JP2010017658A - 基板端面の洗浄装置及び洗浄方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】この発明は基板の端面を確実に洗浄することができるようにした洗浄装置を提供することにある。
【解決手段】所定方向に搬送される基板の搬送方向と交差する方向の端面を洗浄する洗浄装置であって、
回転軸線を基板の板面と直交させて配置され基板の端面の厚さ方向全長にわたって接触する第1のブラシ毛23bを有する上部洗浄ブラシ23と、回転軸線を上部洗浄ブラシと同じにして配置され第1のブラシ毛と同じ位置で第1のブラシ毛間に入り込んで基板の端面の厚さ方向全長にわたって接触する第2のブラシ毛24bを有する下部洗浄ブラシ24と、上部洗浄ブラシと下部洗浄ブラシを逆方向に回転駆動させて第1のブラシ毛と第2のブラシ毛とで基板の端面を洗浄させる差動歯車機構34を具備する。
【選択図】 図2
【解決手段】所定方向に搬送される基板の搬送方向と交差する方向の端面を洗浄する洗浄装置であって、
回転軸線を基板の板面と直交させて配置され基板の端面の厚さ方向全長にわたって接触する第1のブラシ毛23bを有する上部洗浄ブラシ23と、回転軸線を上部洗浄ブラシと同じにして配置され第1のブラシ毛と同じ位置で第1のブラシ毛間に入り込んで基板の端面の厚さ方向全長にわたって接触する第2のブラシ毛24bを有する下部洗浄ブラシ24と、上部洗浄ブラシと下部洗浄ブラシを逆方向に回転駆動させて第1のブラシ毛と第2のブラシ毛とで基板の端面を洗浄させる差動歯車機構34を具備する。
【選択図】 図2
Description
この発明は液晶表示装置などのFDP(Flat Display Panel)に用いられる基板の端面を洗浄する洗浄装置及び洗浄方法に関する。
FDPとしてのたとえば液晶表示装置の製造工程においては、ガラス製の基板を高い清浄度で洗浄することが要求される工程がある。基板を洗浄する方式としては、洗浄液中に基板を浸漬するディップ方式や基板を一枚ずつ洗浄する枚葉方式があり、最近では高い清浄度で洗浄することができる枚葉方式が採用されることが多くなってきている。
枚葉方式の1つとして回転駆動される洗浄ブラシを用いて洗浄する洗浄装置が知られている。この洗浄装置は上記基板を搬送ローラによって所定方向に搬送するとともに、この基板の搬送経路に上記洗浄ブラシを配置し、この洗浄ブラシを回転させながらブラシ毛を上記基板の上下面に接触させ、かつその接触箇所に洗浄液を供給することで、基板を洗浄するようにしている。
上記基板は上下面が汚れているだけでなく、端面も汚れていることが知られており、そのため上下面だけでなく、端面も洗浄するということが行なわれている。とくに、液晶表示装置に用いられるガラス製の基板の場合、大きな基板を所定のサイズに割断し、割断された端面を研磨加工するため、その端面の微細な凹凸部に研磨剤の微粒子が残留し、その微粒子が汚れの原因となっている。
特許文献1には半導体装置の製造に用いられるフォトマスクなどの基板の端面を洗浄する端面洗浄装置が示されている。この先行技術は基板の端面を、この基板の端面に対して軸方向を平行に配置したスクラブ用ブラシによって洗浄することが示されている。
2002−49144号公報
ところで、特許文献1のように基板の端面にスクラブ用ブラシを接触させ、このスクラブ用ブラシを基板の端面に対して平行な軸線を中心に一方向に回転させるだけでは、端面に微細な凹凸があって、その凹部に研磨剤が入り込んでいる場合、一方向に回転するスクラブ用ブラシのブラシ毛は、上記凹部の回転方向の下流側の一端部の隅部には入り込み易いが、回転方向の上流側の他端部の隅部には入り込み難い。
