JP2002299403A

JP2002299403A - 薄板基板の搬送装置及び搬送方法

Info

Publication number: JP2002299403A
Application number: JP2001094913A
Authority: JP
Inventors: Noriya Wada; 憲也和田; Kazuto Kinoshita; 和人木下; Kazuhiko Kenmori; 和彦権守
Original assignee: Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
Current assignee: Hitachi High Tech Corp
Priority date: 2001-03-29
Filing date: 2001-03-29
Publication date: 2002-10-11

Abstract

(57)【要約】【課題】薄板基板の表面を傾けた状態で搬送する間に
その表面に液処理を行うに当って、基板や搬送手段に部
分的に摩耗を生じさせたり、基板を損傷させたりするこ
となく円滑に搬送できるようにする。【解決手段】液処理工程としての洗浄工程内で基板Ｓ
を搬送するローラコンベア１は、基板Ｓの左右両側の端
部と係合する一対の側部駆動ローラ３を取り付けた第１
の回転軸２と、第１の回転軸２のピッチ間隔の中間の位
置に配置され、凸面形成ローラ５を取り付けた第２の回
転軸４とを含む。凸面形成ローラ５は側部駆動ローラ３
のローラ本体３ａと同じ直径で、凸面形成ローラ５は両
側部駆動ローラ３，３の中間に位置する。ローラコンベ
ア１における第１の回転軸２に取り付けた左右の側部駆
動ローラ３，３におけるフランジ部３ｂ，３ｂ間の間隔
Ｌ₂は基板Ｓの幅方向の寸法Ｌ₁ より小さくなし、基板
Ｓは中間位置が最突出部となり、左右両端部に向かうに
応じて下方に傾斜する凸湾曲形状で搬送される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ガラス，金属，合
成樹脂，無機物等の四角形からなり、曲げが可能な薄板
の基板を搬送する間に、この基板表面を洗浄するための
薄板基板の洗浄装置及び洗浄方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】例えば、ＴＦＴ型の液晶パネルは、ＴＦ
Ｔ基板とカラーフィルタ基板との２枚の薄板ガラス基板
の積層体を有するものであるが、ＴＦＴ基板は基板の表
面にＴＦＴのパターンが形成される。このＴＦＴのパタ
ーンは、成膜，レジスト塗布，露光，現像，エッチン
グ，レジスト剥離等からなる工程を７〜８回繰り返すこ
とにより形成され、またこれらの工程の間には洗浄工程
が加わる。これらの工程のうち、現像，エッチング，レ
ジスト剥離及び洗浄の各工程は、基板表面に所定の処理
液を供給することによるウエット処理で行うのが一般的
である。

【０００３】基板に対する連続処理を行うためには、コ
ンベア等の搬送手段により基板を搬送させる間に、処理
液供給手段から洗浄液を含む処理液をこの基板の表面に
供給することにより行うのが一般的である。ここで、基
板に対してウエット処理を行うに当っては、基板の被処
理面を上向きにして水平搬送するようになし、処理液は
搬送手段による基板の搬送経路の上部位置にノズル等か
らなる処理液供給手段を配置して、この処理液供給手段
から基板の表面に処理液を供給する方式が採用される。

【０００４】ここで、基板に供給された処理液は、基板
の表面にある程度滞留させる必要があるものと、基板上
で処理液が流れるようにする必要があるものとがある。
基板の表面若しくはこの表面に形成した被膜なり層なり
に対して反応等を生じさせる場合、例えばレジスト剥離
を行う際には、剥離液を基板の表面に滞留させる方が消
費される処理液の量を節約できる等の点で望ましい。一
方、基板の表面を洗浄する場合には、洗浄液を基板の表
面に留めることなく、できるだけ速い流速で洗浄液を流
す方が洗浄効率及び洗浄精度が向上する。ここで、流速
が必要な処理液を供給して処理を行う際には、基板を傾
けることによって、その傾斜に沿って処理液を流すよう
にする方が有利である。

