JP2006003036A - 乾燥装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】装置内の空間を乾燥前と後とに区切ることができ、乾燥後の洗浄物に微小な液滴や微粒子が浮遊して付着することを抑えて品質の低下を防止する乾燥装置を提供する。
【解決手段】湿式洗浄後の薄膜または薄板状の洗浄物1を乾燥させる装置で洗浄物1を装置10内で複数配列したローラ11により移送する途中に上下から気体を吹き付けて乾燥させる気体噴射手段13を有した乾燥装置であって、この装置10内で洗浄物1を搬入して気体噴射手段13の上下間を通過させて気体を吹き付けるまでの第1部屋10aと、洗浄物1が気体を吹き付けた後に移動して搬出されるまでの第2部屋10bとの各部屋間に延在し、洗浄物1が通過する気体噴射手段13の上下間の移送口13aを残して区切る仕切板12を設けるとともに、第2部屋10bに精密フィルタを介して清浄な空気を洗浄物1に向かって供給する空気供給部14を備える。
【選択図】図1
【解決手段】湿式洗浄後の薄膜または薄板状の洗浄物1を乾燥させる装置で洗浄物1を装置10内で複数配列したローラ11により移送する途中に上下から気体を吹き付けて乾燥させる気体噴射手段13を有した乾燥装置であって、この装置10内で洗浄物1を搬入して気体噴射手段13の上下間を通過させて気体を吹き付けるまでの第1部屋10aと、洗浄物1が気体を吹き付けた後に移動して搬出されるまでの第2部屋10bとの各部屋間に延在し、洗浄物1が通過する気体噴射手段13の上下間の移送口13aを残して区切る仕切板12を設けるとともに、第2部屋10bに精密フィルタを介して清浄な空気を洗浄物1に向かって供給する空気供給部14を備える。
【選択図】図1
Description
本発明は乾燥装置に係り、より詳細には、例えば、光学補正フィルムまたはその原盤フィルム、フィルム状の液晶基板、フィルム状のEL半導体基板、液晶基板、PDP基板、電子部品や機械加工部品、精密部品などの薄膜または薄板状の洗浄物を、湿式洗浄した後に搬入して乾燥させる乾燥装置に関する。
従来、乾燥装置は、例えば、光学補正フィルムまたはその原盤フィルム、フィルム状の液晶基板、フィルム状のEL半導体基板、液晶基板、PDP基板、電子部品や機械加工部品、精密部品などの薄膜または薄板状の洗浄物を、種々の湿式洗浄を実行した後に搬入して移動させながら表面及び裏面に空気を吹き付けることで付着した水滴を吹き飛ばして乾燥させる装置がよく知られている(例えば、特許文献1参照。)。
特開平11−204490号公報
前者の方法による例を、図10および図11にて説明する。図10は、このような空気を吹き付けて乾燥させる従来の乾燥装置の一実施形態を示す構成図である。また、図11は、図10に示したローラ11による洗浄物1の搬送状態を示す図である。図10に示すように、従来の乾燥装置の一実施形態は、湿式洗浄後の薄膜または薄板状の洗浄物1を乾燥させる箱状の装置10を備え、この装置10内で洗浄物1を複数配列したローラ11により移動させるとともに、この移動している洗浄物1の表面及び裏面に気体を吹き付けて乾燥させる気体噴射手段13を備えている。ここで、ローラ11は、図11に示すように、装置10(図10参照)内で棒状に延在して洗浄物1の移動方向に直交して複数配列する回転可能な軸11aを備え、この軸11aに沿って所定の間隔で複数円盤状に設けている。この軸11aは、装置10の周壁に固定したベアリングなどの軸受け部(図示せず)により回転可能に両端を軸支されている。また、気体噴射手段13は、図10に示したように、洗浄物1の表裏面に向けて噴射する気体をほとんどの場合、洗浄物1の表裏面に対して直角でなく、ある程度傾いた向きをもって噴射する。即ち、気体噴射手段13は、洗浄物1の搬送速度や噴射気体の量、圧力に応じて噴射角度を、洗浄物1の搬送方向に対して相対する方向(搬送方向と逆方向)に直角よりやや寝かせて設定している。
このような構成からなる従来の乾燥装置の一実施形態を用いて洗浄物1を乾燥させる場合、まず、種々の湿式洗浄を実行してほぼその全面を水などの液体で濡れた洗浄物1を、ローラ11により中空で箱状に周囲を囲んだ装置10内に搬入する。この際、ローラ11は、図11に示したように、軸11aに沿って円盤状に複数間隔をあけて設けることで、洗浄物1の裏面を少ない接触で支持して撓ませることなく所望の搬送速度で良好に運ぶことができる。また、装置10内では、図10に示したように、ローラ11で移動する洗浄物1の表面及び裏面に近接して設けた気体噴射手段13により気体を吹き付けて付着した液体を搬送方向とは逆方向に吹き飛ばすことによって乾燥を行う。そして、この乾燥を終えた洗浄物1は、洗浄工程の最終処理を終えたものとし、そのまま洗浄完了品として扱われて搬出される。
このように従来の乾燥装置は、図10に示したように、洗浄物1をローラ11により搬送しながら表面及び裏面に気体噴射手段13によって気体を吹き付けることで、湿式洗浄後の洗浄物1に付着した水滴を効果的に短時間で乾燥していた。
しかしながら、従来の乾燥装置では、図10に示したように装置10内で気体噴射手段13を中心として濡れた洗浄物1を搬入して気体を噴き付けて液滴を吹き飛ばして乾燥する搬入側(第1部屋)と、この乾燥処理を終えた洗浄物1を搬送して搬出する搬出側(第2部屋)とに区切られていないため、この第1部屋側に気体噴射手段13から噴射される気体が急激に供給され、第2部屋側に比べて第1部屋側の圧力が高くなり、この両部屋の気圧差または気体噴射手段13が噴射する気体の角度や量などの勢いによって吹き飛ばされた微小な液滴が乾燥処理を終えた第2部屋に流れ易くなって乾燥後の洗浄物1に付着することがある。このような微小な液滴は、洗浄処理を終えた洗浄物1の表面に付着すると、シミなどを残す原因となり乾燥処理後の洗浄物1の表面品質を下げる恐れがあるという不具合があった。
また、従来の乾燥装置では、前述したように、乾燥処理を終えた洗浄物1が既に最終洗浄処理を完了したものとして扱われるため、乾燥処理を終えた洗浄物1を搬送する第2部屋側内を特に清浄に扱う格別な配慮をしないと、例えば、前述した微細な液滴以外にも部屋内に浮遊する微粒子が飛散して洗浄物1の表面に付着したり、この空気中の微粒子が前述した微細な液滴に包含されることで新たな汚染物として機能してしまい、洗浄物1の表面に再付着して品質を低下させるという不具合があった。
また、従来の乾燥装置では、前述したように、乾燥処理を終えた洗浄物1が既に最終洗浄処理を完了したものとして扱われるため、乾燥処理を終えた洗浄物1を搬送する第2部屋側内を特に清浄に扱う格別な配慮をしないと、例えば、前述した微細な液滴以外にも部屋内に浮遊する微粒子が飛散して洗浄物1の表面に付着したり、この空気中の微粒子が前述した微細な液滴に包含されることで新たな汚染物として機能してしまい、洗浄物1の表面に再付着して品質を低下させるという不具合があった。
本発明はこのような課題を解決し、装置内の空間を乾燥前と後とに区切ることができ、乾燥後の洗浄物に微小な液滴や微粒子が浮遊して付着することを抑えて品質の低下を防止する乾燥装置を提供することを目的とする。
本発明は上述の課題を解決するために、湿式洗浄後の薄膜または薄板状の洗浄物を乾燥させる装置で洗浄物を装置内で複数配列したローラにより移送する途中に上下から気体を吹き付けて乾燥させる気体噴射手段を有した乾燥装置であって、この装置内で洗浄物を搬入して気体噴射手段の上下間を通過させて気体を吹き付けるまでの第1部屋と、洗浄物が気体を吹き付けた後に移動して搬出されるまでの第2部屋との各部屋間に延在し、洗浄物が通過する気体噴射手段の上下間の移送口を残して区切る仕切板を設けるとともに、第2部屋に精密フィルタを介して清浄な空気を前記洗浄物に向かって供給する空気供給部を備える。
ここで、仕切板と気体噴射手段とは、装置内で洗浄物の搬送方向に対して直交する方向に延在した直交式、または装置内の対角線方向に傾斜させて延在した傾斜式のいずれかにより第1部屋と第2部屋とを各々区切ることが好ましい。この際、ローラは、仕切板と気体噴射手段とが直交式の場合、この仕切板及び気体噴射手段と平行に複数配置して装置内の両側面に軸受け部を設けて両端を回転可能に支持した軸を備えてこの軸に沿って所定間隔で複数形成することが好ましい。また、第2部屋では、洗浄物を移動させる両端のみに平行に配列して移送する新たなローラを設けるとともに、このローラ間に薄板状に延在して表面に複数開口する孔を有して下部から気体を供給することで洗浄物の裏面に均一に気体を噴出させて少し浮上させながら搬送する浮上搬送部を設けることが好ましい。この第2部屋の新たなローラは、洗浄物の両端で平行に配列して両側面を挟持、または両端の裏面に当接して支持することが好ましい。
また、ローラの他の実施例として、仕切板と気体噴射手段とが傾斜式の場合、装置の側面に設けた軸受け部に一端を回転可能に片持ち支持し、装置内で仕切板及び気体噴射手段に向かって両側面から洗浄物の搬送方向と直交する方向に長さを変えて複数突出する軸を備え、この軸に沿って所定間隔で複数形成することが好ましい。この第2部屋では、装置の側面で回転可能に片持ち支持した軸に洗浄物を移送する両側の片側端部のみに沿って配列して洗浄物の片側裏面を支持して移送する新たなローラを設けるとともに、このローラと仕切板及び気体噴射手段との間に薄板で三角状に延在して表面に複数開口する孔を有して下部から気体を供給することで洗浄物の裏面に均一に気体を噴出させて少し浮上させながら搬送する浮上搬送部を設けることが好ましい。また、第2部屋での他の実施例としては、装置の側面で回転可能に片持ち支持した軸に洗浄物を移送する両側の片側のみに沿った片側端部と、この端部から他端側近傍まで一部長く延在する軸の他端部とに、洗浄物の裏面両端部を支持して移送する新たなローラを設けるとともに、このローラの下で三角状に延在して該ローラが当接しないように切り欠いたスリットを設けて表面に複数開口する孔を有して下部から気体を供給することで洗浄物の裏面に均一に気体を噴出させて少し浮上させながら搬送する浮上搬送部を設けることが好ましい。
さらに、ローラの更なる他の実施例としては、仕切板と気体噴射手段とが傾斜式の場合、装置内の底面で軸受け部により回転可能に軸支して上部に延在して洗浄物の両側に複数平行に配列した軸を備え、この軸の先端に設けられて洗浄物の両側面を挟持して搬送するとともに、この平行する間に仕切板及び気体噴射手段が対角線状に介在し、この仕切板及び気体噴射手段と軸との間に三角状に延在して表面に複数開口する孔を有して下部から気体を供給することで洗浄物の裏面に均一に気体を噴出させて少し浮上させながら搬送する浮上搬送部を第1部屋と第2部屋とに各々設けることが好ましい。
そして、第2部屋には、空気供給部を設けた下部に洗浄物を除電する除電手段を設けることが好ましい。また、第1部屋及び第2部屋には、軸が軸受け部を介して装置の外側に延在して端部に設けたギヤにより駆動源からの回転力を伝達して回転するとともに、ギヤ部に液体を滴下して防塵又は除電する滴下手段を更に備えることが好ましい。また、第1部屋は、洗浄物を搬入する投入口の方向に向けて気体を吹き付け、この吹き付けた投入口近傍に内部空気を吸い込んで排気する排気部を更に付設することが好ましい。また、装置には、軸を突出させた外側の側面に沿って中空に延在し、軸受け部、ギヤ、及び滴下手段を覆う排気管を備え、この排気管により滴下手段から滴下する液体の廃液と装置内の排気とを同時に実行可能に設け、パーティクルの発散を抑えることが好ましい。また、第1部屋では、洗浄物の表面に吹き付ける空気を0.4mpa〜0.05mpaの低圧エアーで行うことにより、帯電、パーティクルの発散を抑えて液切りを行うことが好ましい。
