JP2004074021A - 基板処理装置及び基板洗浄ユニット - Google Patents
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Abstract
【解決手段】この基板処理装置1では、基板Wが傾斜搬送されつつ洗浄処理が行われ、搬送方向A上流側から順に、低圧で純水を吐出する吐出部33,35,37,41,43、高圧で純水を吐出する吐出部47,49,55、純水とエアとのミスト状の混合流体を吐出する吐出部53が備えられる。各洗浄部7,9,11,13間には、パイプノズル等である水流形成部19,21,23が備えられ、洗浄部7の前段及び洗浄部13の後段には、液カーテン等である水流形成部17,25が備えられる。水流形成部25の後段には、装置1外の供給ライン63から未使用の純水が供給される吐出部59,61が備えられる。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウェハ、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイなどのフラットパネルディスプレイ製造用のガラス基板、プリント基板等の板状基板を湿式にて処理(洗浄、現像、エッチング、剥離処理など)するための基板処理装置、及び基板洗浄ユニットに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年、パターンの微細化や、AL膜等の柔らかい膜質の膜が用いられるようになるのに伴い、基板に対するダメージの少ない洗浄ツールが求められている。
【0003】
ダメージの少ない洗浄ユニットとしては、洗浄液を高圧で基板に吐出して洗浄する高圧洗浄ユニット、洗浄液とエアとを混合してミスト状の混合流体として基板に吐出して洗浄を行う2流体洗浄ユニット、及び超音波が印加された洗浄液を基板に吐出して洗浄する超音波洗浄ユニット等が用いられている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述の高圧洗浄ユニット、2流体洗浄ユニット及び超音波洗浄ユニット等を単体で使用する構成では、それぞれ一定の洗浄効果は得られるものの、満足できる効果は得られていない。特に、洗浄によって基板から剥離された汚染物が基板から離れる前に再付着してしまい、再び基板を汚染するのを防止する効果が不十分であった。
【0005】
また、成膜処理等の上流側の工程で、基板における搬送方向に垂直な幅方向の端部が汚染された場合に、上述の各洗浄ユニットでは、その基板端部の汚染物を的確に除去することができず、剥離させた基板端部の汚染物が基板表面に再付着してしまったり、基板の搬送ローラ等が汚染されてしまい、その汚染された搬送ローラによって他の基板が汚染されてしまう2次汚染が生じるなどの問題もある。
【0006】
そこで、前記問題点に鑑み、本発明の第1の目的は、基板から剥離させた汚染物が基板に再付着するのを効果的に防止でき、洗浄効果の向上が図れる基板処理装置を提供することである。
【0007】
また、本発明の第2の目的は、基板端部に付着した汚染物を的確に除去でき、洗浄効果の向上が図れる基板処理装置及び基板洗浄ユニットを提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するための技術的手段は、所定の搬送経路に従って搬送されてきた基板に対して高圧の洗浄液を吐出して洗浄を行う第1の吐出部と、前記搬送経路上における前記第1の吐出部の搬送方向下流側に設けられ、前記搬送経路に従って搬送されてきた基板に対して、洗浄液と気体とを混合してミスト状の混合流体として吐出して洗浄を行う第2の吐出部と、を備えることを特徴とする。
【0009】
好ましくは、前記搬送経路上における前記第1の吐出部の前記搬送方向上流側に設けられ、前記搬送経路に従って搬送されてきた基板に対して低圧の洗浄液を吐出して洗浄を行う第3の吐出部をさらに備えるのがよい。
【0010】
また、好ましくは、前記吐出部のすべてを収容する処理槽をさらに備えるのがよい。
【0011】
さらに、好ましくは、前記処理槽内の前記搬送経路上における前記各吐出部間に設けられ、前記搬送経路を仕切るようにして液流を吐出する第1の液流形成部をさらに備えるのがよい。
【0012】
また、好ましくは、前記処理槽内の前記搬送経路上における前記第1の吐出部の前記搬送方向上流側、又は前記第3の吐出部が設けられる場合には前記第3の吐出部の前記搬送方向上流側に設けられ、前記搬送経路を仕切るようにして液流を吐出する第2の液流形成部をさらに備えるのがよい。
【0013】
さらに、好ましくは、前記処理槽内の前記搬送経路上における前記第2の吐出部の前記搬送方向下流側に設けられ、前記搬送経路を仕切るようにして液流を吐出する第3の液流形成部をさらに備えるのがよい。
【0014】
また、好ましくは、前記処理槽内における前記搬送経路上における前記第2の吐出部の前記搬送方向下流側、又は前記第3の液流形成部が設けられる場合には前記第3の液流形成部の前記搬送方向下流側に設けられ、装置外部から供給される未使用の洗浄液を基板に対して吐出して洗浄する第4の吐出部をさらに備えるのがよい。
【0015】
さらに、好ましくは、前記各吐出部によって洗浄される際に、基板が水平方向に対して傾斜した状態で搬送されつつ洗浄されるのがよい。
【0016】
また、好ましくは、前記第1の吐出部及び前記第2の吐出部により使用される洗浄液は、使用された洗浄液が回収されて再使用されるものであり、洗浄液は、回収後、共通のポンプにより昇圧されて前記第1の吐出部及び前記第2の吐出部に供給されるのがよい。
【0017】
さらに、好ましくは、前記第1の吐出部の前記搬送方向上流側、又は前記第3の吐出部が設けられる場合は前記第3の吐出部の前記搬送方向上流側若しくは第3の吐出部と実質的に同一位置に設けられ、基板に対して近接した近接位置と、基板から離反した待避位置との間で移動可能とされ、前記近接位置に位置する状態で基板を洗浄する洗浄ブラシをさらに備えるのがよい。
【0018】
また、好ましくは、前記第1の吐出部及び前記第2の吐出部のうちの少なくとも一方が、基板における前記搬送方向に垂直な幅方向の端部を洗浄する基板端部洗浄用のノズル部を含むのがよい。
【0019】
さらに、好ましくは、前記第1の吐出部及び前記第2の吐出部のうちの少なくとも一方が、前記洗浄液又は前記混合流体からなる吐出流を基板に向けてそれぞれ吐出し、その吐出流の軸直角断面形状が一方向に細長い略長楕円形となっている複数のノズル部を含み、前記複数のノズル部は、前記吐出流が基板表面における前記一方向が、前記搬送方向に対して角度α(ただし、0°<α<180°)で交差するように設けられた第1のノズル部と、前記吐出流が基板の前記端部に当たる位置に、前記一方向が前記搬送方向に対して略平行となるように設けられられた第2のノズル部と、を備え、前記第2のノズル部を前記基板端部洗浄用のノズル部とするのがよい。
