JP2022092713A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2022092713A5 JP2022092713A5 JP2020205581A JP2020205581A JP2022092713A5 JP 2022092713 A5 JP2022092713 A5 JP 2022092713A5 JP 2020205581 A JP2020205581 A JP 2020205581A JP 2020205581 A JP2020205581 A JP 2020205581A JP 2022092713 A5 JP2022092713 A5 JP 2022092713A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- nozzle
- processing apparatus
- processing
- discharge pressure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 40
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 25
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 4
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
Description
本発明に係る基板処理装置は、基板の両面を処理する基板処理装置であって、一方の面を上方に向けた姿勢で搬送される前記基板の搬送面より上方に配置され、前記一方の面に対して第1処理液を吐出する第1ノズルを含む上側配置部材と、搬送される前記基板の搬送面より下方に配置され、前記基板の他方の面に対して第2処理液を吐出する第2ノズルと、を備え、前記第2ノズルは、前記第2処理液の吐出方向が前記基板の前記他方の面に対して斜めになるように、配置され、前記第2ノズルの吐出圧は、前記基板が無いときに前記上側配置部材に前記第2処理液が到達しない吐出圧である、構成となる。
搬送方向Dtに向けて傾けて設けられる第2シャワーノズル24のその傾き角度α、即ち、純水の吐出方向は、例えば、図5に示すように、基板Wの搬送面Stとその搬送面Stの上側に配置された第1シャワーノズル23を含む上側配置部材(本実施の一形態では、第1シャワーパイプ21、第1シャワーパイプ21を固定するブラケット、配管ホース等を含む)との間の最小距離h1、搬送面Stと第2シャワーノズル24の先端との間の距離h2、及び純水(第2処理液)による基板Wの裏面の処理(この場合、洗浄処理)に必要な吐出圧(洗浄吐出圧:第1吐出圧)に基づいて、決めることができ、予め実験などにより求められる。具体的には、基板Wの裏面の処理(洗浄)に必要な吐出圧となり、かつ、第2シャワーノズル24から吐出される純水が前記上側配置部材(第1シャワーノズル23等)にとどかないように第2シャワーノズル24の傾き角度αを決めることができる。言い換えると、傾き角度αは、図5に示すように、第2シャワーノズル24から洗浄吐出圧で吐出された純水の軌跡において、最高到達点が、基板Wの搬送面Stから最小距離h1の高さ以下となるように設定される。また、第2吐出圧を高くするほど、第2シャワーノズル24の傾き角度αを小さくすればよい。
Claims (10)
- 基板の両面を処理する基板処理装置であって、
一方の面を上方に向けた姿勢で搬送される前記基板の搬送面より上方に配置され、前記一方の面に対して第1処理液を吐出する第1ノズルを含む上側配置部材と、
搬送される前記基板の搬送面より下方に配置され、前記基板の他方の面に対して第2処理液を吐出する第2ノズルと、を備え、
前記第2ノズルは、前記第2処理液の吐出方向が前記基板の前記他方の面に対して斜めになるように、配置され、
前記第2ノズルから吐出される前記第2処理液の吐出圧は、前記基板が無いときに前記上側配置部材に前記第2処理液が到達しない吐出圧である基板処理装置。 - 基板の両面を処理する基板処理装置であって、
一方の面を上方に向けた姿勢で搬送される前記基板の搬送面より上方に配置され、前記一方の面に対して第1処理液を吐出する第1ノズルを含む上側配置部材と、
搬送される前記基板の搬送面より下方に配置され、前記基板の他方の面に対して第2処理液を吐出する第2ノズルと、を備え、
前記第2ノズルから吐出される前記第2処理液の吐出圧は、前記他方の面に対して垂直に吐出した場合には前記上側配置部材に到達する吐出圧であって、前記第2ノズルは、前記第2処理液が前記上側配置部材に到達しないように、吐出方向が斜めになるように設けられる基板処理装置。 - 前記第2ノズルは、前記第2処理液の吐出方向が前記基板の搬送方向における下流側に向けて斜めになるように配置された、請求項1または2記載の基板処理装置。
- 前記第1処理液と前記第2処理液とは異なる種類の処理液である、請求項1乃至3のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記第1処理液はオゾン水であり、前記第2処理液は純水である、請求項4記載の基板処理装置。
- 前記第1ノズルは、前記一方の面に垂直に前記第1処理液を吐出する請求項1乃至5のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記基板を検出する検出器と、
前記検出器による前記基板の検出信号を基に取得した前記基板の搬送位置に応じて、前記第2ノズルから吐出される前記第2処理液の吐出圧を変更するように制御する制御装置と、を有する、請求項1乃至6のいずれかに記載の基板処理装置。 - 前記検出器は、前記第2ノズルより前記基板の搬送方向における上流側に配置され、
前記制御装置は、前記検出器によって前記基板が検出されたタイミングから第1所定時間後に前記第2ノズルから前記第2処理液を第1吐出圧にて吐出させ、前記第2処理液の第1吐出圧での吐出開始タイミングから第2所定時間後に、前記第2処理液の吐出圧を前記第1吐出圧より低い第2吐出圧に切り換える吐出圧切換制御部を含む、請求項7記載の基板処理装置。 - 前記吐出圧切換制御部は、前記第2ノズルからの前記第2処理液の第1吐出圧での吐出タイミングから前記第2所定時間後に、前記第2ノズルからの前記第2処理液の吐出を停止させる、吐出開始・停止制御部を含む、請求項8記載の基板処理装置。
