JP4908316B2 - 洗浄装置、フラットパネルディスプレイの製造装置及びフラットパネルディスプレイ - Google Patents
洗浄装置、フラットパネルディスプレイの製造装置及びフラットパネルディスプレイ Download PDFInfo
- Publication number
- JP4908316B2 JP4908316B2 JP2007142094A JP2007142094A JP4908316B2 JP 4908316 B2 JP4908316 B2 JP 4908316B2 JP 2007142094 A JP2007142094 A JP 2007142094A JP 2007142094 A JP2007142094 A JP 2007142094A JP 4908316 B2 JP4908316 B2 JP 4908316B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- substrate
- brush
- end surface
- flat panel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims description 125
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 146
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 6
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 25
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 14
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 10
- 230000008569 process Effects 0.000 description 10
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 9
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 7
- 210000004209 hair Anatomy 0.000 description 6
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 6
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 5
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 4
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 2
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Description
最初に、第1の実施形態について説明する。図1には、搬送手段の概略構成を示している。搬送手段はローラ搬送体1から構成されている。ローラ搬送体1は、駆動軸2と複数のローラ3とが多段になって構成され、複数のローラ3は駆動軸2の軸線方向に所定の間隔で配置されている。駆動軸2は図示しない回転駆動手段に接続されて等速回転する構成を採っており、基板Sはローラ3上を等速に水平搬送されていく。ローラ搬送体1は前段の処理工程から後段の処理工程に接続され、基板Sはローラ搬送体1に搬送されて順次処理が施される。なお、ここでは基板は水平搬送としているが、基板の搬送方向あるいは搬送方向と直交する方向に傾斜させて搬送するものであってもよい。
次に、本発明の第2の実施形態について説明する。前述した第1の実施形態では、モータ14の回転速度に変化を持たせていたが、本実施形態では、ブラシユニット12A、12Bの昇降制御を行う。このため、昇降制御を行う各部材を具備した洗浄装置を、図4及び図5に示す。図4はブラシユニット12A、12Bが離間している状態を、図5はブラシユニット12A、12Bが近接している状態を示している。図4及び図5において、回転軸10、ブラシ11、ブラシユニット12A、12B、軸受ブロック13、モータ14、基板検出装置16は、前述した第1の実施形態と同一であるため、説明を省略する。
11 ブラシ 12A ブラシユニット
12B ブラシユニット 14 モータ
15 回転速度制御装置 16 基板検出装置
26 カム駆動モータ 27 昇降制御装置
S 基板 SA 先端面
SB 表面
Claims (6)
- 基板を搬送する搬送手段と、
前記搬送手段により搬送される基板を擦動することにより洗浄する洗浄手段と、
前記搬送手段により搬送される基板の表面と先端面とで前記基板の搬送方向に洗浄度を変化させ、前記表面よりも低い洗浄度で前記先端面を洗浄するように前記洗浄手段を制御する制御手段と、を有する洗浄装置。 - 前記洗浄手段は、回転駆動手段の駆動力により回転して基板を擦動することにより洗浄する回転式擦動部材であり、
前記制御手段は、前記搬送手段を搬送される基板のうち、前記先端面が前記洗浄手段に突入する際には前記回転式擦動部材の回転速度を低速にし、前記表面に前記洗浄手段が接触を開始した後には前記回転式擦動部材の回転速度を高速に制御する、ことを特徴とする請求項1記載の洗浄装置。 - 前記洗浄手段は、回転駆動手段の駆動力により回転して基板を擦動動作により洗浄する回転式擦動部材であり、
前記制御手段は、前記搬送手段を搬送される基板のうち、前記先端面が前記洗浄手段に突入する際には前記回転式擦動部材の回転を停止し、前記表面に前記洗浄手段が接触を開始した後には前記回転式擦動部材を回転させる制御を行う、ことを特徴とする請求項1記載の洗浄装置。 - 前記制御手段は、前記搬送手段を搬送される基板のうち、前記先端面が前記洗浄手段の配置位置に進入を開始するまでは前記洗浄手段を基板から離間させ、進入開始後は前記洗浄手段を基板に接触させる制御を行う、ことを特徴とする請求項1記載の洗浄装置。
- 請求項1乃至4のうち何れか1項に記載の洗浄装置を有するフラットパネルディスプレイの製造装置。
- 請求項5記載のフラットパネルディスプレイの製造装置により製造されたフラットパネルディスプレイ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007142094A JP4908316B2 (ja) | 2007-05-29 | 2007-05-29 | 洗浄装置、フラットパネルディスプレイの製造装置及びフラットパネルディスプレイ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007142094A JP4908316B2 (ja) | 2007-05-29 | 2007-05-29 | 洗浄装置、フラットパネルディスプレイの製造装置及びフラットパネルディスプレイ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008296088A JP2008296088A (ja) | 2008-12-11 |