【0020】
また、好ましくは、基板における前記搬送方向に垂直な幅方向の端部を洗浄する基板端部洗浄用のノズル部をさらに備えているのがよい。
【0021】
さらに、好ましくは、前記基板端部洗浄用のノズル部は、その吐出流の軸直角断面形状が一方向に細長い略長楕円形となっており、当該吐出流が基板の前記端部に当たる位置に、前記一方向が前記搬送方向に対して略平行となるように設けられているのがよい。
【0022】
また、好ましくは、前記洗浄液は水であるのがよい。
【0023】
さらに、前記目的を達成するための技術的手段は、搬送されてくる基板に対して所定の吐出流を吐出して洗浄を行う基板洗浄ユニットであって、基板の搬送方向に垂直な幅方向の端部に向けて前記吐出流を吐出し、その吐出流の軸直角断面形状が前記搬送方向に沿って細長い略長楕円形となっている基板端部洗浄用のノズル部を備えていることを特徴とする。
【0024】
また、前記目的を達成するための技術的手段は、搬送されてくる基板に対して所定の吐出流を吐出して洗浄を行う基板洗浄ユニットであって、前記洗浄液又は前記混合流体からなる吐出流を基板に向けてそれぞれ吐出し、その吐出流の軸直角断面形状が一方向に細長い略長楕円形となっている複数のノズル部と、前記複数のノズル部は、その各ノズル部の前記各吐出流の基板上における吐出領域が、前記搬送方向上流側又は下流側から見たときに基板における前記搬送方向に垂直な幅方向に対して互いに部分的に重なり合うように配置されており、前記複数のノズル部のうちの基板の前記幅方向の端部に向けて前記吐出流を吐出するノズル部における前記吐出流の軸直角断面形状の前記略長楕円の長手方向が、前記搬送方向と略平行に設定されていることを特徴とする。
【0025】
さらに、前記目的を達成するための技術的手段は、搬送されてくる基板に対して所定の吐出流を吐出して洗浄を行う基板洗浄ユニットであって、前記洗浄液又は前記混合流体からなる吐出流を基板に向けてそれぞれ吐出し、その吐出流の基板上における吐出領域が、前記搬送方向上流側又は下流側から見たときに基板における前記搬送方向に垂直な幅方向に対して互いに部分的に重なり合うように配置された複数の第1のノズル部と、基板における前記搬送方向に垂直な幅方向の端部に向けて、前記洗浄液又は前記混合流体からなる吐出流を吐出する少なくとも1個の第2のノズル部と、を備え、前記各第1のノズル部の前記吐出流の軸直角断面形状が、前記搬送方向に対して斜めに傾斜した方向に沿って細長い略長楕円形となっており、前記第2のノズル部の前記吐出流の軸直角断面形状が、前記搬送方向に沿って細長い略長楕円形となっていることを特徴とする。
【0026】
また、好ましくは、前記吐出流は、高圧で吐出される洗浄水であるのがよい。
【0027】
さらに、好ましくは、前記吐出流は、洗浄水と気体とがミスト状に混合されて吐出される混合流体であるのがよい。
【0028】
【発明の実施の形態】
<第1実施形態>
図1は、本発明の第1実施形態に係る基板処理装置の構成を模式的に示す図である。この基板処理装置1は、図1に示すように、例えば半導体基板やフラットパネル製造用の矩形ガラス基板、あるいはプリント配線基板などの基板W(図2参照)を、図示しない駆動源により駆動される搬送ローラ3によって搬送しつつ、処理槽5内で洗浄処理を施して、基板Wを洗浄する基板洗浄装置である。なお、実際の構成では、基板Wの安定搬送のために基板Wを上方から抑える上乗せローラ69(図2参照)、及び基板Wを上下から挟み込んで支持する支持ローラ71(図2参照)が備えられているが、図1ではこれらが便宜上省略されている。また、本明細書及び図面では、説明の便宜のためにx,y,zの直交座標系を導入し、2個の水平軸方向のうちの基板Wの搬送方向Aと略平行な方向をx方向とし、残りの水平軸方向である搬送方向Aと垂直な方向をy方向とし、鉛直方向をz方向としている。
【0029】
基板処理装置1の処理槽5内には、基板Wの搬送方向A上流側から順に、洗浄部7,9,11,13,15が備えられている。また、処理槽5内における洗浄部7の搬送方向上流側、洗浄部7と洗浄部9との間、洗浄部9と洗浄部11との間、洗浄部11と洗浄部13との間、及び洗浄部13と洗浄部15との間には、基板Wの搬送経路を仕切るようにして略カーテン状に純水を吐出する水流形成部17,19,21,23,25がぞれぞれ備えられている。これらの構成要素のうち、本発明に係る第1の吐出部には洗浄部11,13の後述する吐出部47,49,55が相当し、第2の吐出部には洗浄部13の後述する吐出部53が相当し、第3の吐出部には洗浄部7,9の後述する吐出部33,35,37,41,43が相当し、第4の吐出部には洗浄部15の後述する吐出部59,61が相当している。また、第1の液流形成部には水流形成部19,21,23が相当し、第2の液流形成部には水流形成部17が相当し、第3の液流形成部には水流形成部25が相当している。さらに、本発明に係る基板洗浄ユニットには、洗浄部11若しくは洗浄部13、又はその両方が相当している。
【0030】
水流形成部17,25は具体的には液カーテンであり、基板Wの搬送経路を仕切るように、図1の矢印B1,B2で示す如く上方から基板Wに向けて略カーテン状の純水の水流を吐出する。本実施形態では、基板Wの上面側にのみ水流形成部17,25を設けたが、基板Wの下面側にも水流形成部17,25を設けてもよい。
【0031】
水流形成部19,21,23は、具体的にはパイプノズル又は液カーテンであり、基板Wの搬送経路を仕切るように、図1中の矢印B3,B4,B5で示す如く上方から基板Wに向けて略カーテン状の純水の水流を吐出する。本実施形態では、基板Wの上面側にのみ水流形成部19,21,23を設けたが、基板Wの下面側にも水流形成部19,21,23を設けてもよい。
【0032】
洗浄部7は、洗浄ブラシ31と、洗浄液として低圧の純水を吐出する吐出部33,35,37と、洗浄ブラシ31及び吐出部33,35,37を収容する容器39とを備えている。洗浄ブラシ31は、基板Wの下面側に備えられ、図示しない駆動機構により回転駆動されて基板Wの下面側をブラシ洗浄する。吐出部33は、基板Wの上面側に備えられ、低圧の純水を図1の矢印B6で示す如く上方から基板Wに向けて吐出して洗浄する。吐出部35,37は、基板Wの下面側に備えられ、低圧の純水を図1の矢印B7,B8で示す如く下方から基板Wに向けて吐出して洗浄する。また、吐出部35,37から吐出される純水は、洗浄ブラシ31及び洗浄ブラシ31により洗浄される基板Wの洗浄面を濡らせる役割も担っている。容器39の対向する両側壁部には、基板Wの搬入及び排出のための開口部が設けられている。
【0033】
ここで、本実施形態において、上記の吐出部33,35,37及び後述の吐出部41,43,47,49における純水の吐出圧力について、「低圧」という場合には、3kg/cm2(0.294MPa)よりも小さな圧力をいい、「高圧」という場合には、3kg/cm2(0.294MPa)以上の圧力、さらに具体的には3kg/cm2(0.294MPa)から15kg/cm2(1.47MPa)の範囲の圧力をいう。
