JP2006255556A - 液処理装置および液晶表示装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】複数のノズル列20の各ノズル20aを、板状ワークWの移動方向前側および後側のうちの何れか一方の側に向かって処理液を噴射するように配置する。
【選択図】図1
Description
20 ノズル列
20a ノズル
W ガラス基板(板状ワーク)
Claims (7)
- 略水平方向に延びる移動路に沿って板状ワークを略水平姿勢の状態で移動させる移動手段と、
各々、処理液をそれぞれ互いに略同じ方向に向かってそれぞれ噴射する複数のノズルが前記移動路を横切って並ぶように設けられてなり、前記移動手段による前記板状ワークの移動方向に並ぶように配置された複数のノズル列とを備え、
前記移動路上を前記移動手段により移動する前記板状ワークに対し、前記各ノズルから処理液を噴射して所定の液処理を行うようにした液処理装置であって、
前記複数のノズル列の各ノズルは、前記移動方向の前側および後側のうちの何れか一方の側に向かって処理液を噴射するように配置されていることを特徴とする液処理装置。 - 請求項1に記載の液処理装置において、
前記各ノズルは、前記移動方向後側に向かって前記処理液を噴射するように配置されていることを特徴とする液処理装置。 - 請求項1に記載の液処理装置において、
前記複数のノズル列のうちの一部のノズル列の各ノズルは、前記移動路の幅方向一側の側に傾いた方向に向かって処理液を噴射するように配置され、
前記複数のノズル列のうちの残部のノズル列の各ノズルは、前記移動路の幅方向他側の側に傾いた方向に向かって処理液を噴射するように配置されていることを特徴とする液処理装置。 - 請求項1に記載の液処理装置において、
前記一部のノズル列の各ノズル列と、前記残部のノズル列の各ノズル列とは、交互に配置されていることを特徴とする液処理装置。 - 請求項1に記載の液処理装置において、
前記移動路の幅方向における前記各ノズルの噴射方向の前記移動方向を基準とした傾き角度は、30°とされていることを特徴とする液処理装置。 - 請求項1に記載の液処理装置において、
前記各ノズルは、洗浄液を噴射するものであり、
前記板状ワークに対し、前記各ノズルから前記洗浄液を噴射して洗浄処理を行うように構成されていることを特徴とする液処理装置。 - 2枚の透明基板と、該2枚の透明基板間に配置された液晶層とを備えた液晶表示装置であって、
前記2枚の透明基板のうちの少なくとも一方の透明基板は、請求項1に記載の液処理装置により所定の液処理が行われたものであることを特徴とする液晶表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005074862A JP2006255556A (ja) | 2005-03-16 | 2005-03-16 | 液処理装置および液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2005074862A JP2006255556A (ja) | 2005-03-16 | 2005-03-16 | 液処理装置および液晶表示装置 |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2006255556A true JP2006255556A (ja) | 2006-09-28 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2005074862A Pending JP2006255556A (ja) | 2005-03-16 | 2005-03-16 | 液処理装置および液晶表示装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2006255556A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009170624A (ja) * | 2008-01-16 | 2009-07-30 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | フォトエッチングにおけるフォトレジストの除去方法及び装置 |
JP2012066176A (ja) * | 2010-09-22 | 2012-04-05 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
WO2017164126A1 (ja) * | 2016-03-25 | 2017-09-28 | 東レ株式会社 | 現像装置及び回路基板の製造方法 |
JP2017211681A (ja) * | 2014-03-07 | 2017-11-30 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 接液処理装置、接液処理方法、基板処理装置および基板処理方法 |
-
2005
- 2005-03-16 JP JP2005074862A patent/JP2006255556A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009170624A (ja) * | 2008-01-16 | 2009-07-30 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | フォトエッチングにおけるフォトレジストの除去方法及び装置 |
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