以上詳細に説明したように本発明による乾燥装置によれば、装置内を乾燥処理する第1部屋と乾燥後に搬送する第2部屋とに仕切板によって区切るため、この両部屋の気圧差または気体噴射手段が噴射する気体の角度や量などの勢いによって微小な液滴が吹き飛ばされて第2部屋に流れることを抑え、洗浄処理を終えた洗浄物への付着を防止し、シミなどの不良原因を抑えて乾燥後の洗浄物の品質を向上させることができる。
また、本発明による乾燥装置によれば、第2部屋の上部に精密フィルタを介して清浄な空気を洗浄物に向かって供給する空気供給部を設けているため、この第2部屋内を常に清浄な状態に維持でき、部屋内に浮遊する微粒子の飛散とともに液滴に包含して新たな汚染物として機能することを確実に抑え、洗浄物への再付着を防止してより一層品質を向上することができる。
また、本発明による乾燥装置によれば、第2部屋の上部に精密フィルタを介して清浄な空気を洗浄物に向かって供給する空気供給部を設けているため、この第2部屋内を常に清浄な状態に維持でき、部屋内に浮遊する微粒子の飛散とともに液滴に包含して新たな汚染物として機能することを確実に抑え、洗浄物への再付着を防止してより一層品質を向上することができる。
次に、添付図面を参照して,本発明による乾燥装置の実施の形態を詳細に説明する。図1は、本発明による乾燥装置の一実施形態を示す構成図である。また、図2は、図1に示した乾燥装置を上部から見た上面図である。また、図3は、図1に示したギヤ22の詳細を示す図である。また、図4は、図1に示したローラの他の実施例を示す図である。また、図5は、図4に示したローラ17の詳細を示す図である。また、図6は、図1に示したローラの更なる他の実施例を示す図である。また、図7は、図1に示した仕切板及び気体噴射手段を傾斜式にした他の実施例を示す図である。また、図8は、図7に示した傾斜式に用いるローラの他の実施例を示す図であり、図8(a)は洗浄物1の裏面を支持するローラ34を、図8(b)は洗浄物1の側面を挟持するローラ36を各々示している。また、図9は、図7に示した傾斜式に用いるローラの更なる他の実施例を示す図である。ここで、図1に示した本実施の形態では、排気口15、空気供給部14、及び仕切板12以外が、全て図6に示した従来技術と同一の構成要素であり、同じ構成要素には同一の符号を記載している。
図1に示すように、本発明による乾燥装置の一実施形態は、図10に示した従来技術のように、例えば、光学補正フィルムまたはその原盤フィルム、フィルム状の液晶基板、フィルム状のEL半導体基板、液晶基板、PDP基板、電子部品や機械加工部品、精密部品などの薄膜または薄板状の洗浄物1を、湿式洗浄後に投入口Bから搬入して排出口Cまで搬送する間に乾燥させる中空で箱状の装置10を備えており、この装置10内に投入口Bから搬入した洗浄物1を複数配列したローラ11により移動させるとともに、この移動する途中に洗浄物1の表面及び裏面に上下から気体を吹き付けて乾燥させる気体噴射手段13を備えている。また、本実施の形態では、図10に示した従来技術とは異なり、装置10内で洗浄物1を搬入して気体噴射手段13の上下間を通過させて気体を吹き付けるまでの第1部屋10aと、この洗浄物1が気体を吹き付けられた後に移動して搬出されるまでの第2部屋10bとの各部屋間に延在して洗浄物1が通過する気体噴射手段13の上下間の移送口13aを残して区切る仕切板12を設けるとともに、乾燥後に搬送する第2部屋10aの上部に精密フィルタ14aを介して清浄な空気を洗浄物1に向かって供給する空気供給部14を備えている。即ち、本実施の形態は、装置10内を仕切板12により第1部屋10aと第2部屋10bとに各々区切ることで乾燥後の第2部屋10bに第1部屋10aから微小な液滴が流れ込むことを防止するとともに、第2部屋10bの空気供給部14により部屋内を常に清浄に維持することで浮遊する微粒子の飛散を抑えている。
ここで、仕切板12は、前述したように、洗浄物1がローラ11により搬送されて通過する気体噴射手段13の上下間の移送口13aを残して区切るように、装置10内の上下面から気体噴射手段13までの間に延在して第1部屋10aと第2部屋10bとに各々仕切っている。この際、移送口13aは、空気供給部14から供給して第2部屋10bに充満した清浄な空気が第1部屋10aに向かって常に流出する流出口になるため、第1部屋10a内の微細な液滴を投入口B側に吹き飛ばして第2部屋10bに流入することを防止できる。また、空気供給部14は、乾燥後の洗浄物1を搬送する第2部屋10bの上部にダクトなどの排気管を接続してなり、この上部の開口端部に精密フィルタ14aを介在することで清浄な空気を常に供給できるように設けている。従って、乾燥後の洗浄物1は、空気供給部14により常に清浄な環境下にある第2部屋10bに搬送されるため、空気中の異物が表面に付着する汚染を確実に防止することができる。
また、気体噴射手段13は、図10に示した従来技術と同様に、洗浄物1の表裏面に向けて噴射する気体をほとんどの場合、洗浄物1の表裏面に対して直角でなく、ある程度傾いた向きをもたせて噴射する。即ち、気体噴射手段13は、洗浄物1の搬送速度や噴射気体の量、圧力に応じて噴射角度を、洗浄物1の搬送方向に対して相対する方向(搬送方向と逆方向)に直角よりやや寝かせて噴射できるように設定している。この角度は、洗浄物1の表裏面に付着した液体を吹き飛ばす際に大きく影響するため、最適な乾燥を行うために適宜調節することが重要になる。従って、気体噴射手段13は、所定の流量・圧力により気体を噴射する際、前述した洗浄物1の表面に対する角度を適宜調節することが可能となっている。
また、装置10には、図1に示した第1部屋10aの気体噴射手段13が洗浄物1に向けて気体を吹き付ける方向の投入口B近傍に内部空気を上下で吸い込んで排気する排気部15を付設するとともに、第2部屋10bに設けた空気供給部14の下部に洗浄物1を除電する除電手段16を更に設けている。ここで、装置10内では、空気供給部14により供給した空気が第2部屋10bに充満して移送口13aを介して第1部屋10a側に流入し、これにより第1部屋10aの微小な液滴を投入口B側に流して第2部屋10bに流れ込むことを防止できるが、さらに上下に飛散して再び移送口13a側に逆流して第2部屋10bに流入する可能性もある。そこで、排気部15は、投入口B側に設けて上下に飛散して移送口13aに向かって搬送方向と逆向きに逆流しようとする空気を、浮遊した微少液滴とともに速やかに装置10外に排出できるように設けている。この排気部15は、装置10内で洗浄物1の表裏面近傍まで延在させて、この表裏面に流れる微小な液滴を直接吸引できるように設けている。尚、排気部15は、例えば、空気供給部14で空気を供給して気圧差により第2部屋10bから第1部屋10aに流れる空気の流れを止めない程度であれば、第2部屋10bにも適宜設けて排気及び排液することも可能である。
一方、除電手段16は、例えば、薄板状の洗浄物1を乾燥させる方法として空気を吹き付けた場合、空気と洗浄物1との摩擦によって静電気を発生してしまい、洗浄物1が帯電すると一種の集塵機のように空気中の微粒子を吸い寄せて乾燥後の品質を低下させてしまうため、これを防止するために第2部屋10bに設置して除電している。従って、除電手段16は、第1部屋10aで気体噴射手段13の噴出空気によって乾燥を行う際に帯電してしまった洗浄物1を、第2部屋10bで直ちに除電することが可能となり、装置10内にとどまらず搬出した後にも洗浄物1が帯電していることが原因で集塵機のごとく作用する不具合を確実に防止している。
また、帯電の問題で言うならば、図1に示した構成において、もう1ヶ所帯電の可能性を持つ場所がある。それは、洗浄物1を搬送するローラ11の回転時に発生する摩擦により帯電し易くなる。詳しく説明すると、ローラ11は、図2に示すように、従来技術と同様に装置10内で洗浄物1の搬送方向に対して直交する方向に棒状に延在して平行に複数配列させた回転可能な軸11aを備え、この軸11aに沿って所定の間隔で複数円盤状に形成され、この軸11aの両端を装置10の周壁に固定したベアリングなどの軸受け部11bにより軸支して回転可能に設けている。ここで、軸11aは、例えば、薄板状の洗浄物1において種々ある大きさで畳ほどの大きさになる洗浄物1を搬送する場合、強固な材質をもって搬送可能な軸構造にしなければならないため、材質として金属を用いることが少なくない。そして、この軸11aは、図2に示したように、洗浄物1を搬送するために多数設けており、その1本1本にモータなどの駆動源20を設けることは現実的ではなく、多くの場合、1つの駆動源20の回転力を特定数のギヤ22によって軸11aに各々伝達して回転させている。ここで、ギヤ22は、金属同士が擦れる機構であることに注目すると、そこにはやはり静電気が発生する可能性がある。従って、ギヤ22の摩擦により軸11aが帯電すると、これが洗浄物1にも帯電して表面が集塵機のごとく作用して品質を低下させるという不具合があった。
そこで、本実施の形態では、図3に示すように、ローラ11を回転させる軸11aを周壁に固定した軸受け部11bに軸支し、この軸11aが軸受け部11bを介して装置10の外側に延在して端部に設けたギヤ22により駆動源20(図2参照)からの回転力を伝達して回転動作を行う構造に形成され、このギヤ部22に装置10の外側で液体を滴下して防塵又は除電する滴下手段24を更に備えている。即ち、滴下手段24は、ギヤ部22に水を滴下することで帯電した軸11aを通電させる役割をする。これにより帯電した軸11aは、図2に示したギヤ部22から駆動源20まで延在する金属性軸を介して、駆動源20内のアース回路部(図示せず)に通電させて接地することが可能になる。尚、図3に示した滴下手段24は、ギヤ部22に液体を滴下することで摩擦によって削れたカスなどの防塵対策としての役割も同時に兼ねている。この際、装置10には、図3の点線で示したように、軸11aを突出させた外側の側面に沿って中空に延在し、軸受け部11b、ギヤ22、及び滴下手段24を覆う排気管25を備え、この排気管25により滴下手段24から滴下する液体の廃液と、装置10内の排気とを同時に実行可能に設け、パーティクルの発散を抑えるように設けることも可能である。
このように形成された本発明による乾燥装置の一実施形態を用いて洗浄物1を乾燥させる場合、まず、他の工程において種々の湿式洗浄を終えた洗浄物1を搬送機構(図示せず)によって装置10内に搬送する。この段階では、洗浄物1の表面及び裏面は湿式洗浄した洗浄液で濡れている。そして、洗浄物1は、図1に示したように、投入口Bで搬送機構からローラ11により装置10内の後方に送られ、やがて気体噴射手段13にさしかかる。ここで、ローラ11を駆動する場合、図3に示した滴下手段24を同時に駆動して軸受け部11bとギヤ部22とに適宜液体を滴下することで防塵、及び軸11の帯電を防止する。
その後、気体噴射手段13は、図1に示したように、搬入された洗浄物1の表面及び裏面両方に作用するように駆動し、上下から噴出した空気によって洗浄物1の表面及び裏面に存在する液滴を吹き飛ばすことで、後方(第2部屋10b)に向かって搬送する洗浄物1を乾燥状態に処理する。この際、装置10内部の空間では、第1部屋10a内で気体噴射手段13により洗浄物1の表面に残留した液体を吹き飛ばして発生する微少な液滴が飛散又は浮遊したとしても、仕切板12によって第1部屋10aと第2部屋10bとを区切ることにより、浮遊した液滴が第2部屋10bに流れて洗浄物1表面に付着することを防止することができる。
また、装置10内では、第1部屋10aに洗浄物1を投入する投入口Bの周辺に排気部15を設けており、この排気部15により気体噴出手段13が噴出する終端の投入口B側で洗浄物1の表面に沿って流れた空気を直接吸い出すため、仕切板12によって区切られた第1部屋10a内の上流側が陽圧となり第2部屋10bに向かう逆流を抑えることができる。また、排気部15は、気体噴出手段13より噴出した気体によって吹き飛ばされ、微少な液滴となった液体をも空気の流れに乗せて速やかに排出するため、この吹き飛ばされた液滴の再付着による洗浄物1の品質低下を完全に防止する。これにより、装置10内では、気体噴出手段13から噴射した空気により液体を吹き飛ばして飛散する浮遊液滴、すなわち汚染源が乾燥後に搬送する第2部屋10bの洗浄物1に再付着することを確実に防ぐことができる。
さらに、乾燥を終えて搬送する第2部屋10bでは、洗浄物1を搬送する部屋の上部に除電手段16を設けたことにより、第1部屋10aで気体の噴出によって乾燥を行うことで帯電した洗浄物1を直ちに除電することができ、この洗浄物1が帯電することで集塵機のごとく振る舞い、表面に異物を付着することを防止する。また、乾燥後の洗浄物1が搬送される第2部屋10bの上部に精密フィルタ14aを設けているため、常に清浄な空気を供給し、これにより乾燥後の洗浄物1は清浄な環境下を搬送させることができ、空気中に浮遊する異物が乾燥後の洗浄物1の表面に付着するのを防止できる。
ここで、本実施の形態では、乾燥後の洗浄物1が搬送される第2部屋10aに精密フィルタ14aを介して常に清浄な空気を供給し、たとえ洗浄物1が帯電しても集塵される異物があまり存在しないため問題にならないが、洗浄物1が装置10から搬出された後でも帯電は残るため、除電手段16を設けて洗浄物1の除電を行っておくことで製品の品質を低下させる要因を取り除いている。尚、第1部屋10aでは、洗浄物1の表面に吹き付ける空気を0.4mpa〜0.05mpaの低圧エアーで行うことにより、帯電及びパーティクルの発散を極力抑えて液切りを行うことで汚染の原因を確実に防止している。
このように本発明による乾燥装置の一実施形態によると、装置10内を乾燥処理する第1部屋10aと乾燥後に搬送する第2部屋10bとに仕切板12によって各々区切っているため、この両部屋の気圧差または気体噴射手段13が噴射する気体の角度や量などの勢いによって吹き飛ばされた微小な液滴が第2部屋10bに流れることを抑え、乾燥処理を終えた洗浄物1への付着を防止し、シミなどの不良原因を抑えて乾燥後の洗浄物1の品質を向上させることができる。また、本実施の形態では、第1部屋10aに排気部15を設けて、装置10内で気体噴射手段13により吹き飛ばされた微小な液滴を速やかに排出するため、第2部屋10bに搬送した乾燥後の洗浄物1に再付着することを確実に防ぐことができる。
また、本発明による乾燥装置の一実施形態によると、第2部屋10bの上部に精密フィルタ14aを介して清浄な空気を洗浄物1に向かって供給する空気供給部14を設けているため、この第2部屋10b内を常に清浄な状態に維持でき、部屋内に浮遊する微粒子の飛散とともに液滴に包含されて新たな汚染物として機能することを確実に抑え、洗浄物1の再付着を防止してより一層品質を向上することができる。また、本実施の形態では、装置10に除電手段16及び滴下手段24を設けることで、第2部屋10b内及びローラ11の軸11aが帯電することを防止しているため、洗浄物1が帯電して異物を集塵することを確実に防止できる。
また、本発明による乾燥装置の一実施形態によると、第2部屋10bの上部に精密フィルタ14aを介して清浄な空気を洗浄物1に向かって供給する空気供給部14を設けているため、この第2部屋10b内を常に清浄な状態に維持でき、部屋内に浮遊する微粒子の飛散とともに液滴に包含されて新たな汚染物として機能することを確実に抑え、洗浄物1の再付着を防止してより一層品質を向上することができる。また、本実施の形態では、装置10に除電手段16及び滴下手段24を設けることで、第2部屋10b内及びローラ11の軸11aが帯電することを防止しているため、洗浄物1が帯電して異物を集塵することを確実に防止できる。
ところで、本実施の形態では、図2に示したように、第1部屋10aと第2部屋10bとに同じローラ11を用いた実施例を詳細に説明したが、これに限定するものではなく、例えば、第2部屋10b側のローラを洗浄物1との接触がより少ない構造にすることも可能である。詳しく説明すると、図1乃至3に示したローラ11は、洗浄物1の搬送方向に直交する軸11aに沿って適当な間隔をもって複数リング(円盤)状に配置して洗浄物1の裏面に当接させることで支持し、この軸11aを回転して搬送を行っている。即ち、ローラ11は、軸11aの全長に渡って円柱状に長く延在させて洗浄物1を支えるのではなく、適当な間隔をもってリング状に複数配置して洗浄物1の裏面での接触を少なくして搬送している。また、ローラ11は、薄膜状の洗浄物1を滑ることなく搬送させるためにゴムなどの材質で形成することが多く、よってゴム材の部分が洗浄物1の裏面に常に接触していることになる。そして、ローラ11は、図2に示した第1部屋10aでは常に濡れた洗浄物1に当接して支持しており、第2部屋10bでは乾燥した洗浄物1に当接して支持するようになる。この場合、ゴム材のローラ11は、第1部屋10aで濡れた状態の洗浄物1に当接して支持しており特に汚染することはないが、第2部屋10bの乾燥した洗浄物1に接触させた場合、洗浄物1の裏面にゴムの当接した跡が筋状に残ってしまうことがある。この種の装置は洗浄物1の透明性を重視することが多く、たとえ裏面の汚れといえども問題となる場合があった。