【0034】
洗浄部9は、洗浄液として低圧の純水を吐出する吐出部41,43と、吐出部41,43を収容する容器45とを備えている。吐出部41は、基板Wの上面側に備えられ、定圧の純水を図1の矢印B9で示す如く上方から基板Wに向けて吐出して洗浄を行う。吐出部43は、基板Wの下面側に備えられ、低圧の純水を図1の矢印B10で示す如く下方から基板Wに向けて吐出して洗浄を行う。容器45の対向する両側壁部には、基板Wの搬入及び排出のための開口部が設けられている。
【0035】
洗浄部11は、洗浄液として高圧の洗浄水を吐出する吐出部47,49と、吐出部47,49を収容する容器51とを備えている。吐出部47は、基板Wの上面側に備えられ、高圧の純水を図1の矢印B11で示す如く上方から基板Wに向けて吐出して洗浄を行う。吐出部49は、基板Wの下面側に備えられ、高圧の純水を図1の矢印B12で示す如く下方から基板Wに向けて吐出して洗浄を行う。容器51の対向する両側壁部には、基板Wの搬入及び排出のための開口部が設けられている。
【0036】
洗浄部13は、吐出部53,55と、吐出部53,55を収容する容器57とを備えている。吐出部53は、後述する供給ライン67から供給される洗浄液である純水と、供給ライン58から供給されるエア(気体)とを所定の体積比、例えば1:100程度の比で混合してミスト状の混合流体として吐出する。そして、吐出部53は、基板Wの上面側に備えられ、ミスト状の混合流体を図1の矢印B13で示す如く上方から基板Wに向けて吐出して洗浄を行う。吐出部55は、基板Wの下面側に備えられ、洗浄液として高圧の純水を図1の矢印B14で示す如く下方から基板Wに向けて吐出して洗浄を行う。容器57の対向する両側壁部には、基板Wの搬入及び排出のための開口部が設けられている。
【0037】
洗浄部15は、洗浄液である純水を吐出する吐出部59,61を備えている。吐出部59は、基板Wの上面側に備えられ、純水を図1の矢印B15で示す如く上方から基板Wに向けて吐出して洗浄を行う。吐出部61は、基板Wの下面側に備えられ、純水を図1の矢印B16で示す如く下方から基板Wに向けて吐出して洗浄を行う。
【0038】
洗浄部15には、基板処理装置1外部の工場施設である純水供給ライン63から供給される未使用の純水が供給され、その純水が吐出部59,61を介して直接基板Wに吐出されるようになっている。
【0039】
それ以外の洗浄部7,9,11,13及び水流形成部17,19,21,23,25については、洗浄部7,9,11,13,15及び水流形成部17,19,21,23,25によって処理槽5内に放出された純水を回収して濾過等の清浄化処理を施したものが再使用(循環使用)されるようになっている。回収されて清浄化された純水は、図示しないタンクに一旦貯められ、そのタンクから各洗浄部7,9,11,13及び水流形成部17,19,21,23,25に昇圧されて供給される。
【0040】
本実施形態では、図1に示すように昇圧のためのポンプ65が洗浄部11,13の高圧の純水を吐出する吐出部47,49,55と、洗浄部13のミスト状の混合流体を吐出する吐出部53とについて共用されている。すなわち、図示しないタンクから供給される純水は、ポンプ65によって昇圧され、供給ライン67を介して各吐出部47,49,53,55に供給される。
【0041】
図2は、基板Wの傾斜搬送について説明するための図であり、基板処理装置1の洗浄部11が設けられる部分の断面構成を模式的に示している。本実施形態に係る基板処理装置1では、基板Wをy軸方向から所定の角度θだけ傾斜させた状態で搬送しつつ各洗浄部7,9,11,13,15及び水流形成部17,19,21,23,25での洗浄処理を行うようになっている。より具体的には、基板Wの搬送方向A下流側が前方側となるようにして基板処理装置1を見たときに、基板Wが水平方向に対して左側に角度θだけ傾いた状態で搬送されるようになっている。図2に示すように、各洗浄部11等の容器51の側壁部に設けられる基板Wの搬入、排出のための開口部51aをはじめとする各開口部も、基板Wの傾斜に合わせて形成されている。また、図2に示される吐出部47,49をはじめとする各洗浄部の各吐出部についても傾斜搬送される基板Wと略平行になるように傾斜配置されている。
【0042】
さらに、搬送ローラ3には基板Wと直接接触する2個のローラ部3a,3bが備わっているが、傾斜下方側(図2の左側)に備わるローラ部3bには、基板Wが滑り落ちるのを防止するための鍔部3cが設けられている。上乗せローラ69及び支持ローラ71についても同様に、基板Wと直接接触するローラ部69a,69b、及びローラ部71a,71bがそれぞれ備わっている。
【0043】
図3及び図4は、洗浄部11及び洗浄部13の吐出部47,53から吐出される吐出流の一般的(基本的)な形態を説明するための図である。なお、下面側の吐出部49,55については上面側の吐出部47,53と概ね同様な吐出形態であるため、ここでは上面側の吐出部47,53について説明する。
【0044】
吐出部47,53は、図3に示すように、基板Wにおける搬送方向Aと垂直な幅方向と概ね略平行に延びるパイプ部73と、そのパイプ部73に間隔をあけて設けられ、上述の高圧の純水又はミスト状の混合流体からなる吐出流77を基板Wに向けて吐出する複数のノズル部75とを備えている。ノズル部75は、各ノズル部75の吐出流77の基板W上における吐出領域が、搬送方向A上流側又は下流側から見たときに基板Wの幅方向に対して互いに部分的に重なり合うように配置する必要がある。各ノズル部75が吐出する吐出流77の軸直角断面形状は、図4に示すように一方向に細長い略長楕円形となっている。吐出流77の軸直角断面形状の指向性(その略長楕円形の長手方向をいずれの方向に向かせるか)は、例えばノズル75のパイプ部73に対するその軸回りの設定角度位置を調節することにより変更することができる。
【0045】
各ノズル部75の吐出流77の指向性についての一般的な設定形態では、各ノズル部75の吐出流77の指向性は、図3及び図4に示すように、その軸直角断面形状である略長楕円形の長手方向Nが基板Wの搬送方向Aに対して所定角度αを有するように斜めに傾斜し、各ノズル部75の吐出流77間でその傾斜角度αが等しくなるように設定されてる。なお、ノズル部75の吐出領域の長手方向Nと基板Wの搬送方向Aとのなす角αは、0°<α<180°の値であればよいが、α≠90°とすれば、ノズル部75の吐出領域の長手方向Nの大きさが隣接するノズル部75間の距離よりも大きい場合であっても、隣接するノズル部75の吐出領域同士が干渉するのを防止できる。
【0046】
これに対し、本実施形態では、洗浄部11及び洗浄部13のうちの少なくともいずれか一方について、その吐出部47,53における一部のノズル部75の吐出流77の指向性が図5及び図6に示すように変更されている。すなわち、吐出部47,53に設けられる複数のノズル部75のうちの基板Wの幅方向の両端部に向けて吐出流77を吐出するノズル部75(ここでは左右両側のノズル部75a,75b)について吐出流77の指向性が変更されており、このノズル部75a,75bが基板端部洗浄用のノズル部として機能する。より詳細には、ノズル75a,75bから吐出される吐出流77の軸直角断面形状である略長楕円形の長手方向Nが、搬送方向Aと略平行になるように設定されている。これによって、ノズル部75a,75bの吐出流77が基板Wの幅方向の両端部(両端面を含む)に向けて集中的に吐出されるようになっている。
【0047】
なお、このノズル75a,75bの吐出流77の指向性についての設定変更に伴って、ノズル部75の配置位置、配置間隔、設置数等が必要に応じて変更される。ノズル部75a,75b以外のノズル部75の吐出流77の指向性(N)については実質的に変更はない。本実施形態に係る設定状態においても、各ノズル部75から吐出される各吐出流77の吐出領域は、搬送方向Aの上流側又は下流側から見たときに基板Wの幅方向に関して互いに部分的に重なり合うように設定されている。
【0048】
このような吐出流77の指向性についての設定変更は、洗浄部11についてのみ行ってもよく、洗浄部13についてのみ行ってもよく、洗浄部11及び洗浄部13の両方について行ってもよい。また、図5及び図6に示した例では、上面側の吐出部47,53のみについて吐出流77の指向性の設定変更を行ったが、下面側の吐出部49,55のみについて同様な設定変更を行ってもよく、上下両側の吐出部47,49,53,55について同様な設定変更を行ってもよい。
【0049】
また、変形例として、図7に示すように、図3及び図4に示す複数のノズル部(第1のノズル部)75に追加して、基板Wの幅方向の両端部を専ら洗浄する少なくとも2個(ここでは2個)のノズル部(第2のノズル部、基板端部洗浄用のノズル部)79a,79aが設けられている。このノズル部79a,79bは、他のノズル部75と同様な高圧の純水又はミスト状の混合流体からなる吐出流77を基板Wの幅方向の対応する端部に向けて吐出する。また、ノズル部79a,79bから吐出される吐出流77の軸直角断面形状は他のノズル部75と同様な形状であり、その軸直角断面形状である略長楕円形の長手方向Nが搬送方向Aと略平行になるように設定されている。このため、ノズル部79a,79bの吐出流77は、基板Wの対応する端部(両端面を含む)に集中的に吐出される。なお、このように基板Wの端部を洗浄するノズル部75a,75b,79a,79bについては、必ずしも軸直角断面が略長楕円形の吐出流を形成するものでなくてもよい。また、必ずしも基板Wの両端部に対応して設けなくてもよい。例えば、基板Wの傾斜方向上側の端部に汚れが基板W表面側に流れてくるのを防止するためには、基板Wの傾斜方向の上側端部に対応してノズル部75a,75bを設ければよく、また搬送ローラ3の鍔部3cとの接触により基板Wの傾斜方向の下側端部が汚れがちである場合には、基板Wの傾斜方向の下側端部に対応してノズル部75a,75bを設ければよい。
【0050】
次に、この基板処理装置1による洗浄処理について説明する。所定の搬送経路に従って基板処理装置1内に導入された基板Wは、上述のように搬送方向Aに沿って傾斜搬送されつつ洗浄が行われる。まず、水流形成部17の略カーテン状の純水の水流により基板Wが洗浄された後、洗浄部7に送られる。洗浄部7では、基板Wの上面側が吐出部33から吐出される低圧の純水により洗浄されるとともに、基板Wの下面側が、吐出部35,37によって低圧の純水が基板Wに向けて吐出されつつ、洗浄ブラシ31によりブラシ洗浄される。
【0051】
続いて、水流形成部19の略カーテン状の純水の水流により基板Wが洗浄された後、洗浄部9に送られる。洗浄部9では、吐出部41,43により上下から基板Wに低圧の純水が吐出され、基板Wの洗浄が行われる。
【0052】
続いて、水流形成部21の略カーテン状の純水の水流により基板Wが洗浄された後、洗浄部11に送られる。洗浄部11では、吐出部47,49により上下から基板Wに高圧の純水が吐出され、基板Wの洗浄が行われる。
【0053】
続いて、水流形成部23の略カーテン状の純水の水流により基板Wが洗浄された後、洗浄部13に送られる。洗浄部13では、吐出部53により上方から基板Wに純水とエアとが混合されたミスト状の混合流体が吐出され、基板Wの上面側の洗浄が行われるとともに、吐出部55により下方から基板Wに高圧の純水が吐出され、基板Wの下面側の洗浄が行われる。
【0054】
続いて、水流形成部25の略カーテン状の純水の水流により基板Wが洗浄された後、洗浄部15に送られる。洗浄部15では、吐出部59,61により、処理装置1外部から未使用の清浄度の高い純水が上下から基板Wに吐出され、基板Wの洗浄が行われる。洗浄部15を通過した基板Wは基板処理装置1外に排出される。
【0055】
以上のように、本実施形態によれば、洗浄部11の吐出部47による高圧で吐出される純水の強い打力により汚染物を基板W上面側から効果的に剥離させた後、洗浄部13の吐出部53によるミスト状の混合流体のソフトであり、かつエアの力を利用した大きな流速を生かして基板W上面側上で浮遊する汚染物を瞬時に基板W外に除去することができる。その結果、基板Wから剥離させた汚染物が基板Wに再付着するのを効果的に防止でき、洗浄効果の向上が図れる。
【0056】
また、洗浄部11及び洗浄部13による洗浄が行われる前に、洗浄部7の吐出部33,35,37及び洗浄部9の吐出部41,43による低圧の純水によって付着力の弱い汚染物や、粒子サイズの大きい粒子状の汚染物を予め除去することができ、洗浄部11及び洗浄部13での汚染物除去の負担を軽減することができるとともに、洗浄部11及び洗浄部13で剥離させた汚染物が基板Wに再付着する確率を低減することができ、その結果処理装置1全体として洗浄効果の向上が図れる。この効果は汚染の程度が大きな基板Wの洗浄において特に有効である。
【0057】
さらに、各洗浄部7,9,11,13,15及び水流形成部17,19,21,23,25が処理槽5に収容されているため、各洗浄部7,9,11,13,15及び水流形成部17,19,21,23,25で使用される純水(ミストも含む)や除去した汚染物等が基板処理装置1外に漏れるのを防止することができるとともに、外界から遮断された状態で各洗浄部7,9,11,13,15及び水流形成部17,19,21,23,25での洗浄処理及び各洗浄部7,9,11,13,15間の基板搬送を行うことができる。
【0058】
また、洗浄部7,9,11,13では容器39,45,51,57が設けられた二重ボックス構造となっているため、各洗浄部7,9,11,13で使用された純水(ミストも含む)や除去された汚染物が洗浄部7,9,11,13外に漏れて他の洗浄部7,9,11,13等に悪影響を与えるのを防止することができるとともに、洗浄部7,9,11,13での洗浄中に処理槽5の天井部等から落下する水滴等が基板W上に落下して基板Wが汚染されるのを防止することができる。