そのため、上記凹部に入り込んだ微粒子のうち、スクラブ用ブラシの回転方向の下流側の隅部に位置する微粒子は比較的容易に掻きだすことができるものの、回転方向の上流側の隅部に位置する微粒子は確実に除去することができないということがあるため、洗浄効果が十分に得られないということがある。
また、基板の端面に一方向に回転するスクラブ用ブラシを押し当ててその端面を洗浄するようにすると、上記スクラブ用ブラシによって基板の端面から微粒子を除去しても、微粒子が付着したスクラブ用ブラシのブラシ毛が上記端面に繰り返して接触することになる。そのため、端面から除去されてブラシ毛に付着した微粒子の一部が上記端面に再付着するということがあるから、そのことによっても十分な洗浄効果が得られないということがある。
この発明は、基板の端面に付着した微粒子を、その端面が凹凸状であっても確実に洗浄除去することができ、しかも端面から除去された微粒子がその端面に再付着することがないようにした基板端面の洗浄装置及び洗浄方法を提供することにある。
この発明は、所定方向に搬送される基板の搬送方向と交差する方向の端面を洗浄する洗浄装置であって、
回転軸線を上記基板の板面と直交させて配置され上記基板の端面の厚さ方向全長にわたって接触する第1のブラシ毛を有する上部洗浄ブラシと、
回転軸線を上記上部洗浄ブラシと同じにして配置され上記第1のブラシ毛と同じ位置でこの第1のブラシ毛間に入り込んで上記基板の端面の厚さ方向全長にわたって接触する第2のブラシ毛を有する下部洗浄ブラシと、
上記上部洗浄ブラシと上記下部洗浄ブラシを逆方向に回転駆動させて上記第1のブラシ毛と第2のブラシ毛とで上記基板の端面を洗浄させる回転駆動手段と
を具備したことを特徴とする基板端面の洗浄装置にある。
回転軸線を上記基板の板面と直交させて配置され上記基板の端面の厚さ方向全長にわたって接触する第1のブラシ毛を有する上部洗浄ブラシと、
回転軸線を上記上部洗浄ブラシと同じにして配置され上記第1のブラシ毛と同じ位置でこの第1のブラシ毛間に入り込んで上記基板の端面の厚さ方向全長にわたって接触する第2のブラシ毛を有する下部洗浄ブラシと、
上記上部洗浄ブラシと上記下部洗浄ブラシを逆方向に回転駆動させて上記第1のブラシ毛と第2のブラシ毛とで上記基板の端面を洗浄させる回転駆動手段と
を具備したことを特徴とする基板端面の洗浄装置にある。
上記基板は回転駆動されるローラ軸に設けられたローラに下面を接触させて搬送されるようになっていて、
上記回転駆動手段は、上端部に上記上部洗浄ブラシが下向きに設けられ下端部に第1の傘歯車が設けられた中軸と、この中軸に回転可能に外嵌され上端に上記下部洗浄ブラシが上向きに設けられ下端部に第2の傘歯車が設けられた中空軸と、一端に上記第1、第2の傘歯車に結合した第3の傘歯車が設けられた動力伝達軸と、この動力伝達軸の他端に設けられ上記ローラ軸に外嵌固定されたウオーム歯車に結合したウオームとによって構成されていることが好ましい。
上記回転駆動手段は、上端部に上記上部洗浄ブラシが下向きに設けられ下端部に第1の傘歯車が設けられた中軸と、この中軸に回転可能に外嵌され上端に上記下部洗浄ブラシが上向きに設けられ下端部に第2の傘歯車が設けられた中空軸と、一端に上記第1、第2の傘歯車に結合した第3の傘歯車が設けられた動力伝達軸と、この動力伝達軸の他端に設けられ上記ローラ軸に外嵌固定されたウオーム歯車に結合したウオームとによって構成されていることが好ましい。
上記第1の傘歯車、第2の傘歯車、第3の傘歯車、ウオーム歯車及びウオームは非接触で結合して動力を伝達する磁気歯車であることが好ましい。
この発明は、所定方向に搬送される基板の搬送方向と交差する方向の端面を洗浄する洗浄方法であって、
