JP3113192B2 - 液晶用基板の液体噴射装置 - Google Patents
液晶用基板の液体噴射装置Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶用基板の製造
工程のうち液晶用基板の洗浄、パターン形成のための現
像、ウェットエッチング等の湿式工程において用いられ
る液体噴射装置に関する。
工程のうち液晶用基板の洗浄、パターン形成のための現
像、ウェットエッチング等の湿式工程において用いられ
る液体噴射装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、液晶表示装置を構成する液晶用
基板の製造工程においては、洗浄、パターン形成のため
の現像、ウェットエッチング等の湿式工程が多く含まれ
る。通常、基板やウェハ等を湿式工程で連続的に処理す
る場合、（１）基板の搬送経路上にノズルを配置し、こ
のノズルから基板に向かって液体を扇状または円錐状に
スプレーもしくはシャワーする、（２）基板の搬送経路
上に処理液槽を配置し、基板がこの処理液槽内の処理液
に浸漬するように基板を搬送する、等の方法が採られる
が、液晶表示装置を構成する液晶用基板はサイズが大き
いために、ハンドリングの容易な上記（１）の方法が採
られる。
基板の製造工程においては、洗浄、パターン形成のため
の現像、ウェットエッチング等の湿式工程が多く含まれ
る。通常、基板やウェハ等を湿式工程で連続的に処理す
る場合、（１）基板の搬送経路上にノズルを配置し、こ
のノズルから基板に向かって液体を扇状または円錐状に
スプレーもしくはシャワーする、（２）基板の搬送経路
上に処理液槽を配置し、基板がこの処理液槽内の処理液
に浸漬するように基板を搬送する、等の方法が採られる
が、液晶表示装置を構成する液晶用基板はサイズが大き
いために、ハンドリングの容易な上記（１）の方法が採
られる。
【０００３】図４は上記（１）の方法に相当する従来の
液晶用基板の液体噴射装置を示す側面図である。図４に
示すように、搬送方向１４に向かって液晶用基板１３を
水平を維持しながら搬送させる。それと同時に、搬送経
路上であって、基板１３に対して平行となるように配設
されたスプレーノズル１１から基板１３に向かって処理
液１２を扇状または円錐状にスプレーもしくはシャワー
している。
液晶用基板の液体噴射装置を示す側面図である。図４に
示すように、搬送方向１４に向かって液晶用基板１３を
水平を維持しながら搬送させる。それと同時に、搬送経
路上であって、基板１３に対して平行となるように配設
されたスプレーノズル１１から基板１３に向かって処理
液１２を扇状または円錐状にスプレーもしくはシャワー
している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の方法では、基板サイズの大型化に伴い以下のよ
うな問題が発生する。すわなち、基板上に処理液を単純
にスプレー、シャワーする方法では、基板中央付近に処
理液が滞留し、スプレー等の効果が減殺されるという問
題がある。また、処理液が滞留する領域と、処理液の流
れがある領域とでは、基板表面での液交換の速さが異な
り、これによっても処理の進行状態が異なってくるとい
う問題がある。
た従来の方法では、基板サイズの大型化に伴い以下のよ
うな問題が発生する。すわなち、基板上に処理液を単純
にスプレー、シャワーする方法では、基板中央付近に処
理液が滞留し、スプレー等の効果が減殺されるという問
題がある。また、処理液が滞留する領域と、処理液の流
れがある領域とでは、基板表面での液交換の速さが異な
り、これによっても処理の進行状態が異なってくるとい
う問題がある。
【０００５】そこで、上記問題を回避する手法として、
基板上の処理液の滞留を防止するためにスプレーやシャ
ワーに方向性を持たせ、基板上で処理液全体に流れを生
じさせる方法が採られているが、この方法では、特に大
型の基板において処理液の流れの上流と下流とで流量、
流速に大きな差が生じ、処理状態に差が発生するという
問題がある。いずれにしても基板表面での処理状態のば
らつきが起こることで、液晶表示装置を構成した際の微
妙な表示のむらの原因となり、表示品位の低下を起こす
こととなる。
基板上の処理液の滞留を防止するためにスプレーやシャ
ワーに方向性を持たせ、基板上で処理液全体に流れを生
じさせる方法が採られているが、この方法では、特に大
型の基板において処理液の流れの上流と下流とで流量、
流速に大きな差が生じ、処理状態に差が発生するという
問題がある。いずれにしても基板表面での処理状態のば
らつきが起こることで、液晶表示装置を構成した際の微
妙な表示のむらの原因となり、表示品位の低下を起こす
こととなる。
【０００６】本発明は、上記従来の問題点を解決するた
めになされたものであり、洗浄液、現像液、エッチング
液等の処理液による液晶用基板表面での処理状態のばら
つきを極力抑制する液晶用基板の液体噴射装置を提供す
ることを目的とする。
めになされたものであり、洗浄液、現像液、エッチング
液等の処理液による液晶用基板表面での処理状態のばら
つきを極力抑制する液晶用基板の液体噴射装置を提供す
ることを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、液晶
表示装置を製造する工程のうち湿式工程において用いら