【０００５】例えば特開平９−１５５３０６号公報に
は、処理液を基板に供給する際に、その表面に沿って流
れを形成する必要のあるウエット処理を行うに当って、
基板を傾斜させて搬送する方式が提案されている。この
公知の基板処理装置は基板の洗浄装置であって、基板は
ローラコンベアからなる搬送手段により搬送する間に、
薬洗，水洗，乾燥の順に処理を行うようにしている。こ
れらのうち、薬洗及び水洗は、基板を、水平面に対し
て、その搬送経路と直交する方向に傾けた状態で搬送す
るようになし、この間に上部側から薬液及び洗浄水から
なる処理液を基板に向けて噴射させるように構成してい
る。従って、基板の表面に供給された洗浄液及び洗浄水
は傾斜方向に向けての流れが形成され、この流れにより
基板表面の付着物質等を取り除くことができる。このよ
うに基板を傾斜搬送するために、搬送手段を構成するロ
ーラコンベアの回転軸を垂直面内で所定角度傾けるよう
に配置し、この回転軸には基板の裏面側と当接する複数
のローラを取り付けるが、傾斜している回転軸の両端に
位置するローラに鍔部を設けて、搬送時に基板の姿勢を
保つようにしている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところで、基板を傾け
ると、その傾斜方向の下向きに自重が作用することにな
る。このために、回転軸に２箇所設けた鍔付きローラの
うち、下側に位置するローラの周胴部から鍔部にかけて
のコーナの部分に基板の裏面から側面にかけてのエッジ
部分が押し付けられるようにして搬送されることにな
る。その結果、基板の搬送中に、前述したコーナ部分に
応力が集中して、基板及びローラを摩耗させたり、また
基板のエッジに損傷を来すおそれがある。とりわけ、大
型の基板を液処理する場合には、それだけ基板の自重が
大きくなり、また基板の傾斜角度も大きくしなければな
らないことから、前述した摩耗や損傷の度合いがさらに
大きくなるという問題点がある。

【０００７】本発明は以上の点に鑑みてなされたもので
あって、その目的とするところは、薄板基板の表面を傾
けた状態で搬送する間にその表面洗浄を行うに当って、
基板や搬送手段に部分的に摩耗を生じさせたり、基板を
損傷させたりすることなく円滑に搬送できるようにする
ことにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ために、本発明の装置発明の特徴としては、薄板の基板
の搬送経路の上部位置に設置した処理液噴射手段から噴
射される処理液を基板表面に噴射することにより行われ
る液処理装置において、前記基板を搬送経路に沿って搬
送するために、基板の搬送方向に所定のピッチ間隔をも
って配設され、この搬送方向と直交する方向の両側部に
配置した一対の側部駆動ローラと、前記両側部駆動ロー
ラ間に位置し、両側部駆動ローラから実質的に等距離と
なるように配置した凸面形成ローラとを備え、前記両側
部駆動ローラは、ローラ本体と、このローラ本体より大
径のフランジ部とから構成して、フランジ部を外向きに
配設し、前記基板を、その搬送方向と直交する方向に向
けて凸湾曲形状にして搬送するために、両側部駆動ロー
ラのフランジ部間の間隔を前記基板の搬送方向と直交す
る方向の長さ寸法より短くし、かつ前記基板の両側部駆
動ローラのローラ本体への当接部より前記凸面形成ロー
ラへの当接部の方が上部に配置し、前記処理液噴射手段
は少なくとも前記凸面形成ローラの上方位置に配置する
構成としたことをその特徴とするものである。

【０００９】而して、薄板基板の搬送装置は、基板を水
平な状態で搬送するのではなく、搬送方向の中間部が上
方に突出し、両側部に向けて斜め下方に傾斜するように
湾曲させて搬送する。基板の裏面側を少なくとも３箇所
で支持する。両側部に位置するのは側部駆動ローラであ
り、この側部駆動ローラはローラ本体にフランジ部を連
設したものから構成し、フランジ部を外向きに配置す
る。従って、基板の両側部はこのローラ本体からフラン
ジ部への立ち上がりの部位に当接する。ここで、両側に
位置する両側部駆動ローラのフランジ部間の間隔は、基
板の搬送方向と直交する方向の長さより短くする。基板
の両側部はこれら両フランジ部により規制されるから、
基板がその搬送方向と直交する方向に撓むことになる。
この基板の撓みは、搬送方向と直交する方向において、
中央の部分が最も突出し、左右の側部に向けて連続的に
下降する傾斜を有する湾曲形状とする。このために、両
側部駆動ローラ間に凸面形成ローラを配置し、この凸面
形成ローラの基板への当接部の高さ位置を側部駆動ロー
ラのローラ本体への当接部より高い位置とする。基板の
送り駆動は、少なくとも側部駆動ローラにより行い、凸
面形成ローラは、基板に対する送り駆動力を作用させる
ようにしても良く、また自由回転状態にすることもでき
る。処理液噴射手段は、少なくとも基板の最突出部に対
向する位置に配設する。これによって、処理液噴射手段
から噴射した処理液は、基板の左右両側への傾斜に沿っ
て流れるようになり、しかもこの基板の傾斜に応じた流
速が与えられる結果、処理の効率が向上する。しかも、
基板の荷重は３箇所のローラにより分散的に受承させる
ようにしているので、各ローラにおける荷重の偏重がな
くなり、これら各ローラの耐久性が向上する。