ブラシ毛を下方に向けた上部洗浄ブラシと、ブラシ毛を上方に向けた下部洗浄ブラシの互いのブラシ毛を入り込ませた状態で上記基板の端面の厚さ方向全長にわたって接触させる工程と、
上記上部洗浄ブラシと下部洗浄ブラシを逆方向に回転駆動して上記基板の端面を洗浄する工程と
を具備したことを特徴とする基板端面の洗浄方法にある。
ブラシ毛を下方に向けた上部洗浄ブラシと、ブラシ毛を上方に向けた下部洗浄ブラシの互いのブラシ毛を入り込ませた状態で上記基板の端面の厚さ方向全長にわたって接触させる工程と、
上記上部洗浄ブラシと下部洗浄ブラシを逆方向に回転駆動して上記基板の端面を洗浄する工程と
を具備したことを特徴とする基板端面の洗浄方法にある。
この発明によれば、上下一対の洗浄ブラシを互いのブラシ毛を入り込ませた状態で基板の端面に接触させ、これら洗浄ブラシを逆方向に回転させるようにした。そのため、基板の端部に凹凸があって、その凹部に微粒子が入り込んでいても、凹部の一端部と他端部の隅部に入り込んだ微粒子を逆方向に回転する一対の洗浄ブラシによって確実に掻き出すことができる。
しかも、一対の洗浄ブラシは互いのブラシ毛を接触させて逆方向に回転する。そのため、上下一対の洗浄ブラシのブラシ毛によって凹部から掻き出されてそのブラシ毛に付着した微粒子は、各洗浄ブラシのブラシ毛がぶつかり合うことで払い落とされるから、凹部から掻き出された微粒子が基板の端面に再付着するのを防止できる。
以下、この発明の一実施の形態を図面を参照しながら説明する。
図1は液晶表示装置などに用いられるガラス製の基板Wの端面を洗浄する端面洗浄装置の横断面図であって、この洗浄装置はチャンバ1を備えている。このチャンバ1の一端には基板Wの搬入口2がスリット状に形成され、他端には同じくスリット状の搬出口3が形成されている。
図1は液晶表示装置などに用いられるガラス製の基板Wの端面を洗浄する端面洗浄装置の横断面図であって、この洗浄装置はチャンバ1を備えている。このチャンバ1の一端には基板Wの搬入口2がスリット状に形成され、他端には同じくスリット状の搬出口3が形成されている。
上記チャンバ1内の幅方向両端部には支持板5が矢印Fで示す基板Wの搬送方向全長にわたって設けられている。一対の支持板5には両端部が軸受6によって回転可能に支持された複数のローラ軸7が所定間隔で架設されている。各ローラ軸7には軸方向に所定間隔で複数の搬送ローラ8が設けられている。一方の支持板5から突出した各ローラ軸7の一端部には第1の歯車9が設けられている。
上記チャンバ1の上記ローラ軸7の一端部側には、ローラ軸7と平行に伝動軸11が回転可能に支持されている。この伝動軸11には上記第1の歯車9に噛合する第2の歯車12が設けられている。
なお、第1、第2の歯車9,12は軸線を互いに直交させたローラ軸7と伝動軸11との間で動力を伝達することができるものであって、たとえばウオームとウオームホイール、或いは一対の傘歯車などが用いられる。
上記伝動軸11の軸方向中途部には従動プーリ14が設けられている。上記チャンバ1の外側面で、上記従動プーリ14に対応する部位には駆動源15が設けられている。この駆動源15の出力軸16には駆動プーリ17が設けられている。この駆動プーリ17と上記従動プーリ14とには同図に鎖線で示すチェーン18が張設されている。
したがって、上記駆動源15が作動すれば、駆動プーリ17と従動プーリ14に張設されたチェーン18を介して上記伝動軸11が回転駆動されるから、この伝動軸11に設けられた第2の歯車12及びこの第2の歯車12に噛合した第1の歯車9を介してローラ軸7が所定方向に回転駆動される。それによって、各ローラ軸7に設けられた搬送ローラ8によって支持された基板Wは上記ローラ軸7の回転方向、つまり矢印F方向に搬送されることになる。
