JP7312738B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
12 第1処理ブース
13 第2処理ブース
14 リンスブース
15 搬出ブース
21、21a~21f 第1シャワーパイプ
22、22a~22f 第2シャワーパイプ
23、23a~23f 第1シャワーノズル
24、24a~24f 第2シャワーノズル
25、25a~25f 開閉器
30 制御装置
31 検出器
32 処理液供給源
33 調圧器
50 搬送ローラ
51、51a~51h ローラユニット
W 基板
Claims (9)
- 基板の両面を処理する基板処理装置であって、
一方の面を上方に向けた姿勢で搬送される前記基板の搬送面より上方に配置され、前記一方の面に対して第1処理液を吐出する第1ノズルを含む上側配置部材と、
搬送される前記基板の搬送面より下方に配置され、前記基板の他方の面に対して第2処理液を吐出する第2ノズルと、を備え、
前記第2ノズルから吐出される前記第2処理液の吐出圧は、前記他方の面に対して垂直に吐出した場合には前記上側配置部材に到達する吐出圧であって、前記第2ノズルは、前記第2処理液が前記上側配置部材に到達しないように、吐出方向が斜めになるように設けられる基板処理装置。 - 前記第2ノズルは、前記第2処理液の吐出方向が前記基板の搬送方向における下流側に向けて斜めになるように配置された、請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記第1処理液と前記第2処理液とは異なる種類の処理液である、請求項1または2に記載の基板処理装置。
- 前記第1処理液はオゾン水であり、前記第2処理液は純水である、請求項3記載の基板処理装置。
- 前記第1ノズルは、前記一方の面に垂直に前記第1処理液を吐出する請求項1乃至4のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記基板を検出する検出器と、
前記検出器による前記基板の検出信号を基に取得した前記基板の搬送位置に応じて、前記第2ノズルから吐出される前記第2処理液の吐出圧を変更するように制御する制御装置と、を有する、請求項1乃至5のいずれかに記載の基板処理装置。 - 前記検出器は、前記第2ノズルより前記基板の搬送方向における上流側に配置され、
前記制御装置は、前記検出器によって前記基板が検出されたタイミングから第1所定時間後に前記第2ノズルから前記第2処理液を第1吐出圧にて吐出させ、前記第2処理液の第1吐出圧での吐出開始タイミングから第2所定時間後に、前記第2処理液の吐出圧を前記第1吐出圧より低い第2吐出圧に切り換える吐出圧切換制御部を含む、請求項6記載の基板処理装置。 - 前記吐出圧切換制御部は、前記第2ノズルからの前記第2処理液の第1吐出圧での吐出タイミングから前記第2所定時間後に、前記第2ノズルからの前記第2処理液の吐出を停止させる、吐出開始・停止制御部を含む、請求項7記載の基板処理装置。
- 前記第2ノズルはシャワーパイプに設けられたノズルであって、前記第2ノズルは前記シャワーパイプに複数設けられ、
前記シャワーパイプは、前記基板の搬送方向に所定間隔で複数本設けられ、
前記制御装置は、前記第1吐出圧と前記第2吐出圧との切り換えを、前記シャワーパイプ毎に行う請求項7または8記載の基板処理装置。
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