- 前記第2ノズルはシャワーパイプに設けられたノズルであって、前記第2ノズルは前記シャワーパイプに複数設けられ、
前記シャワーパイプは、前記基板の搬送方向に所定間隔で複数本設けられ、
前記制御装置は、前記第1吐出圧と前記第2吐出圧との切り換えを、前記シャワーパイプ毎に行う請求項8または9記載の基板処理装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020205581A JP7312738B2 (ja) | 2020-12-11 | 2020-12-11 | 基板処理装置 |
TW110138734A TWI791306B (zh) | 2020-12-11 | 2021-10-19 | 基板處理裝置 |
CN202111500391.XA CN114618814B (zh) | 2020-12-11 | 2021-12-09 | 基板处理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020205581A JP7312738B2 (ja) | 2020-12-11 | 2020-12-11 | 基板処理装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022092713A JP2022092713A (ja) | 2022-06-23 |
JP2022092713A5 true JP2022092713A5 (ja) | 2022-08-05 |
JP7312738B2 JP7312738B2 (ja) | 2023-07-21 |
Family
ID=81898729
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020205581A Active JP7312738B2 (ja) | 2020-12-11 | 2020-12-11 | 基板処理装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7312738B2 (ja) |
CN (1) | CN114618814B (ja) |
TW (1) | TWI791306B (ja) |
Family Cites Families (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3590711B2 (ja) * | 1997-08-05 | 2004-11-17 | シャープ株式会社 | 基板洗浄装置 |
JPH11267739A (ja) * | 1998-03-18 | 1999-10-05 | Nisshin Steel Co Ltd | 熱延鋼板の製造方法 |
DE69940611D1 (de) * | 1998-12-07 | 2009-04-30 | Yuzo Mori | Bearbeitungs-/reinigungsverfahren mit hilfe von hydroxyd-ionen in ultrareinem wasser |
JP3851462B2 (ja) * | 1999-01-29 | 2006-11-29 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
JP2000303191A (ja) * | 1999-04-15 | 2000-10-31 | Kengo Suzuki | 液体吹付装置における搬送機構 |
JP3865999B2 (ja) * | 1999-04-21 | 2007-01-10 | シャープ株式会社 | 超音波洗浄装置、及び洗浄方法 |
JP3881169B2 (ja) * | 2000-10-11 | 2007-02-14 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
JP4602567B2 (ja) * | 2000-12-15 | 2010-12-22 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 基板の洗浄装置 |
US6904637B2 (en) * | 2001-10-03 | 2005-06-14 | Applied Materials, Inc. | Scrubber with sonic nozzle |
JP4138504B2 (ja) * | 2002-03-27 | 2008-08-27 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
JP2003306226A (ja) * | 2002-04-12 | 2003-10-28 | Shibaura Mechatronics Corp | 基板の処理装置及び処理方法 |
JP2004074021A (ja) * | 2002-08-19 | 2004-03-11 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置及び基板洗浄ユニット |
JP4036724B2 (ja) * | 2002-10-22 | 2008-01-23 | シャープ株式会社 | 洗浄装置および洗浄方法 |
KR20040058839A (ko) * | 2002-12-27 | 2004-07-05 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 습식장치 |
JP4593908B2 (ja) * | 2003-12-17 | 2010-12-08 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 処理液による基板の処理装置 |
JP2005268247A (ja) * | 2004-03-16 | 2005-09-29 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