ローラ軸7に設けられた搬送ローラ8によって搬送される基板Wの、搬送方向と直交する幅方向の両端面は押えローラ19によってガイドされる。それによって搬送ローラ8により搬送される矢印F方向に搬送される基板Wが蛇行するのが防止される。
なお、上記チャンバ1内の上記一対の支持板5よりも幅方向の外方にはそれぞれ遮蔽板21が設けられている。各遮蔽板21は上記チャンバ1内の幅方向両端部に空間部1aを遮蔽して隔別している。それによって、上記空間部1aで塵埃が発生しても、その塵埃が上記遮蔽板21によって隔別された空間部1aから基板Wが搬送される空間部1bに流出するのを防止している。
図2に示すように、上記搬送ローラ8によって搬送される基板Wの幅方向の両端面はそれぞれ上下一対の洗浄ブラシ、つまり上部洗浄ブラシ23と下部洗浄ブラシ24によって洗浄される。なお、図2には基板Wの幅方向一方に設けられた一対の洗浄ブラシ23、24を示し、図1には一対の上部洗浄ブラシ23だけを示している。
上下一対の各洗浄ブラシ23,24は円盤状の基部23a,24aと、各基部23a,24aの中心部を除く部分に環状に植設されたブラシ毛23b,24bを有する。各洗浄ブラシ23,24のブラシ毛23b,24bは基板Wの厚さ寸法に比べて十分に長く設定されている。
上記上部洗浄ブラシ23の基部23aはブラシ毛23bが植設された面を下に向けて中軸25の上端部に着脱可能に取付け固定される。この中軸25はその下端部が上記チャンバ1の内底面に設けられた軸受体26によって軸線を垂直にして回転可能に支持されている。上記中軸25は、上記上部洗浄ブラシ23のブラシ毛23bが搬送ローラ8によって矢印F方向に搬送される上記基板Wの端面eの厚さ方向全長にわたって接触するよう、上記上部洗浄ブラシ23の高さを設定している。
上記中軸25には中空軸27が回転可能に外嵌されている。この中空軸27の上端には上記下部洗浄ブラシ24の基部24aがブラシ毛24bが設けられた面を上に向けて着脱可能に取付け固定されている。
上記中空軸27の軸方向中途部は支持アーム28の一端に設けられた軸受28aによって回転可能に支持されている。この支持アーム28の他端は上記チャンバ1内に立設された第1の支柱部材29に取付け固定されている。
上記下部洗浄ブラシ24は、上記第1の支柱部材29によってそのブラシ毛24bが基板Wの端面の厚さ方向全長にわたって接触し、しかも上記上部洗浄ブラシ23のブラシ毛23bの間に入り込む高さに支持されている。
上記中軸25の下部には第1の傘歯車31が歯面を上に向けて外嵌固定され、上記中空軸27の下端部には第2の傘歯車32が歯面を下に向けて上記中軸25に対して回転可能で、しかも上記第1の傘歯車31に対して所定の間隔で外嵌固定されている。
上記第1、第2の歯車31,32には第3の傘歯車33が結合されている。上記第1乃至第3の傘歯車31〜33にはそれぞれの歯が磁化されることで形成された磁気歯車が用いられていて、これら傘歯車31〜33は異なる極性の磁気力によって非接触で結合している。
すなわち、第1乃至第3の傘歯車31〜33は、上記第3の傘歯車33が回転駆動されると、その回転に対して第1の傘歯車31と第2の傘歯車32が逆方向に回転する、差動歯車機構34を構成している。
上記第3の傘歯車33は動力伝達軸35の一端に取付け固定されている。この動力伝達軸35は上記ローラ軸7の下方に、このローラ軸7に対して軸線を直交させて設けられていて、その中途部はチャンバ1内に立設された第2の支柱部材36に設けられた軸受体37に回転可能に支持されている。