JP4908316B2 true JP4908316B2 (ja) | 2012-04-04 |
Family
ID=40170127
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007142094A Expired - Fee Related JP4908316B2 (ja) | 2007-05-29 | 2007-05-29 | 洗浄装置、フラットパネルディスプレイの製造装置及びフラットパネルディスプレイ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4908316B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101982206B1 (ko) * | 2012-09-20 | 2019-05-27 | 삼성디스플레이 주식회사 | 기판 세정 장치 |
CN103230886A (zh) * | 2013-05-06 | 2013-08-07 | 济南同镒节能材料有限公司 | 一种压型板烤漆前表面清洁装置 |
KR101829640B1 (ko) * | 2015-11-05 | 2018-03-29 | 주식회사 케이씨텍 | 기판 세정 장치 및 이를 이용한 기판 세정 방법 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3533884B2 (ja) * | 1997-06-03 | 2004-05-31 | 日立電子エンジニアリング株式会社 | 基板洗浄装置 |
JP2001300437A (ja) * | 2000-04-25 | 2001-10-30 | Kyokuto Sanki Co Ltd | 自動畳表清浄装置 |
JP3790691B2 (ja) * | 2001-09-05 | 2006-06-28 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板乾燥方法及び基板乾燥装置 |
KR100580144B1 (ko) * | 2003-08-07 | 2006-05-15 | 주식회사 디엠에스 | 평판 디스플레이용 세정장치 |
-
2007
- 2007-05-29 JP JP2007142094A patent/JP4908316B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008296088A (ja) | 2008-12-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3919464B2 (ja) | 搬送装置、洗浄装置及び現像装置 | |
JP4003837B2 (ja) | トレッドを備えたローラおよびそれを含むシステム | |
JP3533884B2 (ja) | 基板洗浄装置 | |
JP4908316B2 (ja) | 洗浄装置、フラットパネルディスプレイの製造装置及びフラットパネルディスプレイ | |
CN209792056U (zh) | 玻璃基板的清洗装置 | |
JP4022288B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP2010114123A (ja) | 基板処理装置及び基板洗浄方法 | |
JP2003086654A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2007160170A (ja) | 基板の処理装置 | |
JP4602567B2 (ja) | 基板の洗浄装置 | |
JP3628919B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP2001054765A (ja) | 基板洗浄装置 | |
JP2006245125A (ja) | 基板の処理装置及び処理方法 | |
US20070221256A1 (en) | Methods and apparatus for improving edge cleaning of a substrate | |
KR100525927B1 (ko) | 액정 디스플레이 장치용 기판 처리 장치 | |
JP2000286320A (ja) | 基板搬送装置 | |
JP2002096038A (ja) | 基板の処理装置 | |
JPH10314684A (ja) | ディスク形ワークの洗浄方法及び装置 | |
JP2000254605A (ja) | 可撓性基板の洗浄装置 | |
JP2006239503A (ja) | 基板の処理装置 | |
JP2010017658A (ja) | 基板端面の洗浄装置及び洗浄方法 | |
JP2007157936A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JPH10337543A (ja) | 洗浄処理装置 | |
JP2008140928A (ja) | 洗浄装置 | |
JP2007250806A (ja) | 基板処理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20091006 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110330 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110510 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110705 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111220 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120112 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150120 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |