JP4829710B2 - 基板の処理装置 - Google Patents
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Description
チャンバと、
このチャンバ内に設けられ上記基板の傾斜方向下側の背面を支持する支持ローラと、
背面が上記支持ローラによって支持された上記基板の下端を外周面によって支持し回転駆動されて上記基板を所定方向に搬送する駆動ローラと、
上記基板の傾斜方向上側の前面と下側の背面との高さ方向ほぼ全長にわたって対向して配置され上記基板の搬送方向上流側に向かって気体を噴射する気体噴射手段と、
上記基板の前面の上記気体噴射手段よりも基板の搬送方向上流側に上記前面と対向して設けられ上記気体噴射手段から噴射される気体が上記基板の前面に沿って流れるようガイドする前面整流板と
を具備したことを特徴とする基板の処理装置にある。
図1は処理装置の概略的構成を示す斜視図であって、この処理装置は装置本体1を有する。この装置本体1は分割された複数の処理ユニット、この実施の形態では第1乃至第5の処理ユニット1A〜1Eを分解可能に一列に連結してなる。
なお、基板Wの前面及び背面に対するエアーナイフ61の傾斜角度は30〜60度の範囲に設定されることが好ましい。
Claims (4)
- 所定の角度で傾斜させて搬送しながら処理液によって処理された基板に気体を噴射して乾燥処理する基板の処理装置であって、
チャンバと、
このチャンバ内に設けられ上記基板の傾斜方向下側の背面を支持する支持ローラと、
背面が上記支持ローラによって支持された上記基板の下端を外周面によって支持し回転駆動されて上記基板を所定方向に搬送する駆動ローラと、
上記基板の傾斜方向上側の前面と下側の背面との高さ方向ほぼ全長にわたって対向して配置され上記基板の搬送方向上流側に向かって気体を噴射する気体噴射手段と、
上記基板の前面の上記気体噴射手段よりも基板の搬送方向上流側に上記前面と対向して設けられ上記気体噴射手段から噴射される気体が上記基板の前面に沿って流れるようガイドする前面整流板と
を具備し、
上記前面整流板は、上記基板の高さ方向に対して複数に分割されていることを特徴とする基板の処理装置。 - 上記前面整流板は基板の搬送方向下流側から上流側に向かって上記基板の前面に対する対向間隔が次第に小さくなるよう傾斜して配置されていることを特徴とする請求項1記載の基板の処理装置。
- 上記基板の背面の上記気体噴射手段よりも基板の搬送方向上流側に上記背面と対向して設けられ上記気体噴射手段から噴射される気体が上記基板の背面から離れる方向に流れるようガイドする背面整流板が設けられることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の基板の処理装置。
- 複数の背面整流板が基板の搬送方向に沿って所定間隔で設けられていることを特徴とする請求項3記載の基板の処理装置。
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