そこで、ローラの他の実施例として、洗浄物1の搬送方向両端のみに当接して少ない接触で搬送できる構造(図4乃至6参照)にすることも可能である。尚、図4乃至6に示したローラ17、19及び浮上搬送部18以外は、全て、図1に示した乾燥装置と同じ構成要素であり、重複する説明は省略する。
図4に示すように、ローラ17の他の実施例は、装置10内で第1部屋10aと異なって第2部屋10bに設けており、仕切板12及び気体噴射手段13と平行に複数配置されて装置10内の両側面に軸受け部17bを設けてこの両端で各々回転可能に片持ち支持した軸17aを複数備え、この軸17aにより洗浄物1を移動させる両端のみに平行して複数円盤状に配列して裏面の両端部を支持しながら回転することで移送可能に設けている。また、ローラ17は、洗浄物1を移動させる裏面両端部に平行に設けた間に、薄板状の浮上搬送部18を備えている。この浮上搬送部18は、図5に示すように、ローラ17の間で薄板状に延在して、表面に複数開口する孔18aを有して下部から気体を供給することで洗浄物1の裏面に均一に気体を噴出させて少し浮上させながら搬送できるように設けている。この際、軸17aは、装置10の両側に各々分けて片持ち支持(図4参照)することに限定するものではなく、例えば、浮上搬送部18を横切って両側まで延在させ、この両端部にローラを設けることも可能であるが、この場合に浮上搬送部18に当接しないように配置することが必要である。
また、このローラ17が洗浄物1の裏面に当接して支持する実施例を説明したが、これに限定されるものではなく、例えば、洗浄物1の両端側面を挟持するように支持して搬送することも可能である。この洗浄物1の両端側面を挟持するローラ19の更なる他の実施例は、図4に示したローラのように装置10の第2部屋10bに設けられ、気体噴射(乾燥)後の洗浄物1の両端側面を挟持することで搬送時の接触を少なくしている。このローラ19は、図6に示すように、第2部屋10b(図4参照)の下部から洗浄物1の両端まで延在して側面に平行して複数配列する軸19aを備え、この軸19aの先端部分に円柱状に形成されて洗浄物1の両側面を挟持して搬送するように形成している。そして、このローラ19間には、図4に示したローラと同様に、洗浄物1の裏面から空気を供給して少し浮上させて搬送する浮上搬送部18を設けている。
このようなローラ17、19を用いて搬送する場合、洗浄物1の両端を挟持または支持して搬送する際に洗浄物1が畳ほどの大きな面積を備えていると、中心部が下方に撓んで(反って)湾曲してしまうため、浮上搬送部18により下部から所定の流量及び圧力の空気を噴出し、薄板状の洗浄物1をわずかながら空中に浮上させた状態で後方に送って搬送する。ここで、洗浄物1と接触しているのは両端のローラ17、19のみであり、図2に示したローラに比べて洗浄物1の裏面で発生する汚染の要因を低減できる。
このようにローラ17、19の他の実施例によると、例えば、液晶基板による洗浄物1の場合において、周囲端部から内側に約2mm〜10mm程度の製造後に切り捨てる端部を支持または挟持する構造のため、乾燥した洗浄物1の裏面にゴムの当接した跡が筋状に残ることを完全に防止することができる。
一方、本実施の形態では、図2に示したように、装置10内で洗浄物1の搬送方向に対して直交する方向に延在した直交式の仕切板12及び気体噴射手段13の実施例を説明したが、これに限定されるものではなく、例えば、装置内の対角線方向に傾斜させて延在した傾斜式の仕切板及び気体噴射手段を設けることも可能である。このような傾斜式による仕切板32及び気体噴射手段33の他の実施例は、図7に示すように、四角形状の装置30内で四隅2箇所から各々対角線方向に傾斜しながら延在し、第1部屋30aと第2部屋30bとの空間を各々三角形状に区切るように配置している。この際、気体噴射手段33は、洗浄物1の表面への噴射角度に加え、搬送方向に対する対角線方向の傾斜を備えることで、洗浄物1の表面に付着した液体を最適な角度で確実に吹き飛ばすことが可能になる。
ここで、装置30内では、仕切板32及び気体噴射手段33が対角線状に延在しているため、ローラの軸を両側面に延在させて両端を支持することが不可能になる。そこで、ローラ31は、図7に示したように仕切板32と気体噴射手段33とが傾斜式の場合、装置30の側面に設けた軸受け部32bに一端を回転可能に片持ち支持して装置30内で仕切板32及び気体噴射手段33に向かって両側面から洗浄物1の搬送方向と直交する方向に長さを変えて複数突出する軸31aを備え、この軸31aに沿って形成している。即ち、軸31aは、図7に示したように、第1部屋30aでは洗浄物1を搬入する側が最も長く仕切板32及び気体噴射手段33の傾斜に沿って徐々に短く形成され、反対に第2部屋30bでは洗浄物1の搬入側が最も短く仕切板32及び気体噴射手段33の傾斜に沿って搬出側に向かって徐々に長く形成している。そして、この軸31aには、装置30内で最も長く延在した搬入側と搬出側とに所定間隔で最も多くのローラ31が複数配列(図7では4個配列)するとともに、仕切板32及び気体噴射手段33の傾斜に沿って短くなるにつれてローラ31の数を徐々に減らして設けている。尚、この傾斜式の装置30内には、図示していないが、図1乃至3に示した空気供給部14、排気部15、除電手段16、駆動源20、滴下手段24を適宜配置して備えている。また、傾斜式の場合、装置30の両側で軸31aが片持ち支持されるため、この装置30の両側にギヤ22及び駆動源20を設けることで軸31aを回転させている。
このような傾斜式による仕切板32及び気体噴射手段33の他の実施例によると、装置30内を第1部屋30aと第2部屋30bとに各々区切ることができるため、図2に示した仕切板及び気体噴射手段と同様の効果が得られるとともに、気体噴射手段33を搬送方向に対して対角線方向に傾斜させることで図2に示した気体噴射手段に比べてより最適な液体の吹き飛ばしと乾燥とを実現することができる。
