JP2006245125A - 基板の処理装置及び処理方法 - Google Patents

Abstract

【課題】この発明は基板が処理部で受ける力によって搬送速度が変化するのを防止した処理装置を提供することにある。
【解決手段】チャンバ１と、チャンバ内に配置され基板を所定の傾斜角度で支持して搬送する搬送ローラ５が設けられた搬送軸４，４Ａと、搬送ローラによって搬送される基板の下端を支持する駆動ローラ１１が設けられた駆動軸１２と、駆動軸を回転駆動し駆動ローラによって基板を搬送ローラに沿って搬送する第１の駆動源２１と、チャンバ内を搬送される基板に対して所定の処理を行う処理部７，８と、搬送軸のうち、上記処理部の近傍に配置された搬送軸を搬送ローラとともに回転駆動し、基板が処理部から受ける力によって搬送速度が変化するのを阻止する駆動力を搬送ローラによって基板に付与する第２の駆動源６１を具備する。
【選択図】 図１

Description

この発明は基板を所定の傾斜角度で搬送しながら処理する基板の処理装置及び処理方法に関する。

たとえば、液晶表示装置や半導体装置の製造工程においては、これらの対象物であるガラス基板や半導体ウエハなどの基板にレジストを塗布し、現像処理してからエッチング処理をすることで、基板の表面に回路パターンを精密に形成する。基板に回路パターンを形成したならば、その基板の表面に付着しているレジスト膜やレジスト残渣などの有機物を薬液によって除去する処理が行われる。

薬液による処理が行われた基板は洗浄液によって洗浄処理される。基板の洗浄処理を行う場合、単に純水や希釈された薬液などの洗浄液を噴射するだけでは基板に付着した汚れを確実に洗浄することができないことがある。そのような場合、上記基板に洗浄液を供給しながら回転駆動されるロールブラシで擦って洗浄するということが行われる。

ロールブラシによって洗浄された基板には洗浄液が付着残留し、その洗浄液を放置しておくと汚れの原因になる。したがって、ロールブラシによる洗浄後には基板に付着した洗浄液をエアーナイフによって乾燥除去するということが行われている。

ところで、最近では液晶表示装置に用いられるガラス製の基板が大型化及び薄型化する傾向にある。しかも、基板が大型化することで、基板上に供給される処理液の量が増大し、基板上の処理液の量に応じて上記搬送軸に加わる荷重が大きくなる。

したがって、これらのことにより、搬送軸の撓みが増大するから、基板を水平搬送すると、搬送ローラ間における基板の撓みが大きくなり、各処理部での処理が基板の板面全体にわたって均一に行えなくなるということが生じる。

そこで、上記基板を所定の傾斜角度で傾斜させて搬送することで、搬送軸や基板に生じる撓みを少なくし、その搬送過程で上記基板にブラシ洗浄やエアーナイフによる乾燥処理などの処理を行うということが実用化されつつある。

基板を所定の傾斜角度で搬送する場合、基板の傾斜方向下側の面を搬送軸に回転可能に設けられた搬送ローラによって支持するとともに、その基板の下端を駆動軸に設けられた駆動ローラによって支持する。そして、駆動ローラを回転駆動することで、この駆動ローラと基板の下端との間に生じる摩擦力で基板に駆動力を与え、その基板を搬送ローラに沿って搬送するようにしている。

このような構成によると、基板に与えられる駆動力は、基板の下端と駆動ローラとの摩擦力だけであり、基板に付与される駆動力はあまり大きくない。そのため、基板を搬送しながらブラシ洗浄部でロールブラシによって洗浄したり、洗浄後に洗浄液を乾燥処理するために乾燥処理部のエアーナイフによって乾燥処理する際、基板がロールブラシやエアーナイフから噴射される圧縮気体によって受ける力で基板の搬送速度が変化してしまうということがある。

基板の搬送速度が変化すると、ロールブラシによる洗浄やエアーナイフから噴射される圧縮気体による乾燥処理を基板の板面全体に対して均一に行うことができなくなる。それによって、基板の板面には洗浄むらや乾燥むらが生じるということがあった。

この発明は、基板を所定の傾斜角度で搬送しながら処理する場合に、基板が処理部から力を受けても、搬送速度を一定に維持できるようにした基板の処理装置及び処理方法を提供することにある。