US20060254625A1 (en) * | 2005-05-16 | 2006-11-16 | Innolux Display Corp. | Sprayer and cleaning apparatus using the same |
JP4668088B2 (ja) * | 2005-10-14 | 2011-04-13 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
JP2008279317A (ja) * | 2007-05-08 | 2008-11-20 | Ulvac Material Kk | 付着物除去装置及び付着物除去方法 |
JP4861970B2 (ja) * | 2007-12-04 | 2012-01-25 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
JP2009147260A (ja) * | 2007-12-18 | 2009-07-02 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP5298333B2 (ja) * | 2007-12-28 | 2013-09-25 | 東洋製罐株式会社 | キャップ殺菌洗浄装置 |
JP5352388B2 (ja) * | 2009-09-02 | 2013-11-27 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 基板の処理装置及び処理方法 |
JP5701551B2 (ja) * | 2010-09-22 | 2015-04-15 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
JP5710921B2 (ja) * | 2010-09-22 | 2015-04-30 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
WO2012105382A1 (ja) * | 2011-02-01 | 2012-08-09 | シャープ株式会社 | 基板処理装置及び基板処理方法 |
US20140138353A1 (en) * | 2012-11-21 | 2014-05-22 | Dynaloy, Llc | Process for performing metal lift-off |
JP6315547B2 (ja) * | 2013-12-17 | 2018-04-25 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 基板処理装置 |
CN204866649U (zh) * | 2014-12-16 | 2015-12-16 | 佛山市海天调味食品股份有限公司 | 一种用于清洗滤布的高压清洗系统 |
-
2020
- 2020-12-11 JP JP2020205581A patent/JP7312738B2/ja active Active
-
2021
- 2021-10-19 TW TW110138734A patent/TWI791306B/zh active
- 2021-12-09 CN CN202111500391.XA patent/CN114618814B/zh active Active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10229841B2 (en) | Wafer drying apparatus and wafer drying method | |
JP6258892B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
JP2022092713A5 (ja) | ||
JP4850775B2 (ja) | 基板処理装置 | |
KR100740407B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 | |
JP2006205086A (ja) | 基板洗浄装置 | |
JP4997080B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP7312738B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP4861970B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP6789026B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
JP6857682B2 (ja) | 基板処理装置 | |
KR101150022B1 (ko) | 에칭장치 | |
JP2009006215A (ja) | 缶体の洗浄装置 | |
TWI841216B (zh) | 高壓洗淨裝置 | |
JP2009279477A (ja) | 処理液除去装置、基板処理装置およびノズル間隔設定方法 | |
JP2002302238A (ja) | 扁平容器の供給整列装置 | |
KR101583750B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 방법 | |
JP2007098361A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2009233820A (ja) | ブラスト加工方法及びブラスト加工装置 | |
JP2017147399A (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
JP2006272199A (ja) | 基板乾燥装置 | |
JPH05287558A (ja) | 基板のエッチング装置 | |
KR101217541B1 (ko) | 유리 기판 균일 건조용 이중 에어나이프 분사장치 | |
JPH1197408A (ja) | 基板乾燥方法及び基板乾燥装置 | |
JP2001093961A (ja) | 物体検出装置、物体検出方法および基板処理装置 |