【００１０】基板は薄板で方形のものからなり、かつ中
央部分を支持させた時に、左右両側が自重で下方に撓む
程度に変形自在なものが対象となる。そして、サイズが
大きければ大きい程、また肉厚が薄ければ薄い程都合が
良い。基板の材質としては、ガラス，金属，合成樹脂，
無機物等、格別制約はないが、大判で肉厚が薄いガラス
基板を洗浄したり、または他の液処理を行ったりする際
に、基板の裏面を高さ位置の異なる側部駆動ローラ及び
凸面形成ローラに設置すると容易に変形し、かつこの基
板の自重だけが各ローラに作用し、しかも各ローラに分
散的に受承されるから、これら各ローラの負担が著しく
軽減される。

【００１１】ここで、これら側部駆動ローラ及び凸面形
成ローラの具体例としては、例えば以下に示すようなも
のがある。まず、側部駆動ローラを第１の回転軸に取り
付け、凸面形成ローラは第２の回転軸に取り付けて、こ
れら第１，第２の回転軸を基板の搬送方向に位置を違え
て配置し、第２の回転軸を第１の回転軸より高い位置に
配置し、側部駆動ローラのローラ本体の直径と凸面形成
ローラの直径とを同じにする。また、側部駆動ローラを
第１の回転軸に取り付け、凸面形成ローラを第２の回転
軸に取り付けて、これら第１，第２の回転軸を搬送方向
に位置を違えるようにするが、これら両回転軸の高さ位
置は同じとし、凸面形成ローラの直径を側部駆動ローラ
のローラ本体の直径より大きくし、これら凸面形成ロー
ラとローラ本体との外周面の回転周速が同じになるよう
に、第１，第２の回転軸の回転数を異ならせる構成とす
るようにしても良い。さらに、両側部駆動ローラと凸面
形成ローラとを同じ回転軸に設け、この凸面形成ローラ
の外径を側部駆動ローラのローラ本体の外径より大きく
し、かつ側部駆動ローラは回転軸と一体回転するように
装着し、また凸面形成ローラは回転軸に回転自在に装着
するように構成することができる。

【００１２】また、本発明の薄板基板の搬送方法として
は、薄板の基板を搬送経路に沿って搬送する間におい
て、基板が処理液の噴射位置に進入する前に、この基板
を、その搬送方向と直交する方向の中間部が突出する凸
湾曲形状となるように変形させ、このように変形した基
板に対して、その最突出部に向けて処理液を噴射するも
のである。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。なお、この実施の形態にお
いては、液晶パネルを構成するＴＦＴ基板の洗浄装置に
設けられ、このＴＦＴ基板を搬送するための装置として
構成したものを示す。ここで、搬送される基板として
は、外力を作用させると容易に変形し、この外力の作用
を解除すると、元の平面状態に復帰する性質を有するも
のであれば、その材質は問わない。液晶パネルを構成す
るＴＦＴ基板やカラーフィルタ等を構成する薄板のガラ
ス基板は、その寸法形状にもよるが、製造段階では大判
のものが用いられることから、前述した条件に適合す
る。また、この基板搬送装置は洗浄装置に設けるように
しているが、各種の基板の製造時には、様々な液体が供
給されて、その表面処理が行われるものであり、従って
洗浄以外の液処理装置にもこの基板搬送装置を適用する
ことができるのは言うまでもない。

【００１４】而して、図１に洗浄工程での基板Ｓの搬送
手段の構成を示し、図２には基板Ｓを洗浄している状態
での図１のＡ−Ａ位置の断面を示す。また、図３は回転
軸を省略して、図２の矢印Ｂ方向から見た構成説明図で
ある。これらの図において、１は搬送手段としてのロー
ラコンベアであり、このローラコンベア１は、基板Ｓを
図１の矢印方向に搬送するものであり、この搬送経路に
より基板Ｓを搬送する間に、洗浄液が供給されて基板Ｓ
の表面が洗浄される。また、所望によっては、搬送経路
の下側からも洗浄液を供給して、表裏両面の洗浄を行う
ように構成することもできる。