この発明は、基板を所定の傾斜角度で搬送しながら処理する処理装置であって、
チャンバと、
このチャンバ内に配置され上記基板を所定の傾斜角度で支持して搬送する搬送ローラが設けられた搬送軸と、
上記搬送ローラによって搬送される基板の下端を支持する駆動ローラが設けられた駆動軸と、
この駆動軸を回転駆動し上記駆動ローラによって上記基板を上記搬送ローラに沿って搬送する第１の駆動源と、
上記チャンバ内を搬送される上記基板に対して所定の処理を行う処理部と、
上記搬送軸のうち、上記処理部の近傍に配置された搬送軸を搬送ローラとともに回転駆動し、上記基板が上記処理部から受ける力によって搬送速度が変化するのを阻止する駆動力を上記搬送ローラによって上記基板に付与する第２の駆動源と
を具備したことを特徴とする基板の処理装置にある。

上記処理部は、上記基板の一方の板面と他方の板面とをブラシによって洗浄処理するブラシ洗浄部であって、
このブラシ洗浄部の搬入側と搬出側に設けられた搬送軸が上記第２の駆動源によって回転駆動される構成であることが好ましい。

上記処理部は、洗浄処理された上記基板の一方の板面と他方の板面とにエアーナイフによって気体を噴射しその板面に付着残留する洗浄液を除去する乾燥処理部であって、
この乾燥処理部の搬入側に設けられた搬送軸が上記第２の駆動源によって回転駆動される構成であることが好ましい。

この発明は、基板を所定の傾斜角度で搬送しながら処理する処理方法であって、
上記基板を所定の傾斜角度で支持して搬送する工程と、
搬送される上記基板に対して所定の処理を行う工程と、
上記基板が処理される際に受ける力に対しこの基板に駆動力を付与して基板の搬送速度が変化するのを阻止する工程と
を具備したことを特徴とする基板の処理方法にある。

この発明によれば、基板が処理部から受ける力に対し、この基板の搬送速度が変化するのを阻止する駆動力を上記基板に付与するため、基板を一定の速度で搬送しながら処理することができる。そのため、処理部での基板の処理を均一に行うことが可能となる。

以下、この発明の一実施の形態を図面を参照して説明する。
図１乃至図９はこの発明の一実施の形態を示し、図１は処理装置の内部構造を示す正面図、図２は側面図である。処理装置は図１と図２に鎖線で示すチャンバ１を有する。このチャンバ１は図２に示すように断面形状が矩形状であって、垂直線に対して所定の角度、たとえば７５度の角度で傾斜して配設される。

上記チャンバ１の上面には上部支持板２が設けられ、下面には下部支持板３が設けられている。各支持板２，３には、上部と下部とが後述するごとく支持された複数の搬送軸４，４Ａ（搬送軸４Ａについては後で説明する）が軸線を平行にしてチャンバ１の長手方向に対し所定間隔で設けられている。各搬送軸４には軸方向に所定間隔で複数の搬送ローラ５が設けられている。なお、各搬送軸４はチャンバ１と同様、軸線を７５度の角度で傾斜させて設けられている。

上記チャンバ１内には処理部としての後述するブラシ洗浄部７と乾燥処理部８とが設けられている。チャンバ１内には図１に鎖線で示す基板Ｗが矢印で示す方向に搬送されてくる。チャンバ１内に搬入された基板Ｗは上記ブラシ洗浄部７でブラシ洗浄され、ついで上記乾燥処理部８で基板Ｗに付着残留した洗浄液が乾燥処理されるようになっている。

上記チャンバ１内に搬入された基板Ｗは、傾斜方向下側の板面が上記搬送軸４に設けられた搬送ローラ５によって支持され、下端は駆動ローラ１１によって支持される。この駆動ローラ１１は駆動軸１２の先端部に取り付け固定されている。駆動軸１２の基端部は、図７に示すようにチャンバ１の前面に取り付けられた筒状の支持体１３に軸受１４によって回転可能に支持されている。上記支持体１３はチャンバ１の前面下部に設けられた前面支持板１５に取り付けられている。

上記駆動軸１２の基端部は上記支持体１３から突出し、その突出端には第１の伝達歯車１６が嵌着されている。この第１の伝達歯車１６には第２の伝達歯車１７が噛合している。この第２の伝達歯車１７には従動プーリ１８が一体的に設けられていて、これらは上記前面支持板１５に設けられたブラケット１９に回転可能に取り付けられている。

