JP4914279B2 - 基板の処理装置 - Google Patents
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Description
上記上下駆動装置は、
上記基板を水平に支持する上下可動体と、
この上下可動体の幅方向両側に設けられ上記上下可動体を上下方向に駆動する上下駆動機構と、
上記上下可動体の幅方向両端部に設けられこの上下可動体が上記上下駆動機構によって上下方向に駆動されたときに上記チャンバの上方から下方に向かって流れる清浄空気を上記上下可動体の幅方向両端部において幅方向外方に向かってガイドするガイド手段と
を具備したことを特徴とする基板の処理装置にある。
図1乃至図3はこの発明の第1の実施の形態であって、図1は処理装置1の概略的構成を示す。この処理装置1は複数のユニットが並設されて構成されている。すなわち、処理装置1は液晶表示装置に用いられる基板Wを洗浄処理するためのものであって、上記基板Wを搬入・搬出するための搬入搬出ユニット2、洗浄された基板Wをエアーナイフ14によって乾燥処理する乾燥処理ユニット3、基板Wを洗浄処理する洗浄処理ユニット4及び基板Wを上下方向に駆動する上下駆動ユニット5が順次一列に並設されて構成されている。
Claims (3)
- 清浄空気が上方から下方に向かって流されるとともに、基板を上下方向に駆動する上下駆動装置が設けられたチャンバを有する基板の処理装置であって、
上記上下駆動装置は、
上記基板を水平に支持する上下可動体と、
この上下可動体の幅方向両側に設けられ上記上下可動体を上下方向に駆動する上下駆動機構と、
上記上下可動体の幅方向両端部に設けられこの上下可動体が上記上下駆動機構によって上下方向に駆動されたときに上記チャンバの上方から下方に向かって流れる清浄空気を上記上下可動体の幅方向両端部において幅方向外方に向かってガイドするガイド手段と
を具備したことを特徴とする基板の処理装置。 - 上記ガイド手段は上記上下可動体の幅方向外方に向かって低く傾斜した傾斜面であることを特徴とする請求項1記載の基板の処理装置。
- 上記傾斜面の上端部は上記上下可動体に水平に支持された基板の幅方向両端部の上方に位置することを特徴とする請求項2記載の基板の処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2008270284A JP2008270284A (ja) | 2008-11-06 |
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JP (1) | JP4914279B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100974937B1 (ko) | 2008-04-16 | 2010-08-10 | 세메스 주식회사 | 기판 이송 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 설비 |
JP5432804B2 (ja) * | 2010-04-02 | 2014-03-05 | 株式会社日本マイクロニクス | リペア装置 |
CN103676329B (zh) * | 2013-12-20 | 2016-03-30 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 液晶光配向设备 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0786375A (ja) * | 1993-09-17 | 1995-03-31 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板搬送装置 |
JPH0997825A (ja) * | 1995-07-26 | 1997-04-08 | Fujitsu Ltd | 基板搬送装置と基板処理システム及び基板搬送方法と半導体装置の製造方法 |
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JP2008270284A (ja) | 2008-11-06 |
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A621 | Written request for application examination |
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