JP5701551B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
表面102に対向する状態との間を繰り返して往復回動されながら各ノズル部100の吐出口104からの薬液の基板Wの表面102への吐出方向を変化させるようにしている。
レーパイプ部に連結された回動手段が更に備えられ、当該回動手段により各前記スプレーパイプ部の中心軸を中心として各前記スプレーパイプ部を基板の主面の傾斜上端方向に向けて所定角度一律に回動させた後に復帰回動させ、当該回動の往復動作を繰り返しながら各前記ノズル部の各前記吐出口からの処理液の基板の主面への吐出方向を変化させることを特徴とする。
う方向に延在するスプレーパイプ部22と、このスプレーパイプ部22の長手方向に一列に互いに近接して形設され薬液をその吐出口26から基板Wの表面102へ吐出する複数のノズル部24から構成される。
口26の対向角度を基板Wの表面102の傾斜下端方向に向けて、傾斜上端部付近から傾斜下端部付近にかけて基板Wの表面102の法線300に対して漸次小さくなるように、各スプレーパイプ部22に形設された複数のノズル部24の各吐出口26から吐出された薬液の基板Wの表面102上における位置と流速との関係を示す。
について説明したが、本発明はこれに限定されず、基板Wのサイズや処理の種類等に応じて適宜の数のスプレーノズルを選択すればよい。
10 薬液処理室
12 薬液タンク
14 スプレーノズル
16 送液ポンプ
18 薬液供給路
20 循環排水路
22 スプレーパイプ部
24 ノズル部
26 吐出口
102 基板の表面
106、108、110 線
W 基板
Claims (5)
- 基板に対してウェット処理を行うウェット処理室と、
前記ウェット処理室内に配設されて基板を水平面に対し基板搬送方向と直交する方向に所定角度傾斜させた姿勢で水平方向に搬送する基板搬送手段と、
前記ウェット処理室内に配設される基板搬送手段によって搬送される基板の主面へ処理液を供給する処理液供給手段と、
を備えた基板処理装置であって、
前記処理液供給手段は、
基板搬送方向に関して交差する方向に等ピッチに互いに平行に配置され処理液を基板の主面へ吐出する複数のスプレーノズルを備え、
各前記複数のスプレーノズルは、
前記基板搬送方向に沿う方向に延在するスプレーパイプ部と、当該スプレーパイプ部の長手方向に一列に互いに近接して形設され処理液をその吐出口から基板の主面へ吐出する複数のノズル部から構成される基板処理装置において、
基板の主面に対する前記複数のノズル部の吐出口の対向角度を、傾斜させた姿勢で搬送される基板の主面の傾斜下端方向に向けて、基板の主面の傾斜上端部付近から傾斜下端部付近にかけて、基板の主面の法線に対して漸次小さくなるように、前記複数のノズル部を前記複数のスプレーパイプ部に形設することにより、前記傾斜上端部付近と前記傾斜下端部付近における流速差が軽減されることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置において、
基板搬送方向に関して交差する方向に等ピッチに配置される前記複数のスプレーノズルの前記複数のノズル部は、当該交差方向に関して千鳥状に配置されることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1または2に記載の基板処理装置において、
各前記スプレーパイプ部に連結された回動手段がさらに備えられ、
前記回動手段により各前記スプレーパイプ部の中心軸を中心として各前記スプレーパイプ部を基板の主面の傾斜上端方向に向けて所定角度一律に回動させた後に復帰回動させ、当該回動の往復動作を繰り返しながら各前記ノズル部の各前記吐出口からの処理液の基板の主面への吐出方向を変化させることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記複数のノズル部の吐出口から吐出される処理液の吐出量は、等しいことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし4のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記複数のノズル部の吐出口から吐出される処理液は、エッチング液であることを特徴とする基板処理装置。
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