上記前面支持板１５には第１の駆動源２１が上下方向の位置決め調整可能に設けられている。この第１の駆動源２１の出力軸２２には駆動プーリ２３が嵌着されていて、この駆動プーリ２３と上記従動プーリ１８とにはタイミングベルト２４が張設されている。

したがって、上記第１の駆動源２１が作動すれば、上記駆動軸１２とともに駆動ローラ１１が回転駆動されるから、この駆動ローラ１１に下端を当接させた基板Ｗが駆動ローラ１１との摩擦力によって上記搬送軸４に設けられた搬送ローラ５にガイドされて搬送されるようになっている。

図７に示すように上記駆動軸１２を支持した支持体１３はカバー２５によって覆われている。カバー２５には駆動軸１２を挿通する孔２５ａが形成されている。駆動軸１２のカバー２５内に位置する部分には上記孔２５ａに対向して遮蔽盤２６が設けられている。それによって、チャンバ１内で基板Ｗに供給された洗浄液が上記駆動軸１２を伝わって軸受１４に向かって流れるのを阻止できるようになっている。
なお、上記カバー２５には図示しない排液孔が形成され、カバー２５内に流れた洗浄液を排出できるようになっている。

図１に示すように、上記ブラシ洗浄部７は第１のブラシユニット２８と第２のブラシユニット２９が基板Ｗの搬送方向に沿って所定間隔で離間して配置されてなる。各ブラシユニット２８，２９は図３に示すように基板Ｗの搬送方向と交差する方向に沿って配置された上ロールブラシ３１と下ロールブラシ３２からなる。上ロールブラシ３１は傾斜して搬送される基板Ｗの傾斜方向上面をブラッシングし、下ロールブラシ３２は下面をブラッシングする。

図８はロールブラシ３１，３２の上部の支持構造を示し、図９は下部の支持構造を示す。ロールブラシ３１，３２の上下端からはそれぞれ支軸３３，３４が突設されている。上支軸３３は上継ぎ手３５に連結される。この上継ぎ手３５にはすり割溝３６が形成され、このすり割溝３６には上記上支軸３３が係合支持される係合溝３７が形成されている。

上記上支軸３３にはフランジ３３ａが形成されている。上支軸３３はフランジ３３ａを上記係合溝３７に係合させて設けられている。そして、すり割溝３６に図示しない止め具をねじ止め固定することで、上記上支軸３３が上記上継ぎ手３５に着脱可能に係合保持されている。つまり、ロールブラシ３１，３２は上継ぎ手３５によってチャンバ１内に吊り下げられた状態で設けられている。それによって、ロールブラシ３１，３２に生じる座屈応力が低減し、たわみが生じ難くなっている。

上記上継ぎ手３５の上端面には取り付け軸３８が設けられている。この取り付け軸３８は上記上部支持板２に取り付け固定される上部支持体３９にスラスト軸受３９ａとラジアル軸受３９ｂを介して回転可能に支持されている。上部支持体３９はチャンバ１の前後方向、つまり一対のロールブラシ３１，３２が接離する方向に移動可能となっている。

そして、一対のロールブラシ３１，３２の上部は、上部支持体３９を介して後述する上部間隔調整機構４１によって対向間隔を調整できるようになっている。
各ロールブラシ３１，３２の下支軸３４には図９に示すように下継ぎ手４３が連結されている。この下継ぎ手４３は上記上継ぎ手３４と同様、すり割溝４４及び係合溝４５が形成されていて、この係合溝４５に上記下支軸３４が挿入されている。そして、上記すり割り溝４４に図示せぬ止め具がねじ止め固定されることで、下支軸３４に下継ぎ手４３が連結固定される。

下継ぎ手４３には、連結軸４７の上端に開放して形成された係合溝４７ａに係合したピン４８が設けられている。つまり、連結軸４７に対して下継ぎ手４３は軸方向に変位可能かつ一体的に回転するよう連結されている。したがって、ロールブラシ３１，３２の上継ぎ手３５による吊り下げ状態が損なわれることがない。

上記連結軸４７の他端部は下部支持体４９に挿通され、一対の軸受５１によって回転可能に支持されている。上記連結軸４７の他端は継ぎ手部５２を介してブラシ用駆動源５３の図示しない出力軸に連結されている。一対のロールブラシ３１，３２の下部は、下部支持体４９を介して後述する下部間隔調整機構５５によって対向間隔を調整できるようになっている。