【００１５】ローラコンベア１は、第１の回転軸２を有
し、この第１の回転軸２には基板Ｓを搬送するために、
基板Ｓの左右両側の端部と係合する一対の側部駆動ロー
ラ３が、第１の回転軸２と一体回転するように設けられ
ている。側部駆動ローラ３は所定の直径を有するローラ
本体３ａの一端に、このローラ本体３ａより大径のフラ
ンジ部３ｂを連設したものから構成される。側部駆動ロ
ーラ３は、第１の回転軸２における左右両側の位置に配
置されており、両側部駆動ローラ３のローラ本体３ａは
内側を向き、フランジ部３ｂは外側に位置している。従
って、両側部駆動ローラ３のフランジ部３ｂ間の間隔が
ローラコンベア１における基板Ｓの搬送方向と直交する
方向の長さを規定するものであり、基板Ｓの両側部は、
両側部駆動ローラ３のローラ本体３ａからフランジ部３
ｂにかけてのコーナ部分に当接する状態で図１の矢印方
向に搬送される。以上の構成を有する第１の回転軸２
は、基板Ｓの搬送方向に向けて、一定のピッチ間隔をも
って多数配列されている。

【００１６】また、図中において、４は第２の回転軸を
示し、第２の回転軸４には、各々１個の凸面形成ローラ
５が取り付けられている。凸面形成ローラ５は円形ロー
ラからなり、望ましくはその外周面は凸曲面形状となっ
ている。そして、凸面形成ローラ５は、第１の回転軸２
に設けた側部駆動ローラ３のローラ本体３ａと同じ直径
を有するものであり、しかも基板Ｓの搬送方向と直交す
る方向において、凸面形成ローラ５は、両側部駆動ロー
ラ３，３の中間位置であって、これら両側部駆動ローラ
３，３から等しい間隔となる位置に配置されている。第
２の回転軸４も基板Ｓの搬送方向に一定のピッチ間隔を
もって多数配列されており、好ましくは第１の回転軸２
のピッチ間隔の中間の位置に配置される。この第２の回
転軸４は第１の回転軸２より高い位置に配設されてい
る。ただし、この第２の回転軸４の突出高さは側部駆動
ローラ３の半径寸法を越えないものである。

【００１７】第１，第２の回転軸２，４は、その一端側
が歯車伝達機構やベルト伝達機構等からなる駆動ユニッ
ト６に接続されており、また他端側は軸受ユニット７に
接続されて、それぞれ回転自在に支承されている。第
１，第２の回転軸２，４は同じ速度で同じ方向に回転駆
動させることから、同一の駆動源により回転駆動させる
ように構成しても良いが、第１の回転軸２と第２の回転
軸４とは高さ位置が異なることから、異なる駆動源によ
り回転駆動するように構成しても良い。

【００１８】さらに、第２の回転軸４における凸面形成
ローラ５に対向する位置であって、その上方位置には、
洗浄液噴射手段８が配置されている。洗浄液噴射手段８
は基板Ｓの搬送方向に向けて配列した複数のノズル８ａ
を有するものであり、これらノズル８ａからは、例えば
超音波により加振された純水等の洗浄液を噴射させて、
基板Ｓの表面に対してシャワリングするようにしてい
る。従って、ローラコンベア１により搬送される基板Ｓ
は、この洗浄液噴射手段８と対面する間は、その表面に
洗浄液が噴射されて、その表面の洗浄が行われる洗浄工
程となる。なお、洗浄液噴射手段８は、ローラコンベア
１の下部位置にも設けることができ、また上部位置にお
いても、その中央部だけでなく、左右両側にそれぞれ１
乃至複数列にわたってノズルを設けるように構成するこ
ともできる。