【0059】
さらに、各洗浄部7,9,11,13間に設けられた水流形成部19,21,23の略カーテン状の水流によって、前段の洗浄部7,9,11により基板Wから剥離されて基板W上で浮遊している汚染物を水流形成部19,21,23によって基板W外に除去することができ、前段の洗浄部7,9,11で剥離された汚染物が後段の洗浄部9,11,13に運ばれるのを効果的に抑制することができる。
【0060】
また、搬送方向A最上流端の洗浄部である洗浄部7の搬送方向A上流側に設けられた水流形成部17の略カーテン状の水流によって、各洗浄部7,9,11,13,15での洗浄が行われる前段階で基板Wに付着した汚染物を予め除去、低減することができ、後段の各洗浄部7,9,11,13,15での汚染物除去の負担を軽減することができるとともに、各洗浄部7,9,11,13,15で剥離させた汚染物が基板Wに再付着する確率を低減することができ、その結果処理装1置全体として洗浄効果の向上が図れる。
【0061】
さらに、洗浄部15を除く搬送方向A最下流端の洗浄部である洗浄部13の搬送方向A下流側に設けられた水流形成部25の略カーテン状の水流によって、前段の各洗浄部7,9,11,13で基板Wから剥離されて基板W上で浮遊している汚染物が基板Wに再付着するのを防止できるとともに、一度基板Wから除去された汚染物が洗浄液である純水のミストや水滴等に混じって基板Wに再付着するのを防止できる。
【0062】
また、搬送方向A最下流側の洗浄部として洗浄部15が設けられているため、基板洗浄の仕上げ工程として、洗浄部15の清浄度の高い未使用の純水で基板Wの洗浄を行うことにより、前段の各洗浄部7,9,11,13等で基板Wから剥離されて基板W上で浮遊している汚染物が基板Wに再付着するのを防止できるとともに、一度基板Wから除去された汚染物が洗浄液である純水のミストや水滴等に混じって基板Wに再付着するのを防止できる。この効果は、前段の各洗浄部7,9,11,13等で使用される純水が一度使用されたあと回収されて再使用されるものである場合に特に有効である。
【0063】
さらに、基板Wが水平方向に対して傾斜した状態で搬送されつつ各洗浄部7,9,11,13,15及び各水流形成部17,19,21,23,25での洗浄が行われるため、洗浄に用いられた純水が基板W表面に長時間滞留することがないので、汚染物等の基板Wへの再付着が抑制できる。
【0064】
また、洗浄部11及び洗浄部13について純水を供給するためのポンプ65が共用されるため、コスト削減及び設置スペースの削減を図れる。
【0065】
さらに、洗浄部11及び洗浄部13のうちの少なくとも一方について、その吐出部47,53(あるいは上下の吐出部47,49,53,55)における基板Wの幅方向の両端を洗浄するノズル部75a,75bの吐出流77の指向性が、図5及び図6に示すように吐出流77の軸直角断面形状である略長楕円形の長手方向が搬送方向Aに略平行になるように設定されている。このため、ノズル部75a,75bの吐出流77が基板Wの幅方向の両端部に向けて集中的に吐出されるようになっている。これによって、基板W端部に付着した汚染物を的確に除去することができ、その結果、剥離させた基板W端部の汚染物が基板W表面に再付着してしまったり、搬送ローラ3等が汚染されてしまい、その汚染された搬送ローラ3等によって他の基板Wが汚染されてしまう2次汚染が生じるのを防止することができる。
【0066】
また、各洗浄部7,9,11,13,15及び各水流形成部17,19,21,23,25で使用される洗浄液として純水が使用されるため、洗浄後に純水で再度洗浄する必要がなく、装置1の小型、低コスト化等が図れる。
【0067】
さらに、洗浄部7に設けられる汚染物の剥離力の高い洗浄ブラシ31を用いて基板Wの下面側を洗浄することにより、付着力の強い汚染物等も効果的に基板Wから剥離させて除去することができ、洗浄効果の向上が図れる。
【0068】
また、洗浄部7の洗浄ブラシ31が洗浄部9,11,13の搬送方向A上流側に設けられるため、洗浄ブラシ31で基板Wから剥離させた汚染物が仮に基板Wに再付着しても、その再付着した汚染物を後段の各洗浄部9,11,13で効果的に基板W外に除去することができる。
【0069】
<第2実施形態>
図8は、本発明の第2実施形態に係る基板処理装置1の構成を模式的に示す図である。本実施形態に係る基板処理装置1が上述の第1実施形態に係る基板処理装置1と実質的に異なる点は、洗浄部7に基板Wの上面側の洗浄ブラシ81を追加した点のみであり、互いに対応する部分が同一の参照符号を付して説明を省略する。
【0070】
本実施形態に係る基板処理装置1では、洗浄部7に基板Wの上面側の洗浄ブラシ81が追加的に設けられている。洗浄ブラシ81は、容器7内における基板Wの上面側に設けられ、図示しない移動機構により基板W上面に対して近接した近接位置と、基板W上面から離反した待避位置との間で移動される。また、洗浄ブラシ81は、近接位置に位置されている状態において、図示しない駆動機構により回転駆動されて基板Wの上面側をブラシ洗浄する。吐出部33から吐出される純水は、洗浄ブラシ81及び洗浄ブラシ81により洗浄される基板Wの洗浄面を濡らせる役割も担っている。
【0071】
このような構成により、パターン形成面である上面側へのダメージを回避すべき基板Wの場合には、洗浄ブラシ81を待避位置に待避させた状態で洗浄を行うことにより、基板Wの上面側へのダメージを与えることなく、洗浄処理を行うことができる。
【0072】
また、ダメージを考慮しなくてもよい基板W(素ガラスの基板や、成膜された膜の膜質が硬い基板等)に対しては、洗浄ブラシ81を近接位置に位置させ、汚染物の剥離力の高い洗浄ブラシ81を用いて洗浄を行うことにより、付着力の強い汚染物等も効果的に基板W上面から剥離させて除去することができ、洗浄効果の向上が図れる。
【0073】
また、洗浄部7の洗浄ブラシ81が洗浄部9,11,13の搬送方向A上流側に設けられるため、洗浄ブラシ81で基板Wから剥離させた汚染物が仮に基板Wに再付着しても、その再付着した汚染物を後段の各洗浄部9,11,13で効果的に基板W外に除去することができる。
【0074】
<変形例>
(1)上記各実施形態において、洗浄部7,9,15についてはそれぞれ省略可能である。各水流形成部17,19,21,23,25についてもそれぞれ省略可能である。
【0075】
特に、洗浄部7,9,11,13間の水流形成部19,21,23については、上記各実施形態のように基板Wを傾斜搬送しつつ洗浄処理を行う場合には、傾斜搬送により汚染物の基板Wの再付着を効果的に抑制できるため、省略可能である。ただし、基板Wを傾斜搬送しなで水平搬送する場合には、水流形成部19,21,23を設けた方が望ましい。
【0076】
また、洗浄部9の上面側の吐出部41については、第2実施形態のように洗浄部7の上面洗浄用の洗浄ブラシ81を設けた場合には省略可能である。
【0077】
(2)上記各実施形態では、洗浄部11,13の吐出部47,49,55と洗浄部13の吐出部53とについて、純水を供給するためのポンプ65を共用する構成としたが、洗浄部11,13の吐出部47,49,55と洗浄部13の吐出部53とについて個別にポンプを設ける構成としてもよい。
【0078】
(3)上記各実施形態に係る基板処理装置1を薬液又は機能水(オゾン水、アルカリ性水、水素水など)を用いて処理を行う基板処理装置に適用してもよい。
【0079】
(4)上記各実施形態において、下面側の清浄度があまり要求されない基板Wについて洗浄を行う場合には、洗浄部7の下面洗浄用の洗浄ブラシ31を省略してもよい。
【0080】
(5)上記各実施形態の洗浄部9,11,13において、上下に吐出部41,43,47,49,53,55を設けているが、下面側の清浄度があまり要求されない基板Wについて洗浄を行う場合には、下面側の吐出部43,49,55を省略してもよい。逆に、基板Wの清浄度をより高めたい場合には、上面側、又は上下両方について、吐出部41,43,47,49,53,55を複数個(例えば2個)ずつ並列に設けてもよい。
【0081】
また、洗浄部13について、基板Wの下面側の清浄度を高めたい場合には、基板Wの下面側にも、純水とエアとのミスト状の混合流体を吐出する吐出部47を追加的に設けてもよい。さらに、下面側の洗浄度をより高めたい場合には、基板Wの下面側に吐出部47を2個以上併設してもよい。
【0082】
【発明の効果】
請求項1に記載の発明によれば、第1の吐出部の高圧で吐出される洗浄液の強い打力により汚染物を基板から効果的に剥離させた後、第2の吐出部におけるミスト状の混合流体のソフトであり、かつ気体の力を利用した大きな流速を生かして基板上で浮遊する汚染物を瞬時に基板外に除去することができる。その結果、基板から剥離させた汚染物が基板に再付着するのを効果的に防止でき、洗浄効果の向上が図れる。
【0083】
請求項2に記載の発明によれば、第1及び第2の吐出部による洗浄が行われる前に、第3の吐出部による低圧の洗浄液によって付着力の弱い汚染物や、粒子サイズの大きい粒子状の汚染物を予め除去することができ、第1及び第2の吐出部での汚染物除去の負担を軽減することができるとともに、第1及び第2の吐出部で剥離させた汚染物が基板に再付着する確率を低減することができ、その結果処理装置全体として洗浄効果の向上が図れる。この効果は汚染の程度が大きな基板の洗浄において特に有効である。
【0084】
請求項3に記載の発明によれば、第1及び第の吐出部、又は第1ないし第3の吐出部が処理槽に収容されているため、各吐出部で使用される洗浄液や除去した汚染物等が基板処理装置外に漏れるのを防止することができるとともに、外界から遮断された状態で各吐出部での洗浄処理及び各吐出部間の基板搬送を行うことができる。
【0085】
請求項4に記載の発明によれば、各吐出部間に設けられた第1の液流形成部の液流によって、前段の吐出部により基板から剥離されて基板上で浮遊している汚染物を第1の液流形成部によって基板外に除去することができ、前段の吐出部で剥離された汚染物が後段の吐出部に運ばれるのを効果的に抑制することができる。
【0086】
請求項5に記載の発明によれば、第1の吐出部の搬送方向上流側、又は第3の吐出部が設けられる場合は第3の吐出部の搬送方向上流側に設けられた第2の液流形成部の液流によって、各吐出部での洗浄が行われる前段階で基板に付着した汚染物を予め除去、低減することができ、後段の各吐出部での汚染物除去の負担を軽減することができるとともに、各吐出部で剥離させた汚染物が基板に再付着する確率を低減することができ、その結果処理装置全体として洗浄効果の向上が図れる。
【0087】
請求項6に記載の発明によれば、第2の吐出部の搬送方向下流側に設けられた第3の液流形成部の液流によって、前段の各吐出部で基板から剥離されて基板上で浮遊している汚染物が基板に再付着するのを防止できるとともに、一度基板から除去された汚染物が洗浄液のミストや液滴等に混じって基板に再付着するのを防止できる。
【0088】
請求項7に記載の発明によれば、第2の吐出部の搬送方向下流側、又は第3の液流形成部が設けられる場合にはその搬送方向下流側に、装置外部から供給される未使用の洗浄液を直接使用して基板を洗浄する第4の吐出部が設けられるため、基板洗浄の仕上げ工程として、第4の吐出部の清浄度の高い未使用の洗浄液で基板の洗浄を行うことにより、前段の各吐出部等で基板から剥離されて基板上で浮遊している汚染物が基板に再付着するのを防止できるとともに、一度基板から除去された汚染物が洗浄液のミストや液滴等に混じって基板に再付着するのを防止できる。この効果は、前段の各吐出部等で使用される洗浄液が一度使用されたあと回収されて再使用されるものである場合に特に有効である。
【0089】
請求項8に記載の発明によれば、基板が水平方向に対して傾斜した状態で搬送されつつ各吐出部での洗浄が行われるため、洗浄に用いられた液体が基板表面に長時間滞留することがないので、汚染物等の基板への再付着が抑制できる。
【0090】
請求項9に記載の発明によれば、第1の吐出部及び第2の吐出部について洗浄水を供給するためのポンプが共用されるため、コスト削減及び設置スペースの削減を図れる。
【0091】
請求項10に記載の発明によれば、待避機能付きの洗浄ブラシが設けられるため、ダメージを回避すべき基板の場合には、洗浄ブラシを待避させた状態で洗浄を行う一方、ダメージを考慮しなくてもよい基板(素ガラスの基板や、成膜された膜の膜質が硬い基板等)に対しては、汚染物の剥離力の高い洗浄ブラシを用いて洗浄を行うことにより、付着力の強い汚染物等も効果的に基板から剥離させて除去することができ、洗浄効果の向上が図れる。
【0092】
また、洗浄ブラシが第1の吐出部の搬送方向上流側、又は第3の吐出部が設けられる場合は第3の吐出部の搬送方向上流側若しくは第3の吐出部と実質的に同一位置に設けられるため、洗浄ブラシで基板から剥離させた汚染物が仮に基板に再付着しても、その再付着した汚染物を後段の各吐出部で効果的に基板外に除去することができる。
【0093】
請求項11に記載の発明によれば、第1の吐出部及び第2の吐出部のうちの少なくとも一方が、基板における搬送方向に垂直な幅方向の端部を洗浄する基板端部洗浄用のノズル部を含んでいるため、基板端部を的確に洗浄できる。
【0094】
請求項12に記載の発明によれば、第1の吐出部及び第2の吐出部のうちの少なくとも一方に設けられる複数の第1のノズル部から吐出される吐出流によって基板全体を一様に洗浄して基板に付着した汚染物を効果的に洗浄できるとともに、基板端部洗浄用のノズル部の吐出流の軸直角断面形状が基板の搬送方向に沿って細長い略長楕円形となっているため、そのノズル部の吐出流を基板端部に向けて集中的に吐出させることができ、基板端部に付着した汚染物を的確に除去することができる。その結果、剥離させた基板端部の汚染物が基板表面に再付着してしまったり、基板の搬送ローラ等が汚染されてしまい、その汚染された搬送ローラ等によって他の基板が汚染されてしまう2次汚染が生じるのを防止することができる。
【0095】
請求項13に記載の発明によれば、基板における搬送方向に垂直な幅方向の端部を洗浄する基板端部洗浄用のノズル部が備えられているため、基板端部を的確に洗浄できる。
【0096】
請求項14に記載の発明によれば、基板端部洗浄用のノズル部の吐出流の軸直角断面形状が基板の搬送方向に沿って細長い略長楕円形となっているため、そのノズル部の吐出流を基板端部に向けて集中的に吐出させることができ、基板端部に付着した汚染物を的確に除去することができる。その結果、剥離させた基板端部の汚染物が基板表面に再付着してしまったり、基板の搬送ローラ等が汚染されてしまい、その汚染された搬送ローラ等によって他の基板が汚染されてしまう2次汚染が生じるのを防止することができる。
【0097】
請求項15に記載の発明によれば、洗浄液として水が使用されるため、洗浄後に水で再度洗浄する必要がなく、装置の小型、低コスト化等が図れる。
【0098】
請求項16に記載の発明によれば、基板における搬送方向に垂直な幅方向の端部に向けて洗浄用の吐出流を吐出する基板端部洗浄用のノズル部が設けられ、そのノズル部の吐出流の軸直角断面形状が基板の搬送方向に沿って細長い略長楕円形となっているため、そのノズル部の吐出流を基板端部に向けて集中的に吐出させることができ、基板端部に付着した汚染物を的確に除去することができる。その結果、剥離させた基板端部の汚染物が基板表面に再付着してしまったり、基板の搬送ローラ等が汚染されてしまい、その汚染された搬送ローラ等によって他の基板が汚染されてしまう2次汚染が生じるのを防止することができる。
【0099】
請求項17に記載の発明によれば、複数のノズル部から吐出される吐出流によって基板に付着した汚染物を効果的に洗浄できるとともに、その複数のノズル部のうちの基板の幅方向の端部に向けて吐出流を吐出するノズル部における吐出流の軸直角断面形状の略長楕円形の長手方向が、基板の搬送方向と略平行に設定されているため、そのノズル部の吐出流を基板端部に向けて集中的に吐出させることができ、基板端部に付着した汚染物を的確に除去することができる。その結果、剥離させた基板端部の汚染物が基板表面に再付着してしまったり、基板の搬送ローラ等が汚染されてしまい、その汚染された搬送ローラ等によって他の基板が汚染されてしまう2次汚染が生じるのを防止することができる。
【0100】
請求項18に記載の発明によれば、基板を全体的に一様に洗浄する複数の第1のノズル部と、基板端部を集中的に洗浄する少なくとも2個の第2のノズル部とが設けられている。このため、複数の第1のノズル部から吐出される吐出流によって基板全体が一様に洗浄できるとともに、少なくとも2個の第2のノズル部における吐出流の軸直角断面形状の略長楕円形が、基板の搬送方向に沿って細長い略長楕円形に設定されているため、その各ノズル部の吐出流を基板端部に向けて集中的に吐出させることができ、基板端部に付着した汚染物を的確に除去することができる。その結果、剥離させた基板端部の汚染物が基板表面に再付着してしまったり、基板の搬送ローラ等が汚染されてしまい、その汚染された搬送ローラ等によって他の基板が汚染されてしまう2次汚染が生じるのを防止することができる。
【0101】
請求項19に記載の発明によれば、高圧で吐出される洗浄液の強い打力により汚染物を基板から効果的に剥離させることができ、洗浄効果の向上が図れる。
【0102】
請求項20に記載の発明によれば、ミスト状の混合流体のソフトであり、かつ気体の力を利用した大きな流速を生かして基板に付着した汚染物や、基板上で浮遊する汚染物を瞬時に基板外に除去することができ、洗浄効果の向上が図れる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態に係る基板処理装置の構成を模式的に示す図である。
【図2】基板の傾斜搬送について説明するための図である。
【図3】洗浄部又は洗浄部の吐出部から吐出される吐出流の一般的(基本的)な形態を説明するための図である。
【図4】洗浄部又は洗浄部の吐出部から吐出される吐出流の一般的(基本的)な形態を説明するための図である。
【図5】洗浄部又は洗浄部の吐出部から吐出される吐出流の第1実施形態に係る設定形態を説明するための図である。
【図6】洗浄部又は洗浄部の吐出部から吐出される吐出流の第1実施形態に係る設定形態を説明するための図である。
【図7】洗浄部又は洗浄部の吐出部から吐出される吐出流の設定形態の変形例を説明するための図である。
【図8】本発明の第2実施形態に係る基板処理装置の構成を模式的に示す図である。
【符号の説明】
1 基板処理装置
3 搬送ローラ
5 処理槽
7,9,11,13,15 洗浄部
17,19,21,23,25 水流形成部
31 洗浄ブラシ
33,35,41,43,47,49,53,55,59,61 吐出部
39,45,51,57 容器
75,75a,75b,79a,79b ノズル部
81 洗浄ブラシ
A 搬送方向
P ポンプ
W 基板
Claims (20)
- 所定の搬送経路に従って搬送されてきた基板に対して高圧の洗浄液を吐出して洗浄を行う第1の吐出部と、
前記搬送経路上における前記第1の吐出部の搬送方向下流側に設けられ、前記搬送経路に従って搬送されてきた基板に対して、洗浄液と気体とを混合してミスト状の混合流体として吐出して洗浄を行う第2の吐出部と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置において、
前記搬送経路上における前記第1の吐出部の前記搬送方向上流側に設けられ、前記搬送経路に従って搬送されてきた基板に対して低圧の洗浄液を吐出して洗浄を行う第3の吐出部をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1又は2に記載の基板処理装置において、
前記吐出部のすべてを収容する処理槽をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項3に記載の基板処理装置において、
前記処理槽内の前記搬送経路上における前記各吐出部間に設けられ、前記搬送経路を仕切るようにして液流を吐出する第1の液流形成部をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項3又は4に記載の基板処理装置において、