上記下部支持体４９は上記下部支持板３に図示せぬ部材を介して取り付け固定される。それによって、上記ブラシ用駆動源５３が作動すれば、一対のロールブラシ３１，３２が回転駆動されるようになっている。これらロールブラシ３１，３２の回転方向は基板Ｗの送り方向或いは送り方向と逆方向など要求される洗浄条件に応じて設定される。

なお、図９に示すように、チャンバ１の上記連結軸４７が貫通した部分は下端が上記チャンバの下面に液密に取り付けられた内筒５６によって覆われている。この内筒５６は上記下継ぎ手４３に一体形成された外筒５７によって覆われている。内筒５６と外筒５７とでラビリンスを構成していて、チャンバ１内の洗浄液が上記連結軸４７を伝わって外部に流れるのを阻止している。

上記連結軸４７と下部支持体４９の上端部との箇所にもラビリンス５４が設けられている。それによって、洗浄液が仮に連結軸４７を伝わって流れてきても、その洗浄液が連結軸４７を支持した軸受５１に流れ込むのを阻止できるようになっている。

上記乾燥処理部８は、図１に示すようにチャンバ１内を搬送される基板Ｗの傾斜した上面と下面とに先端のスリット（図示せず）を対向させて配置された一対のエアーナイフ５９（１つだけ図示）からなる。

エアーナイフ５９の先端からは搬送される基板Ｗの板面に対して不活性ガスや清浄な空気などの気体が所定の圧力で、しかも基板Ｗの搬送方向下流側に向けて噴射されるようになっている。それによって、上記ブラシ洗浄部７でブラシ洗浄された基板Ｗの板面に付着残留する洗浄水が基板Ｗの板面から除去される。

上記チャンバ１内に配置された搬送軸４のうち、上記ブラシ洗浄部７と乾燥処理部８の近くに配置された搬送軸、具体的にはブラシ洗浄部７の第１のブラシユニット２８の搬入側の１本、第２のブラシユニット２９の搬出側の１本及び第１のブラシユニット２８の搬出側であるとともに、第２のブラシユニット２９の搬入側である、これら一対のブラシユニット２８，２９の間に位置する３本及び乾燥処理部８の搬入側２本の搬送軸４は第２の駆動源６１によって強制的に回転駆動されるようになっている。

第２の駆動源６１によって回転駆動される搬送軸を４Ａとする。回転駆動される搬送軸４Ａには上記搬送ローラ５が一体的に取り付け固定され、回転駆動されない搬送軸４には搬送ローラ５が回転可能に取り付けられている。

図６に示すように、回転駆動される搬送軸４Ａの上部には上継ぎ手６３が連結される。この上継ぎ手６３にはすり割り溝６４が形成され、このすり割り溝６４には上記搬送軸４Ａの上部が係合支持される係合溝６５が形成されている。

上記搬送軸４Ａの上端にはフランジ６６が形成されていて、このフランジ６６を上記係合溝６５に係合させている。そして、上記すり割り溝６４に図示しない止め具をねじ止め固定することで、上記搬送軸４Ａと上継ぎ手６３とが着脱可能に連結固定されている。このように、搬送軸４Ａはロールブラシ３１，３２と同様、吊り下げ構造で支持されている。

上記上継ぎ手６３には上記係合溝６５と同心に嵌合孔６７が形成され、この嵌合孔６７には連結軸６７の下端部が嵌合され、ピン６８によって連結固定されている。連結軸６７はチャンバ１の上部壁から外方へ突出し、その突出部分は上記上部支持板２に設けられた上部支持体６９に一対の軸受７１によって回転可能に支持されている。

チャンバ１の上部壁の上記連結軸６７が貫通した部分の上面と連結軸６７とにはラビリンス７２が設けられている。このラビリンス７２によってチャンバ１の連結軸６７が貫通した部分から洗浄液が外部に流出するのを阻止している。さらに、チャンバ１の上面には連結軸６７が貫通した部分を囲む環状壁７２ａが設けられている。それによって、連結軸６７の貫通部分からチャンバ１の外部に洗浄液が流出しても、その洗浄液が上記環状壁７２ａによって周囲に流れるのが防止される。

搬送軸４Ａの下部は図７に示すように下継ぎ手７３が取り付けられている。この下継ぎ手７３にはすり割り溝７４及び係合溝７５が形成され、この係合溝７５に搬送軸４Ａの下端部が挿入されている。そして、上記すり割り溝７４には図示しない止め具が取り付け固定される。それによって、上記搬送軸４Ａに下継ぎ手７３が連結固定される。

上記下継ぎ手７３には連結軸７６が設けられている。この連結軸７６は下部支持板３に設けられた下部支持体７７に挿通され、一対の軸受７８によって回転可能に支持されている。

上記下部支持体７７から突出した連結軸７６の端部には第１の伝達歯車８１が外嵌固定されている。この第１の伝達歯車８１には従動プーリ８２が一体的に設けられた第２の伝達歯車８３が噛合している。上記第２の伝達歯車８３は上記下部支持板３に取り付けられたブラケット８４に回転可能に支持されている。

上記下部支持板３には上記第２の駆動源６１が上下方向の取り付け位置の調整可能に設けられている。この第２の駆動源６１の出力軸８５には駆動プーリ８６が嵌着されている。この駆動プーリ８６と上記従動プーリ８２とにはタイミングベルト８７が張設されている。したがって、上記第２の駆動源６１が作動すれば、上記搬送軸４Ａが回転駆動されるようになっている。
なお、搬送軸４Ａは、その搬送軸４Ａに設けられた搬送ローラ５の回転速度が上記駆動ローラ１１の周速度と同じになるよう上記第２の駆動源６１によって回転駆動される。

上記チャンバ１の上記連結軸７６が貫通した部分には内筒８８がチャンバ１に対して液密に設けられている。この内筒８８は上記下継ぎ手７３に設けられた外筒８９によって覆われている。それによって、上記内筒７８と外筒７９とでラビリンスを構成し、チャンバ１内の洗浄液が連結軸７６を伝わって外部に流出するのを阻止している。

つぎに、一対のブラシユニット２８，２９の各一対のロールブラシ３１，３２の押し当て量を調整する上部間隔調整機構４１と下部間隔調整機構５５について図３乃至図５を参照しながら説明する。なお、上部間隔調整機構４１と下部間隔調整機構５５は同じ構造であるので、主要な構成については一方について説明する。

すなわち、上部支持板２と下部支持板３には図４と図５に示すようにリニアガイド９１がチャンバ１の前後方向に沿って設けられている。このリニアガイド９１には第１の可動部材９２と第２の可動部材９３とに設けられたそれぞれ一対のスライダ９４がスライド可能に支持されている。なお、下部間隔調整機構５５のリニアガイド９１は下部取り付け板３に高さ位置を調整するための架台９０を介して取り付けられている。

上下一対の第１の可動部材９２の先端は上ロールブラシ３１を支持した上部支持体３９及び下部支持体４９にそれぞれ連結固定されている。上下一対の第２の可動部材９３の先端は下ロールブラシ３２を支持した上部支持体３９及び下部支持体４９にそれぞれ連結固定されている。

第１の可動部材９２と第２の可動部材９３との中途部の外側面にはそれぞれ連結部材９５が設けられている。各連結部材９５にはリンク９６の一端が枢着されている。リンク９６はチャンバ１の前後方向後方へ導出されている。

チャンバ１の背面側には第１の連動軸９８と第２の連動軸９９とが所定の間隔で軸線を平行にして配置されている。各連動軸９８，９９の上端部と下端部は、上記上部支持板２と下部支持板３とにそれぞれ設けられたラジアル軸受１０１によって回転可能に支持されている。各連動軸９８，９９の上下端には回転体１０２が設けられている。各回転体１０２の偏心位置には上記リンク９６の他端が枢着されている。このリンク９６の偏心量を図５にｅで示す。

したがって、第１、第２の連動軸９８，９９が回転駆動されれば、リンク９６が図５に矢印で示す方向に直線移動するから、その移動に第１の可動部材９２と第２の可動部材９３がリニアガイド９１に沿って連動する。つまり、第１、第２の連動軸９８，９９によって上部間隔調整機構４１と下部間隔調整機構５５の第１の可動部材９２と第２の可動部材９３が連動するようになっている。

第１の可動部材９２と第２の可動部材９３がリニアガイド９１に沿って移動すれば、各可動部材９２，９３の先端に連結された上部支持体３９と下部支持体４９を介して上ロールブラシ３１と下ロールブラシ３２とがチャンバ１の前後方向に移動する。したがって、上ロールブラシ３１と下ロールブラシ３２とが基板Ｗを挟持する位置及び基板Ｗの盤面に対する接触強さである、押し当て量を設定することができるようになっている。

上ロールブラシ３１と下ロールブラシ３２とによる基板Ｗを挟持する位置を調整すれば、搬送ローラ５にガイドされて搬送される基板Ｗが搬送ローラ５の外周面から浮き上がったり、搬送ローラ５の外周面に強く押し当てられるのを防止できる。つまり、基板Ｗを搬送ローラ５の外周面の高さに合わせた位置で挟持することができる。

上ロールブラシ３１と下ロールブラシ３２が基板Ｗを挟持する位置及び押し当て量の調整、つまり各ロールブラシ３１，３２の位置調整はそれぞれ位置決め操作機構１０５によって操作して調整できるようになっている。

上記位置決め操作機構１０５は第１の連動軸９８と第２の連動軸９９との下端部、つまり各連動軸９８，９９の下側のラジアル軸受１０１から突出した下端部に設けられたギアボックス１０６を有する。

図３に示すように、ギアボックス１０６の入力軸１０７には減速機１０８の出力軸１０９が連結されている。この減速機１０８は上記下部支持板３に取り付け固定されていて、その入力軸１１１にはハンドル１１２が取り付けられている。

ハンドル１２を回転すれば、その回転が減速機１０８で減速されてギアボックス１０６に伝達される。ギアボックス１０６には、図示しないが、各連動軸８９，９８に取り付けられた第１のヘリカルギアと、上記入力軸１０７に取り付けられ第１のヘリカルギアに噛合した第２のヘリカルギアが設けられている。それによって、ハンドル１１２によって入力軸１１を回転させ、その回転がギアボックス１０６に入力されると、入力軸１１１と軸線を直交させた第１、第２の連動軸９８，９９が回転駆動されるようになっている。

したがって、それぞれの位置決め操作機構１０５のハンドル１１２を回転操作すれば、第１の連動軸９８と第２の連動軸９９を回転させることができるから、各連動軸９８，９９の回転に連動する回転体１０２、リンク９６及び上下一対の第１、第２の可動部材９２，９３を介して上ロールブラシ３１と下ロールブラシ３２との位置を調整できる。

すなわち、上ロールブラシ３１と下ロールブラシ３２は、それぞれ別々の位置決め操作機構１０５によって位置決め調整可能である。しかも、第１の連動軸９８と第２の連動軸９９とによって上部間隔調整機構４１と下部間隔調整機構５５とが連動するから、各ロールブラシ３１，３２の上下端を連動させて同時に位置決め調整することができる。つまり、各ロールブラシ３１，３２の上下端を連動させて移動するため、それぞれのロールブラシ３１，３２を軸線を傾けることなく平行に移動させることができる。

このような構成の処理装置によれば、チャンバ１内に所定の角度である、７５度の角度で傾斜して供給された基板Ｗは、下端が駆動ローラ１１に支持され、傾斜方向の下側の面が搬送ローラ５によって支持される。そして、駆動ローラ１１が第１の駆動源２１によって回転駆動されることで、この駆動ローラ１１によってチャンバ１内を搬送ローラ５にガイドされて搬送される。

基板Ｗはブラシ洗浄部７に到達すると、まず、第１のブラシユニット２８の上ロールブラシ３１と下ロールブラシ３２との間に入り込む。基板Ｗの両面と各ロールブラシ３１，３２には図示せぬノズルによって洗浄液が供給される。したがって、一対のロールブラシ３１，３２間に入り込んだ基板Ｗは両面がこれらのロールブラシ３１，３２によってブラッシング洗浄される。

第１のブラシユニット２８でブラッシング洗浄された基板Ｗは第２のブラシユニット２９に搬送され、ここでも一対のロールブラシ３１，３２間に送り込まれ、これらロールブラシ３１，３２によって両面がブラッシング洗浄されることになる。

第２のブラシユニット２９でブラッシング洗浄された基板Ｗは乾燥処理部８に送られ、この乾燥処理部８に設けられた一対のエアーナイフ５９から噴射される気体によって両面に付着した洗浄液が除去される乾燥処理が行われる。乾燥処理された基板Ｗは上記チャンバ１から搬出され、次工程に搬送される。

基板Ｗが第１、第２のブラシユニット２８，２９の一対のロールブラシ３１，３２間に送り込まれたり、一対のロールブラシ３１，３２間から送り出される際、基板Ｗは各ロールブラシ３１，３２から搬送方向或いは搬送方向と逆方向に作用する力を受ける。基板Ｗがロールブラシ３１，３２から受ける力の方向はこれらロールブラシの回転方向によって異なる。

基板Ｗがロールブラシ３１，３２から力を受けると、その力によって基板Ｗに作用する駆動力が変動する。つまり、基板Ｗには駆動ローラ１１による駆動力以外の力が作用する。そのため、ブラシ洗浄部７を搬送される基板Ｗの搬送速度が変動し、一対のロールブラシ３１，３２による洗浄速度が一定とならず、洗浄むらが生じる虞がある。

しかしながら、一対のブラシユニット２８，２９の入り口側と出口側に配置された複数の搬送軸４Ａは搬送ローラ５とともに第２の駆動源６１によって強制的に回転駆動される。

そのため、基板Ｗがブラシ洗浄部７を搬送されるとき、この基板Ｗには駆動ローラ１１による駆動力と、搬送ローラ５による駆動力とが作用するから、基板Ｗはこれら両者の駆動力によって安定した速度で搬送されることになる。つまり、基板Ｗにロールブラシ３１，３２の力が作用しても、基板Ｗをその力にほとんど影響されることなく、ほぼ一定の速度で搬送することができる。それによって、基板Ｗに洗浄むらが生じるのを防止できる。

一方、基板Ｗが乾燥処理部８に送り込まれるとき、この基板Ｗはエアーナイフ５９から噴射される気体の圧力によって搬送方向と逆方向の力を受け、その力によって基板Ｗの搬送速度が減速される虞がある。つまり、搬送速度が変動することがある。

しかしながら、乾燥処理部８の入り口側の２本の搬送軸４Ａは第２の駆動源６１によって搬送ローラ５とともに回転駆動されている。つまり、乾燥処理部８に送り込まれる基板Ｗには駆動ローラ１１と搬送ローラ５との駆動力が作用する。

そのため、基板Ｗがエアーナイフ５９から噴射される気体の圧力を受けても、その圧力の影響を受けることなく、駆動ローラ１１と搬送ローラ５との駆動力によって基板Ｗをほぼ一定の速度で搬送することができる。その結果、基板Ｗを乾燥むらが生じることなく、乾燥処理することが可能となる。

つまり、ブラシ処理部７と乾燥処理部８とで基板Ｗが処理される際、基板Ｗが搬送速度を変化させる力を受けても、基板Ｗにはその力以上の搬送力、つまり駆動ローラ１１だけでなく、搬送軸４Ａの搬送ローラ５による搬送力が作用する。そのため、基板Ｗを処理部７，８で受ける力にほとんど影響されることなく、ほぼ一定の速度で搬送することが可能となる。

上記ブラシ処理部７の第１、第２のブラシユニット２８，２９に設けられた上ロールブラシ３１と下ロールブラシ３２は、上部間隔調整機構４１と下部間隔調整機構５５によって上端部と下端部との間隔及び基板Ｗを挟持する位置を調整することができる。

しかも、位置決め調整機構１０５のハンドル１１２を回転操作することで、上部間隔調整機構４１と下部間隔調整機構５５のそれぞれ一対の第１の可動部材９２及び第２の可動部材９３を、第１の連動軸９８と第２の連動軸９９を介して連動させることができる。

つまり、上ロールブラシ３１の上下端を支持した一対の第１の可動部材９２を同期させて同時に位置決め調整でき、また下ロールブラシ３２の上下端を同期させて同時に位置決め調整できる。そのため、各ロールブラシ３１，３２の基板Ｗの板面に対する接触強さである押し当て量及び基板Ｗを挟持する位置調整を、迅速かつ精度よく行うことができる。

一方のロールブラシ、たとえば上ロールブラシ３１の前後方向の位置を位置決め操作機構１０５によって搬送ローラ５の外周面の高さ位置に合わせて位置決めした後、この上ロールブラシ３１に対して下ロールブラシ３２を位置決めすれば、一対のロールブラシ３１，３２による基板Ｗの挟持位置を、搬送ローラ５の外周面の高さに一致させることができる。

それによって、第１、第２のブラシユニット２８，２９で基板Ｗを処理する際、基板Ｗが搬送ローラ５から浮いたり、搬送ローラ５に強く接触するのを防止できるから、そのことによっても基板Ｗの搬送を円滑に行うことが可能となる。