ここで、図7に示した傾斜式の乾燥装置において、図5及び図6に示したローラのように浮上搬送部を設けて洗浄物1への接触を最小にすることも可能である。このように洗浄物1への接触を最小にする傾斜式に用いるローラの他の実施例は、図8(a)に示すように、装置30内で第1部屋30aと異なるように第2部屋30bに設けられ、この第2部屋30bの側面で回転可能に片持ち支持した軸34aを備え、この軸34aに洗浄物1を移送させる両側の片側端部のみに沿って配列して洗浄物1の片端裏面を支持して移送するように形成している。即ち、このローラ34は、傾斜式の第2部屋30bで搬送される洗浄物1の裏面両端に配置することが困難なため、片端のみに配置して搬送するように形成している。そして、第2部屋30bでは、仕切板32及び気体噴射手段33とローラ34との間に、薄板で三角状に延在して表面に複数開口する孔35aを有して下部から気体を供給することで洗浄物1の裏面に均一に気体を噴出させて少し浮上させながら搬送する浮上搬送部35を設けている。
また、このような洗浄物1の片端裏面を支持する傾斜式に用いるローラの実施例に限定するものではなく、例えば、図6に示したローラのように洗浄物1の両側面を挟持する構造に形成することも可能である。このように洗浄物1の両側面を挟持する傾斜式に用いるローラの他の実施例は、図8(b)に示すように、装置30内の裏面で軸受け部(図示せず)により回転可能に軸支して上部に延在して洗浄物1の両側で複数平行に配列した軸36aを備え、この軸36aの先端に設けられて洗浄物1の両側面を挟持して搬送するように設けている。また、ローラ36は、平行する間に仕切板32及び気体噴射手段33が対角線状に介在し、この仕切板32及び気体噴射手段33と軸36aとの間に三角状に延在して表面に複数開口する孔37aを有して下部から気体を供給することで洗浄物1の裏面に均一に気体を噴出させて少し浮上させながら搬送する浮上搬送部37を第1部屋30aと第2部屋30bとに各々設けている。
このような傾斜式に用いるローラ34、36の他の実施例によると、気体を噴射した後に搬送した第2部屋30bで洗浄物1の裏面両端や側面のみを支持または挟持する構造のため、図5及び6にし示したローラと同様の効果を得ることができる。
ここで、図8に示したローラ34、36では、第2部屋30bに搬送された洗浄物1の片端裏面のみを支持する構造であり、他端側は浮上搬送部35、37のみで支持する少し不安定な支持状態になる。そこで、第2部屋30bには、洗浄物1裏面の片端のみでなく両端を支持できるローラを設けることも可能である。このように洗浄物1の裏面両端を支持可能な傾斜式に用いるローラ38の更なる他の実施例は、図9に示すように、装置30の側面で回転可能に片持ち支持した軸38aを備え、この軸38aに洗浄物1を移送する両側の片側に沿った片側端部Dと、この端部から他端側の近傍まで一部長く延在する軸38の他端部Eとに各々設けている。即ち、装置30の側面で回転可能に片持ち支持した軸38aにおいて、洗浄物1を移動させる両側のうち片側端部Dにローラ38を配列させて設けるとともに、この端部から更に延在して他端側の近傍まで一部長く延在する搬出側の軸その他端部Eにもローラ38を設けることで、洗浄物1の裏面両端部を支持して安定して移送することが可能に設けている。この際、他端部E側のローラ38は、乾燥後の洗浄物1裏面にゴムの当接した跡が筋状に残らない端部に位置することが最も重要になる。
また、第2部屋30b内には、ローラ38の下で三角状に延在してローラ38が当接しないように切り欠いたスリット39bを設け、この表面に複数開口する孔39aを有して下部から気体を供給することで洗浄物1の裏面に均一に気体を噴出させて少し浮上させながら搬送する浮上搬送部39を設けている。この浮上搬送部39は、図8に示した浮上搬送部とは異なり、ローラ38が当接することをスリット39bにより回避することで、第2部屋30b内の端まで広く延在させることができ、且つ、洗浄物1の端部外側まで延在して気体を供給することが可能なため、安定した移送が可能になる。
このように洗浄物1の裏面両端部を支持可能な傾斜式に用いるローラ38の更なる他の実施例によると、洗浄物1の両端裏面を片側端部Dと他端部Eとに設けたローラ38により確実に支持するため、図8に示したローラに比べて安定した移送が可能になるとともに、第2部屋30bの浮上搬送部39にローラ38を回避するスリット39bを設けて洗浄物1の端部外側まで浮上搬送部39が広く延在するように設けることで、より安定した浮上搬送が可能になる。
以上、本発明による乾燥装置の実施の形態を詳細に説明したが、本発明は前述した実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で変更可能である。
例えば、装置の上下部に排気部及び上部に空気供給部を各々設けた実施例を詳細に説明したが、この装置の上下部または上部に限定されるものではなく、装置の側面に設けても良い。
例えば、装置の上下部に排気部及び上部に空気供給部を各々設けた実施例を詳細に説明したが、この装置の上下部または上部に限定されるものではなく、装置の側面に設けても良い。
10 装置
10a 第1部屋
10b 第2部屋
11 ローラ
11a 軸
11b 軸受け部
12 仕切板
13 気体噴射手段
13a 移送口
14 空気供給部
15 排気部
16 除電手段
20 駆動源
22 ギヤ
24 滴下手段
10a 第1部屋
10b 第2部屋
11 ローラ
11a 軸
11b 軸受け部
12 仕切板
13 気体噴射手段
13a 移送口
14 空気供給部
15 排気部