【００１９】ここで、図１に示したように、ローラコン
ベア１における第１の回転軸２に取り付けた左右の側部
駆動ローラ３，３におけるフランジ部３ｂ，３ｂ間の間
隔Ｌ ₂ は、基板Ｓの幅方向の寸法Ｌ₁ より小さくなって
いる。従って、基板Ｓをローラコンベア１上に設置した
時には、この基板Ｓの両側部は側部駆動ローラ３のフラ
ンジ部３ｂに規制されて、ローラコンベア１の搬送方向
と直交する方向に、つまり左右方向にその寸法差分だけ
湾曲するように撓むことになる。しかも、第２の回転軸
４に取り付けた凸面形成ローラ５は両側部駆動ローラ
３，３間の中間位置に位置しており、基板Ｓの中央部に
おける裏面がこの凸面形成ローラ５と当接する。凸面形
成ローラ５は側部駆動ローラ３より高所に配置されてお
り、しかも側部駆動ローラ３と同じ速度で同じ方向に回
転させるようにしている。その結果、図３に示したよう
に、基板Ｓの左右方向、つまり搬送方向と直交する方向
において、中間位置が最突出部となり、左右両端部に向
かうに応じて下方に傾斜する凸湾曲形状となった状態
で、両回転軸２，４の回転により側部駆動ローラ３及び
凸面形成ローラ５に駆動されて搬送される。従って、基
板Ｓは凸面形成ローラ５の位置を中心として、実質的に
左右対称の傾斜面が形成された状態で洗浄工程内を搬送
される。

【００２０】前述したローラコンベア１により基板Ｓを
搬送する間に、その表面に対して洗浄が行われるが、例
えば洗浄工程の前段ではレジスト剥離等の工程があり、
また洗浄工程の後段では乾燥工程がある等、基板Ｓに対
する各種の処理が行われる。そして、洗浄工程の前段や
後段においては、基板Ｓを水平状態で搬送する方が、円
滑かつ効率的に、しかも確実な処理が行われる。従っ
て、洗浄工程の前段及び後段に、ローラコンベア１の第
１の回転軸２に対して側部駆動ローラをスプライン係合
させる等により、その軸線方向に移動可能とした搬送幅
可変部を設けて、この搬送幅可変部に基板Ｓが進入する
と、側部駆動ローラを移動させることによって、基板Ｓ
を凸湾曲形状に変形させたり、水平状態に戻したりする
ように構成する。

【００２１】以上の構成を有するローラコンベア１によ
る基板Ｓの搬送中において、遅くとも洗浄液噴射手段８
を設けた洗浄工程に進入する前の段階で、図３に示した
ように、搬送方向と直交する方向の中間部が最突出し、
左右の両側部に向けて斜め下方に傾斜させる。そして、
基板Ｓが洗浄液噴射手段８の下部位置にまで到達する
と、この洗浄液噴射手段８のノズル８ａから噴射される
超音波加振された純水等からなる洗浄液が基板Ｓの表面
に供給される。ここで、基板Ｓを効率的かつ高精度に洗
浄するには、基板Ｓの表面に沿って洗浄液が流れるよう
になし、しかもできるだけ流速を速くする必要がある。
基板Ｓはその搬送方向と直交する方向に傾斜しているの
で、この傾斜面に沿うように洗浄液の流れが形成され
る。その結果、基板Ｓの表面に付着する粒子状や液状の
汚損物が、この洗浄液の流れに押し出されるようにして
基板Ｓの表面から排出される。

【００２２】而して、基板Ｓの洗浄性を高めるには、基
板Ｓの傾斜角をできるだけ大きくする。このためには、
図３に示したように、第１の回転軸２の軸芯Ｒ₁ より第
２の回転軸４の軸芯Ｒ₂ の方をできるだけ高い位置して
いる。ただし、第２の回転軸４が基板Ｓと干渉しないよ
うにする必要があり、従ってこの第２の回転軸４は側部
駆動ローラ３におけるローラ本体３ａの基板Ｓへの当接
部より僅かに下部に位置させる。

【００２３】基板Ｓに供給された洗浄液は、洗浄工程内
でこの基板Ｓの左右両側部から回収されることになる。
従って、洗浄工程を通過した直後に基板Ｓの表面からの
液切れが行われ、洗浄液が次の工程に持ち出されるのを
防止することができる。また、前工程において、基板Ｓ
を水平状態に搬送する間に、所定の処理液を供給して液
処理が行われている場合には、洗浄工程に入る前の段階
で、基板Ｓを凸湾曲形状に変形させることによって、前
工程からの処理液の持ち込みが阻止されることになる。
従って、基板Ｓに対して例えばレジスト剥離等の液処理
を行った後に、処理液を水で置換する、所謂水置換を行
う場合においても、迅速かつ確実に、しかも基板Ｓの全
面にわたって処理液と水との置換を行うことができる。