各ロールブラシ３１，３２は、上端に設けられた上支軸３３が上継ぎ手３５に吊り下げられて支持され、下端の下支軸３４に設けられた下継ぎ手４３はブラシ用駆動源５３によって回転駆動される連結軸４７に対して軸方向に移動可能かつ一体的に回転するよう連結されている。

各ロールブラシ３１，３２を吊り下げ構造とすれば、自重による座屈荷重が加わることがほとんどない。そのため、各ロールブラシ３１，３２には軸線方向と交差する方向に撓みが生じ難くいので、基板Ｗの板面の上下方向に対し、均一な押し当て量で接触させることができる。

この発明は上記一実施の形態に限定されず、たとえば基板を搬送する傾斜角度は７５度に限られず、それ以外の角度であってもよく、要は搬送軸や基板に生じる撓みを減少させることができる角度であればよい。

チャンバに設けられる処理部はブラシ洗浄部と乾燥処理部に限られず、たとえばエッチングや剥離などの薬液処理部など、洗浄以外の処理部あってもよく、その点も限定されるものでない。

乾燥処理部の入り口側の搬送軸だけを強制的に回転駆動するようにしたが、出口側の搬送軸も強制的に回転駆動すれば、基板の搬送速度をさらに安定させることが可能となる。

この発明の一実施の形態の処理装置の内部構造を示す正面図。 上記処理装置の側面図。 上記処理装置のブラシユニットが設けられラブ分を示す側面図。 チャンバの背面の第１の連動軸と第２の連動軸が設けられた部分の正面図。 上下部の間隔調整機構の平面図。 回転駆動される搬送軸の上部の取り付け構造を示す断面図。 上記搬送軸の下部の取り付け構造及び駆動ローラが設けられた駆動軸の取り付け構造を示す断面図。 ロールブラシの上部の取り付け構造を示す断面図。 ロールブラシの下部の取り付け構造を示す断面図。

符号の説明

１…チャンバ、４，４Ａ…搬送軸、５…搬送ローラ、７…ブラシ洗浄部、８…乾燥処理部、１１…駆動ローラ、１２…駆動軸、２１…第１の駆動源、２８…第１のブラシユニット、２９…第２のブラシユニット、３１…上ロールブラシ、３２…下ロールブラシ、４１…上部間隔調整機構、５３…ブラシ要駆動源、５５…下部間隔調整機構、５９…エアーナイフ、６１…第２の駆動源、１０５…位置決め操作機構。

Claims (4)

1. 基板を所定の傾斜角度で搬送しながら処理する処理装置であって、
   チャンバと、
   このチャンバ内に配置され上記基板を所定の傾斜角度で支持して搬送する搬送ローラが設けられた搬送軸と、
   上記搬送ローラによって搬送される基板の下端を支持する駆動ローラが設けられた駆動軸と、
   この駆動軸を回転駆動し上記駆動ローラによって上記基板を上記搬送ローラに沿って搬送する第１の駆動源と、
   上記チャンバ内を搬送される上記基板に対して所定の処理を行う処理部と、
   上記搬送軸のうち、上記処理部の近傍に配置された搬送軸を搬送ローラとともに回転駆動し、上記基板が上記処理部から受ける力によって搬送速度が変化するのを阻止する駆動力を上記搬送ローラによって上記基板に付与する第２の駆動源と
   を具備したことを特徴とする基板の処理装置。
2. 上記処理部は、上記基板の一方の板面と他方の板面とをブラシによって洗浄処理するブラシ洗浄部であって、
   このブラシ洗浄部の搬入側と搬出側に設けられた搬送軸が上記第２の駆動源によって回転駆動される構成であることを特徴とする請求項１記載の基板の処理装置。
3. 上記処理部は、洗浄処理された上記基板の一方の板面と他方の板面とにエアーナイフによって気体を噴射しその板面に付着残留する洗浄液を除去する乾燥処理部であって、
   この乾燥処理部の搬入側に設けられた搬送軸が上記第２の駆動源によって回転駆動される構成であることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の基板の処理装置。
4. 基板を所定の傾斜角度で搬送しながら処理する処理方法であって、
   上記基板を所定の傾斜角度で支持して搬送する工程と、
   搬送される上記基板に対して所定の処理を行う工程と、
   上記基板が処理される際に受ける力に対しこの基板に駆動力を付与して基板の搬送速度が変化するのを阻止する工程と
   を具備したことを特徴とする基板の処理方法。

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