図2と図3に示すように、上記動力伝達軸35の上記ローラ軸7の下方に位置する他端にはウオーム38が嵌着固定されている。このウオーム38は上記ローラ軸7に外嵌固定されたウオーム歯車39に結合している。上記ウオーム38とウオーム歯車39はそれぞれの歯が磁化された磁気歯車であって、これらは異なる極性の磁気力によって非接触で結合している。
したがって、基板Wを搬送するために、ローラ軸7が駆動源15によって回転駆動されると、ローラ軸7の回転によって搬送される基板Wの幅方向の両端面に接触した上部洗浄ブラシ23と下部洗浄ブラシ24が差動歯車機構34によって逆方向に回転して上記端面を洗浄するようになっている。
上記一対の洗浄ブラシ23、24は、上記ローラ軸7よりも十分に速く回転するよう上記差動歯車機構34の第1乃至第3の傘歯車31〜33と、上記ウオーム38とウオーム歯車39の歯数が設定されている。
それによって、一対の洗浄ブラシ23、24の回転速度は搬送ローラ8によって搬送される基板Wの搬送速度よりも速くなるから、上下一対の洗浄ブラシ23、24のうち、どちらか一方、たとえば下部洗浄ブラシ24が基板Wの搬送方向と同方向に回転しても、それらの速度差によって下部洗浄ブラシ24のブラシ毛24bが基板Wの端面eを確実に擦ってブラシ洗浄することができる。
なお、図2に示すように上記上部洗浄ブラシ23と下部洗浄ブラシ24が基板Wの端面に接触する部位にはノズル41によって洗浄液が供給されるようになっている。
なお、図2に示すように上記上部洗浄ブラシ23と下部洗浄ブラシ24が基板Wの端面に接触する部位にはノズル41によって洗浄液が供給されるようになっている。
つぎに、上記構成の端面洗浄装置によって基板Wの端面を洗浄するときの作用について説明する。
チャンバ1内に基板Wを供給するに先立って、駆動源15を作動させてローラ軸7を所定方向に回転させる。ローラ軸7が回転したチャンバ1内に基板Wが搬入口2から供給されると、その基板Wは図2に矢印Fで示すように下面が搬送ローラ8によって支持されてチャンバ1内を搬出口3に向かって搬送される。
チャンバ1内に基板Wを供給するに先立って、駆動源15を作動させてローラ軸7を所定方向に回転させる。ローラ軸7が回転したチャンバ1内に基板Wが搬入口2から供給されると、その基板Wは図2に矢印Fで示すように下面が搬送ローラ8によって支持されてチャンバ1内を搬出口3に向かって搬送される。
上記ローラ軸7が回転駆動されると、その回転はウオーム歯車39とウオーム38を介して動力伝達軸35に伝達される。この動力伝達軸35には差動歯車機構34を構成する第3の傘歯車33が設けられている。
そのため、動力伝達軸35とともに第3の傘歯車33が回転すると、その回転によって第1の傘歯車31と第2の傘歯車32を介して中軸25に設けられた上部洗浄ブラシ23と、中空軸27に設けられた下部洗浄ブラシ24が逆方向に回転するから、これら一対の洗浄ブラシ23、24によって基板Wの端面eが擦られて洗浄されることになる。このとき、基板Wの端面eに一対の洗浄ブラシ23、24が接触する箇所にはノズル41によって洗浄液が供給される。
上部洗浄ブラシ23と下部洗浄ブラシ24のブラシ毛23b,24bは、基板Wの端面の厚さ方向全長に接触しながら逆方向に回転する。上記基板Wの端面には微細な凹凸があって、その凹部45には図4と図5に示すように研磨剤などの微粒子P1.P2が入り込んでいることがある。
そのような場合、図4に拡大して示すように基板Wの搬送方向上流側の隅部に位置する微粒子P1は矢印Lで示すように基板Wの搬送方向Fと逆方向である、反時計方向に回転する上部洗浄ブラシ23のブラシ毛23bによって上記凹部45から掻き出されることになる。