【００２４】ローラコンベア１により搬送される基板Ｓ
は、実質的に傾斜状態で搬送されることになるが、この
基板Ｓの荷重は、左右に位置する側部駆動ローラ３，３
と、中央に位置する凸面形成ローラ５とによって分散的
に支承されることになる。従って、各ローラ３，５の耐
久性が向上し、かつ摩耗粉等の発生を抑制することがで
きるようになる。しかも、基板Ｓは湾曲変形している
が、この変形は自重の作用によるものであるので、中間
部に位置する凸面形成ローラ５はもとより、両側端部が
当接する側部駆動ローラ３には、基板Ｓの自重の一部の
みが作用するだけで、格別押し付け力等が作用すること
はない。

【００２５】前述した実施の形態においては、第１，第
２の回転軸２，４を同じ速度で回転させるために、側部
駆動ローラ３のローラ本体３ａと、凸面形成ローラ５と
の外径寸法を同じとしたが、図４及び図５に示したよう
に、第２の回転軸１４に取り付けた凸面形成ローラ１５
の直径を第１の回転軸４に設けた側部駆動ローラ３のロ
ーラ本体３ａより大径とすると、第１，第２の回転軸
２，１４を同じ高さ位置に配置できる。また、凸面形成
ローラ１５の直径を、第１の回転軸２及びそれに取り付
けた側部駆動ローラ３のローラ本体３ａの直径とは無関
係に設定できる。従って、凸面形成ローラ１５の直径を
大きくすればする程、基板Ｓの湾曲度合い、つまり基板
Ｓの左右両側への傾斜角をより大きくできる。その結
果、基板Ｓに供給された洗浄液の流速をさらに速められ
る。ただし、第１，第２の回転軸２，１４を同じ回転数
で駆動したのでは、側部駆動ローラ３の基板Ｓへの当接
部の回転周速と凸面形成ローラ１５の基板Ｓへの当接部
の回転周速に差が生じて、基板Ｓといずれかのローラと
の間にスリップが生じてしまう。そこで、第１の回転軸
２の回転数をＮ₁ 、第２の回転軸１４の回転数をＮ₂ と
し、側部駆動ローラ３の直径をｄ₁ 、凸面形成ローラ１
５の直径をｄ₂ とした時に、Ｎ₁ ＝Ｎ₂ ・ｄ₂ ／ｄ₁ な
る関係を持たせるようにする。

【００２６】さらに、図６及び図７に示したように、凸
面形成ローラ２５を側部駆動ローラ３が取り付けられて
いる第１の回転軸２に装着する構成とすることができ
る。そして、凸面形成ローラ２５の直径を側部駆動ロー
ラ３のローラ本体３ａの直径より大きくすることによっ
ても、基板Ｓを搬送方向と直交する方向に凸湾曲形状と
して搬送することができる。従って、この場合には第２
の回転軸を設ける必要がなくなる。ただし、凸面形成ロ
ーラ２５を側部駆動ローラ３と共に第１の回転軸２によ
り回転駆動すると、基板Ｓの凸面形成ローラ２５への当
接部と側部駆動ローラ３への当接部とでは回転周速に差
が生じるので、凸面形成ローラ２５は第１の回転軸２に
対して軸受２５ａを介して回転自在に連結するようにな
し、もって凸面形成ローラ２５を第１の回転軸２に対し
て自由回転することによって、回転周速に差が出ないよ
うにする。従って、この場合は、基板Ｓの送り駆動は両
側に位置する両側部駆動ローラ３だけとなる。

【００２７】

【発明の効果】本発明は、以上のように構成したので、
薄板基板の表面を傾けた状態で搬送する間にその表面洗
浄を行うに当って、基板や搬送手段に部分的に摩耗を生
じさせたり、基板を損傷させたりすることなく円滑に搬
送できる等の効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の一形態を示す薄板基板の洗浄装
置の概略構成図である。

