑、青の光の三原色の光を発光する有機ＥＬ素子を形成しておくことによって、該表示部１００５はフルカラー表示で画像表示を行うことができる。

＜Ｂ：携帯型電話機＞
更に、上述した有機ＥＬ表示装置を携帯型電話機に適用した例について、図９を参照して説明する。ここに、図９は、携帯型電話機１３００の構成を示す斜視図である。図９において、携帯型電話機１３００は、複数の操作ボタン１３０２と共に、本発明の一実施形態である有機ＥＬ表示装置を有する表示部１３０５を備えるものである。

表示部１３０５は、上述の表示部１００５と同様に上述した有機ＥＬディスプレイ用基板を備えている。この有機ＥＬディスプレイ用基板は、光取り出し効率が高く、且つ基板厚みが薄いことから、低消費電力で高品質の画像を表示することもできる。特に、携帯型電話機１３００では、充電を行うことなく連続して動作させることができる時間が長いほど良い。したがって、上述の有機ＥＬ表示装置を用いることによって、充電を行うことなく、長時間にわたって携帯型電話機１３００を動作させることも可能となる。

さらに、表示部１３０５が備える有機ＥＬディスプレイ基板の厚みが薄いことから、携帯電話機１３００の厚みを薄くすることができる。また、表示部１３０５が備える複数の有機ＥＬ素子がそれぞれ赤、緑、青の光の三原色の光を発光することによって、該表示部１３０５はフルカラー表示で画像表示を行うこともできる。このように、比較的小型の画像表示面を備える電子機器においても、本発明に係る電気光学基板を用いることができる。

尚、本発明は、上述した実施例に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う有機ＥＬ素子の製造方法及び有機ＥＬ素子並びに電子機器もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。

本発明の第１の実施の形態に係る基板製造方法を説明するための図であって、有機ＥＬパネルの貼り付け工程を示す工程図である。 本発明の第１の実施の形態に係る基板製造方法を説明するための図であって、基板の洗浄工程を示す斜視図である。 本発明の第１の実施の形態に係る基板製造方法を説明するための図であって、基板の洗浄工程を示す平面図である。 本発明の第１の実施の形態に係る基板製造方法を説明するための図であって、基板の洗浄工程を示す断面図である。 本発明の第２の実施の形態に係る基板洗浄方法を説明するための図である。 本発明の第３の実施の形態に係る電気光学装置の平面図である。 本発明の第３の実施の形態に係る電気光学装置の断面図である。 本発明の第３の実施の形態に係る電子機器の一例を示す斜視図である。 本発明の第３の実施の形態に係る電子機器の他の例を示す斜視図である。

符号の説明

パネルユニット １ａ〜１ｄ，５１〜５４、接着剤層 １２，５０，５９、基板支えローラー ２２，２３、ノズル ２７，４２ａ，４２ｂ、ノズル位置決めユニット ２６，４６

Claims (10)

1. 支持基板と、前記支持基板上の接着剤を介して前記支持基板と接着される複数の基板要素とを備えた複合基板を形成する基板形成工程と、
   前記複合基板を前記複合基板の搬送方向に沿って傾斜させた状態で保持しつつ搬送すると共に、前記複合基板の表面に洗浄液を吐出する吐出手段を、前記表面の面内方向であり、且つ前記搬送方向に直交する方向である前記複合基板の幅方向に沿って移動させることによって、前記複数の基板要素の境界のうち少なくとも前記搬送方向に沿った境界からはみ出した前記接着剤に前記洗浄液を選択的に吐出する基板洗浄工程と、
   を備えたことを特徴とする基板製造方法。
2. 前記基板洗浄工程において、前記複合基板を前記搬送方向に揺動させながら前記複合基板の表面に前記洗浄液を吐出すること
   を特徴とする請求項１に記載の基板製造方法。
3. 前記基板洗浄工程において、前記吐出手段を前記幅方向に沿って往復させることによって、前記複合基板の表面に繰り返し前記洗浄液を吐出すること
   を特徴とする請求項１又は２に記載の基板製造方法。
4. 前記基板洗浄工程において、前記複合基板を揺動させることおよび／または前記吐出手段を前記幅方向に沿って往復させることにより、前記複数の基板要素の境界のうち少なくとも前記搬送方向に沿った境界からはみ出した前記接着剤に繰り返し前記洗浄液を吐出すること
   を特徴とする請求項１から３の何れか一項に記載の基板製造方法。
5. 前記基板要素は、有機ＥＬ素子を形成するためのパネルユニットであること
   を特徴とする請求項１から４の何れか一項に記載の基板製造方法。
6. 基板の表面内の他の領域より付着物が多い特定領域を検出する検出工程と、
   前記検出工程において検出された前記特定領域の情報に基づいて、前記基板を前記基板の搬送方向に沿って傾斜させた状態で保持しつつ搬送すると共に、前記基板の表面に洗浄液を吐出する吐出手段を、前記表面の面内方向であり、且つ前記搬送方向に直交する方向である前記基板の幅方向に沿って移動させることによって、前記特定領域に選択的に前記吐出手段から前記洗浄液を吐出する基板洗浄工程と、
   を備えたことを特徴とする基板洗浄方法。
7. 基板の表面内の他の領域より付着物が多い特定領域を検出する検出手段と、
   前記基板を前記基板の搬送方向に沿って傾斜させた状態で保持する保持手段と、
   前記基板を前記保持手段により保持されたままで前記搬送方向に沿って搬送する搬送手段と、
   前記基板の表面に洗浄液を吐出する吐出手段と、
   前記表面の面内方向であり、且つ前記搬送方向に直交する方向である前記基板の幅方向に沿って前記吐出手段を移動させる移動手段と
   を備えることを特徴とする基板洗浄装置。
8. 請求項１から５の何れか一項に記載の基板製造方法によって製造されたことを特徴とする電気光学基板。
9. 請求項８に記載の電気光学基板を備えたことを特徴とする電気光学装置。
10. 請求項９に記載の電気光学装置を具備してなることを特徴とする電子機器。
    

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