一方、図5に拡大して示すように、上記凹部45の上記基板Wの搬送方向下流側の隅部に入り込んだ微粒子P2は、同図に矢印Rで示す、基板Wの搬送方向と同方向に回転する下部洗浄ブラシ24のブラシ毛24bによって掻き出される。
すなわち、下部洗浄ブラシ24の回転方向Lは基板Wの搬送方向Fと同方向であるが、その回転速度は基板Wの搬送速度よりも速い。そのため、回転する下部洗浄ブラシ24のブラシ毛24bは基板Wの端面を基板Wの搬送速度との速度差に応じて擦ることができるから、上記凹部45の上記基板Wの搬送方向下流側の隅部に入り込んだ微粒子P2掻き出すことができる。
このように、上部洗浄ブラシ23と下部洗浄ブラシ24の回転方向を逆方向としたことで、これら洗浄ブラシ23、24によって基板Wの端面eを搬送方向Fに対して逆の回転方向L及び搬送方向Fと同じ回転方向Rの両方向からブラッシングすることができる。
そのため、たとえば基板Wの端面eに凹部45があって、その凹部45内の汚れが一方向からのブラッシングでは落ち難い場合であっても、その汚れを逆方向に回転する一対の洗浄ブラシ23、24によって良好に洗浄除去することが可能となる。
上記上部洗浄ブラシ23と下部洗浄ブラシ24は、これらのブラシ毛23b,24bが互いに接触しながら回転する。そのため、各洗浄ブラシ23,24のブラシ毛23b,24bが基板Wの端面eの汚れを洗浄除去することで、これらのブラシ毛23b,24bに端面から除去した微粒子が付着していても、互いのブラシ毛23bと24bが擦れ合いながら回転することで、各ブラシ毛23b,24bに付着した微粒子が落下除去されることになる。
つまり、上記上部洗浄ブラシ23と下部洗浄ブラシ24のブラシ毛23b,24bは基板Wの端面eを洗浄することで汚れても、その汚れを自己洗浄する機能を備えている。そのため、基板Wの端面eから除去した微粒子をその端面eに再付着させるということがないから、洗浄効果の向上を図ることができる。
上記ローラ軸7の回転を上部洗浄ブラシ23と下部洗浄ブラシ24に伝達するための上記第1乃至第3の傘歯車31〜33、及びウオーム38とウオーム歯車39はそれぞれ磁気歯車が用いられている。磁気歯車は非接触で磁気結合して動力を伝達するため、塵埃の発生を招くことがない。
つまり、チャンバ1内の上記第1乃至第3の傘歯車31〜33、及びウオーム38とウオーム歯車39が設けかれた空間部1b内で、動力伝達に用いられた機械要素から塵埃が発生することがないから、チャンバ1内を搬送される基板Wが不要に汚されるのを防止することができる。
上記上部洗浄ブラシ23と下部洗浄ブラシ24を、ローラ軸7の回転をウオーム38とウオーム歯車39及び差動歯車機構34によって伝達して回転させるようにした。そのため、上部洗浄ブラシ23と下部洗浄ブラシ24を回転させるために専用の駆動源を用いずにすむから、構成の簡略化を図ることができる。
上記一実施の形態では基板の搬送方向と交差する幅方向の両端面を洗浄する場合について説明したが、幅方向の両端面だけでなく、搬送方向に沿う両端面も洗浄する場合には、幅方向の両端面を洗浄した後、基板を90度回転させてつぎの洗浄装置で残りの2つの端面を洗浄するようにすればよい。
1…チャンバ、7…ローラ軸、8…搬送ローラ、23…上部洗浄ブラシ、24…下部洗浄ブラシ、23a,24a…基部、23b,24b…ブラシ毛、25…中軸、27…中空軸、31…第1の傘歯車、32…第2の傘歯車、33…第3の傘歯車、35…動力伝達軸、38…ウオーム、39…ウオーム歯車。
Claims (4)
- 所定方向に搬送される基板の搬送方向と交差する方向の端面を洗浄する洗浄装置であって、
回転軸線を上記基板の板面と直交させて配置され上記基板の端面の厚さ方向全長にわたって接触する第1のブラシ毛を有する上部洗浄ブラシと、