【図２】基板Ｓを洗浄している状態での図１のＡ−Ａ位
置の断面図である。

【図３】回転軸を省略して、図２の矢印Ｂ方向から見た
構成説明図である。

【図４】本発明の第２の実施の形態を示す薄板基板の洗
浄装置を示す図３と同様の説明図である。

【図５】図４の薄板基板の洗浄装置における側部駆動ロ
ーラと凸面形成ローラとの配置関係を示す説明図であ
る。

【図６】本発明の第３の実施の形態を示す薄板基板の洗
浄装置における要部構成説明図である。

【図７】図６の薄板基板の洗浄装置における側部駆動ロ
ーラと凸面形成ローラとの外径差を示す説明図である。

【符号の説明】

１ローラコンベア２第１の回転軸３側部駆動ローラ３ａローラ本体３ｂフランジ部４，１４第２の回転軸５，１５，２５凸面形成ローラ８洗浄液噴射手段８ａノズル２５ａ軸受Ｓ基板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｈ０１Ｌ 21/304 ６４８Ｈ０１Ｌ 21/304 ６４８Ａ (72)発明者権守和彦東京都渋谷区東３丁目16番３号日立電子エンジニアリング株式会社内Ｆターム(参考） 3B201 AA02 AB14 BB21 BB24 BB81 BB83 BB93 3F033 BA06 BB14 BC03 GA06 GB08 GD07 5F031 CA05 GA53 MA23

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】薄板の基板の搬送経路の上部位置に設置
した処理液噴射手段から噴射される処理液を基板表面に
噴射することにより行われる液処理装置において、前記
基板を搬送経路に沿って搬送するための装置であって、基板の搬送方向に所定のピッチ間隔をもって配設され、
この搬送方向と直交する方向の両側部に配置した一対の
側部駆動ローラと、前記両側部駆動ローラ間に位置し、
両側部駆動ローラから実質的に等距離となるように配置
した凸面形成ローラとを備え、前記両側部駆動ローラは、ローラ本体と、このローラ本
体より大径のフランジ部とから構成して、フランジ部を
外向きに配設し、前記基板を、その搬送方向と直交する方向に向けて凸湾
曲形状にして搬送するために、両側部駆動ローラのフラ
ンジ部間の間隔を前記基板の搬送方向と直交する方向の
長さ寸法より短くし、かつ前記基板の両側部駆動ローラ
のローラ本体への当接部より前記凸面形成ローラへの当
接部の方が上部に配置し、前記処理液噴射手段は少なくとも前記凸面形成ローラの
上方位置に配置する構成としたことを特徴とする薄板基
板の搬送装置。
【請求項２】前記側部駆動ローラを第１の回転軸に取
り付け、また前記凸面形成ローラを第２の回転軸に取り
付けて、これら第１，第２の回転軸を搬送方向に位置を
違えて配置し、かつ前記第２の回転軸を前記第１の回転
軸より高い位置に配置するようになし、さらに前記側部
駆動ローラのローラ本体の直径と、前記凸面形成ローラ
の直径とを同じにする構成としたことを特徴とする請求
項１記載の薄板基板の搬送装置。
【請求項３】前記側部駆動ローラを第１の回転軸に取
り付け、また前記凸面形成ローラを第２の回転軸に取り
付けて、これら第１，第２の回転軸を搬送方向に位置を
違えるが、同じ高さ位置に配置し、前記凸面形成ローラ
の直径を前記側部駆動ローラのローラ本体の直径より大
きくし、これら凸面形成ローラとローラ本体との外周面
の回転周速が同じになるように、前記第１，第２の回転
軸の回転数を異ならせる構成としたことを特徴とする請
求項１記載の薄板基板の搬送装置。
【請求項４】前記両側部駆動ローラと前記凸面形成ロ
ーラとを同じ回転軸に設け、この凸面形成ローラの外径
を前記側部駆動ローラのローラ本体の外径より大きく
し、側部駆動ローラは前記回転軸と一体回転するように
装着する一方、凸面形成ローラは前記回転軸に回転自在
に装着する構成としたことを特徴とする請求項１記載の
薄板基板の搬送装置。
【請求項５】薄板の基板を搬送経路に沿って搬送する
間に、この基板の上部位置から所定の処理液を噴射する
ことにより行われる基板の液処理装置に設けられ、処理
液の噴射位置を通過するように基板を搬送する方法であ
って、前記基板が前記処理液の噴射位置に進入する前に、この
基板を、その搬送方向と直交する方向における中間部が
上方に突出する凸湾曲形状となるように変形させ、このように変形した基板に対して、その最突出部に向け
て処理液を噴射することを特徴とする薄板基板の搬送方
法。