16 除電手段
20 駆動源
22 ギヤ
24 滴下手段
Claims (14)
- 湿式洗浄後の薄膜または薄板状の洗浄物を乾燥させる装置で、該洗浄物を装置内で複数配列したローラにより移送する途中に上下から気体を吹き付けて乾燥させる気体噴射手段を有した乾燥装置において、
前記装置内で前記洗浄物を搬入して前記気体噴射手段の上下間を通過させて気体を吹き付けるまでの第1部屋と、前記洗浄物が気体を吹き付けた後に移動して搬出されるまでの第2部屋との各部屋間に延在し、前記洗浄物が通過する前記気体噴射手段の上下間の移送口を残して区切る仕切板を設けるとともに、前記第2部屋に精密フィルタを介して清浄な空気を前記洗浄物に向かって供給する空気供給部を備えたことを特徴とする乾燥装置。 - 請求項1に記載の乾燥装置において、
前記仕切板と気体噴射手段とは、前記装置内で前記洗浄物の搬送方向に対して直交する方向に延在した直交式、または前記装置内の対角線方向に傾斜させて延在した傾斜式のいずれかにより前記第1部屋と第2部屋とを各々区切ることを特徴とする乾燥装置。 - 請求項2に記載の乾燥装置において、
前記ローラは、前記仕切板と気体噴射手段とが前記直交式の場合、この仕切板及び気体噴射手段と平行に複数配置して前記装置内の両側面に軸受け部を設けて両端を回転可能に支持した軸を備えて該軸に沿って所定間隔で複数形成することを特徴とする乾燥装置。 - 請求項3に記載の乾燥装置において、
前記第2部屋では、前記洗浄物を移動させる両端のみに平行に配列して移送する新たなローラを設けるとともに、このローラ間に薄板状に延在して表面に複数開口する孔を有して下部から気体を供給することで前記洗浄物の裏面に均一に気体を噴出させて少し浮上させながら搬送する浮上搬送部を設けたことを特徴とする乾燥装置。 - 請求項4に記載の乾燥装置において、
前記第2部屋の新たなローラは、前記洗浄物の両端で平行に配列して両側面を挟持、または両端の裏面に当接して支持することを特徴とする乾燥装置。 - 請求項2に記載の乾燥装置において、
前記ローラは、前記仕切板と気体噴射手段とが前記傾斜式の場合、前記装置の側面に設けた軸受け部に一端を回転可能に片持ち支持し、前記装置内で前記仕切板及び気体噴射手段に向かって両側面から前記洗浄物の搬送方向と直交する方向に長さを変えて複数突出する軸を備え、該軸に沿って所定間隔で複数形成することを特徴とする乾燥装置。 - 請求項6に記載の乾燥装置において、
前記第2部屋では、前記装置の側面で回転可能に片持ち支持した軸に前記洗浄物を移送する両側の片側端部のみに沿って配列して前記洗浄物の片側裏面を支持して移送する新たなローラを設けるとともに、このローラと前記仕切板及び気体噴射手段との間に薄板で三角状に延在して表面に複数開口する孔を有して下部から気体を供給することで前記洗浄物の裏面に均一に気体を噴出させて少し浮上させながら搬送する浮上搬送部を設けたことを特徴とする乾燥装置。 - 請求項6に記載の乾燥装置において、
前記第2部屋では、前記装置の側面で回転可能に片持ち支持した前記軸に前記洗浄物を移送する両側の片側のみに沿った片側端部と、この端部から他端側近傍まで一部長く延在する前記軸の他端部とに、前記洗浄物の裏面両端部を支持して移送する新たなローラを設けるとともに、このローラの下で三角状に延在して該ローラが当接しないように切り欠いたスリットを設けて表面に複数開口する孔を有して下部から気体を供給することで前記洗浄物の裏面に均一に気体を噴出させて少し浮上させながら搬送する浮上搬送部を設けたことを特徴とする乾燥装置。 - 請求項2に記載の乾燥装置において、
前記ローラは、前記仕切板と気体噴射手段とが前記傾斜式の場合、前記装置内の底面で軸受け部により回転可能に軸支して上部に延在して前記洗浄物の両側に複数平行に配列した軸を備え、該軸の先端に設けられて前記洗浄物の両側面を挟持して搬送するとともに、この平行する間に前記仕切板及び気体噴射手段が対角線状に介在し、この仕切板及び気体噴射手段と前記軸との間に三角状に延在して表面に複数開口する孔を有して下部から気体を供給することで前記洗浄物の裏面に均一に気体を噴出させて少し浮上させながら搬送する浮上搬送部を前記第1部屋と第2部屋とに各々設けたことを特徴とする乾燥装置。 - 請求項1乃至9のいずれかに記載の乾燥装置において、
前記第2部屋には、前記空気供給部を設けた下部に前記洗浄物を除電する除電手段を設けたことを特徴とする乾燥装置。 - 請求項1乃至10のいずれかに記載の乾燥装置において、
前記第1部屋及び第2部屋には、前記軸が前記軸受け部を介して装置の外側に延在して端部に設けたギヤにより駆動源からの回転力を伝達して回転するとともに、前記ギヤ部に液体を滴下して防塵又は除電する滴下手段を更に備えたことを特徴とする乾燥装置。 - 請求項1乃至11のいずれかに記載の乾燥装置において、
前記第1部屋は、前記洗浄物を搬入する投入口の方向に向けて前記気体を吹き付け、この吹き付けた投入口近傍に内部空気を吸い込んで排気する排気部を更に付設していることを特徴とする乾燥装置。 - 請求項11に記載の乾燥装置において、
前記装置には、前記軸を突出させた外側の側面に沿って中空に延在し、前記軸受け部、ギヤ、及び滴下手段を覆う排気管を備え、この排気管により前記滴下手段から滴下する液体の廃液と前記装置内の排気とを同時に実行可能に設け、パーティクルの発散を抑えることを特徴とする乾燥装置。 - 請求項1乃至13のいずれかに記載の乾燥装置において、
前記第1部屋では、前記洗浄物の表面に吹き付ける空気を0.4mpa〜0.05mpaの低圧エアーで行うことにより、帯電、パーティクルの発散を抑えて液切りを行うことを特徴とする乾燥装置。
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