回転軸線を上記上部洗浄ブラシと同じにして配置され上記第1のブラシ毛と同じ位置でこの第1のブラシ毛間に入り込んで上記基板の端面の厚さ方向全長にわたって接触する第2のブラシ毛を有する下部洗浄ブラシと、
上記上部洗浄ブラシと上記下部洗浄ブラシを逆方向に回転駆動させて上記第1のブラシ毛と第2のブラシ毛とで上記基板の端面を洗浄させる回転駆動手段と
を具備したことを特徴とする基板端面の洗浄装置。 - 上記基板は回転駆動されるローラ軸に設けられたローラに下面を接触させて搬送されるようになっていて、
上記回転駆動手段は、上端部に上記上部洗浄ブラシが下向きに設けられ下端部に第1の傘歯車が設けられた中軸と、この中軸に回転可能に外嵌され上端に上記下部洗浄ブラシが上向きに設けられ下端部に第2の傘歯車が設けられた中空軸と、一端に上記第1、第2の傘歯車に結合した第3の傘歯車が設けられた動力伝達軸と、この動力伝達軸の他端に設けられ上記ローラ軸に外嵌固定されたウオーム歯車に結合したウオームとによって構成されていることを特徴とする請求項1記載の基板端面の洗浄装置。 - 上記第1の傘歯車、第2の傘歯車、第3の傘歯車、ウオーム歯車及びウオームは非接触で結合して動力を伝達する磁気歯車であることを特徴とする請求項2記載の基板端面の洗浄装置。
- 所定方向に搬送される基板の搬送方向と交差する方向の端面を洗浄する洗浄方法であって、
ブラシ毛を下方に向けた上部洗浄ブラシと、ブラシ毛を上方に向けた下部洗浄ブラシの互いのブラシ毛を入り込ませた状態で上記基板の端面の厚さ方向全長にわたって接触させる工程と、
上記上部洗浄ブラシと下部洗浄ブラシを逆方向に回転駆動して上記基板の端面を洗浄する工程と
を具備したことを特徴とする基板端面の洗浄方法。
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JP2008180645A JP2010017658A (ja) | 2008-07-10 | 2008-07-10 | 基板端面の洗浄装置及び洗浄方法 |
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JP2008180645A JP2010017658A (ja) | 2008-07-10 | 2008-07-10 | 基板端面の洗浄装置及び洗浄方法 |
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104043602A (zh) * | 2014-06-10 | 2014-09-17 | 天能电池(芜湖)有限公司 | 一种制作电池用的涂片余膏清除装置 |
CN105563635A (zh) * | 2016-02-29 | 2016-05-11 | 周兆弟 | 用于管桩生产线的端板清洗机构 |
KR101627449B1 (ko) * | 2015-01-22 | 2016-06-03 | 주식회사 이든이엔지 | 랙피니언식 이송기구의 랙기어 청소장치 |
US10753450B2 (en) | 2016-09-30 | 2020-08-25 | Harmonic Drive Systems Inc. | Magnetic type rotation transmitting mechanism |
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2008
- 2008-07-10 JP JP2008180645A patent/JP2010017658A/ja not_active Withdrawn
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