前記処理槽内の前記搬送経路上における前記第1の吐出部の前記搬送方向上流側、又は前記第3の吐出部が設けられる場合には前記第3の吐出部の前記搬送方向上流側に設けられ、前記搬送経路を仕切るようにして液流を吐出する第2の液流形成部をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項3ないし5のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記処理槽内の前記搬送経路上における前記第2の吐出部の前記搬送方向下流側に設けられ、前記搬送経路を仕切るようにして液流を吐出する第3の液流形成部をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項3ないし6のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記処理槽内における前記搬送経路上における前記第2の吐出部の前記搬送方向下流側、又は前記第3の液流形成部が設けられる場合には前記第3の液流形成部の前記搬送方向下流側に設けられ、装置外部から供給される未使用の洗浄液を基板に対して吐出して洗浄する第4の吐出部をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし7のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記各吐出部によって洗浄される際に、基板が水平方向に対して傾斜した状態で搬送されつつ洗浄されることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項3ないし8のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記第1の吐出部及び前記第2の吐出部により使用される洗浄液は、使用された洗浄液が回収されて再使用されるものであり、
洗浄液は、回収後、共通のポンプにより昇圧されて前記第1の吐出部及び前記第2の吐出部に供給されることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし9のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記第1の吐出部の前記搬送方向上流側、又は前記第3の吐出部が設けられる場合は前記第3の吐出部の前記搬送方向上流側若しくは第3の吐出部と実質的に同一位置に設けられ、基板に対して近接した近接位置と、基板から離反した待避位置との間で移動可能とされ、前記近接位置に位置する状態で基板を洗浄する洗浄ブラシをさらに備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし10のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記第1の吐出部及び前記第2の吐出部のうちの少なくとも一方が、基板における前記搬送方向に垂直な幅方向の端部を洗浄する基板端部洗浄用のノズル部を含むことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項11に記載の基板処置装置において、
前記第1の吐出部及び前記第2の吐出部のうちの少なくとも一方が、
前記洗浄液又は前記混合流体からなる吐出流を基板に向けてそれぞれ吐出し、その吐出流の軸直角断面形状が一方向に細長い略長楕円形となっている複数のノズル部を含み、
前記複数のノズル部は、
前記吐出流が基板表面における前記一方向が、前記搬送方向に対して角度α(ただし、0°<α<180°)で交差するように設けられた第1のノズル部と、前記吐出流が基板の前記端部に当たる位置に、前記一方向が前記搬送方向に対して略平行となるように設けられられた第2のノズル部と、
を備え、
前記第2のノズル部を前記基板端部洗浄用のノズル部としたことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし10のいずれかに記載の基板処理装置において、
基板における前記搬送方向に垂直な幅方向の端部を洗浄する基板端部洗浄用のノズル部をさらに備えていることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項13に記載の基板処置装置において、
前記基板端部洗浄用のノズル部は、
その吐出流の軸直角断面形状が一方向に細長い略長楕円形となっており、当該吐出流が基板の前記端部に当たる位置に、前記一方向が前記搬送方向に対して略平行となるように設けられていることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし14のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記洗浄液は水であることを特徴とする基板処理装置。 - 搬送されてくる基板に対して所定の吐出流を吐出して洗浄を行う基板洗浄ユニットであって、
基板の搬送方向に垂直な幅方向の端部に向けて前記吐出流を吐出し、その吐出流の軸直角断面形状が前記搬送方向に沿って細長い略長楕円形となっている基板端部洗浄用のノズル部を備えていることを特徴とする基板洗浄ユニット。 - 搬送されてくる基板に対して所定の吐出流を吐出して洗浄を行う基板洗浄ユニットであって、
前記洗浄液又は前記混合流体からなる吐出流を基板に向けてそれぞれ吐出し、その吐出流の軸直角断面形状が一方向に細長い略長楕円形となっている複数のノズル部と、
前記複数のノズル部は、その各ノズル部の前記各吐出流の基板上における吐出領域が、前記搬送方向上流側又は下流側から見たときに基板における前記搬送方向に垂直な幅方向に対して互いに部分的に重なり合うように配置されており、
前記複数のノズル部のうちの基板の前記幅方向の端部に向けて前記吐出流を吐出するノズル部における前記吐出流の軸直角断面形状の前記略長楕円の長手方向が、前記搬送方向と略平行に設定されていることを特徴とする基板洗浄ユニット。 - 搬送されてくる基板に対して所定の吐出流を吐出して洗浄を行う基板洗浄ユニットであって、
前記洗浄液又は前記混合流体からなる吐出流を基板に向けてそれぞれ吐出し、その吐出流の基板上における吐出領域が、前記搬送方向上流側又は下流側から見たときに基板における前記搬送方向に垂直な幅方向に対して互いに部分的に重なり合うように配置された複数の第1のノズル部と、
基板における前記搬送方向に垂直な幅方向の端部に向けて、前記洗浄液又は前記混合流体からなる吐出流を吐出する少なくとも1個の第2のノズル部と、
を備え、
前記各第1のノズル部の前記吐出流の軸直角断面形状が、前記搬送方向に対して斜めに傾斜した方向に沿って細長い略長楕円形となっており、
前記第2のノズル部の前記吐出流の軸直角断面形状が、前記搬送方向に沿って細長い略長楕円形となっていることを特徴とする基板洗浄ユニット。 - 請求項16ないし18のいずれかに記載の基板洗浄ユニットにおいて、
前記吐出流は、高圧で吐出される洗浄水であることを特徴とする基板洗浄ユニット。 - 請求項16ないし18のいずれかに記載の基板洗浄ユニットにおいて、
前記吐出流は、洗浄水と気体とがミスト状に混合されて吐出される混合流体であることを特徴とする基板洗浄ユニット。
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