れる液晶用基板の液体噴射装置において、処理液を基板
に向かって噴射する複数のノズルからなると共に基板の
搬送方向に対して概略直交する方向に並ぶノズル列を複
数備え、各ノズルの噴射方向は、当該ノズルから噴射さ
れた処理液と、当該ノズルと対向するノズルから噴射さ
れた処理液とが基板上で合流して基板の搬送方向に対し
て概略直交する方向に流れるように、平面視で基板の搬
送方向に対して左右一側に傾斜していることを特徴とす
る液晶用基板の液体噴射装置である。
表示装置を製造する工程のうち湿式工程において用いら
れる液晶用基板の液体噴射装置において、処理液を基板
に向かって噴射する複数のノズルからなると共に基板の
搬送方向に対して概略直交する方向に並ぶノズル列を複
数備え、各ノズルの噴射方向は、当該ノズルから噴射さ
れた処理液と、当該ノズルと対向するノズルから噴射さ
れた処理液とが基板上で合流して基板の搬送方向に対し
て概略直交する方向に流れるように、平面視で基板の搬
送方向に対して左右一側に傾斜していることを特徴とす
る液晶用基板の液体噴射装置である。
【０００８】請求項２の発明は、請求項１において、さ
らに、前記ノズル列の各ノズルと対向し、かつ、当該ノ
ズルの噴射方向と逆方向に処理液を噴射するように平面
視で基板の搬送方向に対して他側に傾斜した複数のノズ
ルからなると共に基板の搬送方向に対して概略直交する
方向に並ぶノズル列を複数備え、前記ノズルから噴射さ
れた処理液は、当該ノズルと対向するノズルから噴射さ
れた処理液と衝突することなく交差することを特徴とす
る液晶用基板の液体噴射装置である。
らに、前記ノズル列の各ノズルと対向し、かつ、当該ノ
ズルの噴射方向と逆方向に処理液を噴射するように平面
視で基板の搬送方向に対して他側に傾斜した複数のノズ
ルからなると共に基板の搬送方向に対して概略直交する
方向に並ぶノズル列を複数備え、前記ノズルから噴射さ
れた処理液は、当該ノズルと対向するノズルから噴射さ
れた処理液と衝突することなく交差することを特徴とす
る液晶用基板の液体噴射装置である。
【０００９】請求項３の発明は、請求項１又は２におい
て、前記処理液は、洗浄液、現像液又はエッチング液か
らなることを特徴とする液晶用基板の液体噴射装置であ
る。
て、前記処理液は、洗浄液、現像液又はエッチング液か
らなることを特徴とする液晶用基板の液体噴射装置であ
る。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明にかかる液晶用基板の液体
噴射装置の実施形態を図面を参照しながら詳細に説明す
る。図１は本発明にかかる液晶用基板の液体噴射装置の
一実施形態を示す概略側面図であり、図２はその平面図
である。なお、上述した如く、本発明の液体噴射装置は
液晶用基板の製造工程のうち液晶用基板の洗浄、パター
ン形成のための現像、ウェットエッチング等の湿式工程
において用いられるものである。
噴射装置の実施形態を図面を参照しながら詳細に説明す
る。図１は本発明にかかる液晶用基板の液体噴射装置の
一実施形態を示す概略側面図であり、図２はその平面図
である。なお、上述した如く、本発明の液体噴射装置は
液晶用基板の製造工程のうち液晶用基板の洗浄、パター
ン形成のための現像、ウェットエッチング等の湿式工程
において用いられるものである。
【００１１】図１及び２に示すように、本発明にかかる
液晶用基板の液体噴射装置は、処理液を基板３に向かっ
て噴射する複数のノズル５を有し、かつ、基板３の搬送
方向４に対して概略直交する方向に延びるノズルパイプ
１を複数備えている。ノズルパイプ１は搬送される基板
３に対向しており、その内部には処理液が流通してい
る。
液晶用基板の液体噴射装置は、処理液を基板３に向かっ
て噴射する複数のノズル５を有し、かつ、基板３の搬送
方向４に対して概略直交する方向に延びるノズルパイプ
１を複数備えている。ノズルパイプ１は搬送される基板
３に対向しており、その内部には処理液が流通してい
る。
【００１２】ノズルパイプ１は外径２２mmの硬質塩化ビ
ニルパイプからなり、基板３との離間距離は２５mmであ
る。また、ノズルパイプ１は多数水平に、かつ、平行に
４０mmピッチで配置されている。ノズル５は側方視で水
平方向に対してノズルパイプ１の下方４５°に形成され
た直径0.8mmの穴であり、10mm間隔でノズルパイプ１の
軸方向に多数設けられている。さらに、その穴は、ノズ
ル５の噴射方向が平面視でノズルパイプ１の半径方向に
対して４５°傾斜するように形成されている。
ニルパイプからなり、基板３との離間距離は２５mmであ
る。また、ノズルパイプ１は多数水平に、かつ、平行に
４０mmピッチで配置されている。ノズル５は側方視で水
平方向に対してノズルパイプ１の下方４５°に形成され
た直径0.8mmの穴であり、10mm間隔でノズルパイプ１の
軸方向に多数設けられている。さらに、その穴は、ノズ
ル５の噴射方向が平面視でノズルパイプ１の半径方向に
対して４５°傾斜するように形成されている。
【００１３】図１及び２からも明らかなように、あるノ
ズルパイプ１に設けられた各ノズル５は、隣接する一方
のノズルパイプ１に設けられた各ノズル５と対向してい
るが、隣接する他方のノズルパイプ１に設けられた各ノ
ズル５とは対向していない。すなわち、各ノズルパイプ
１は一方向に向いた複数のノズル５が一列に並んだノズ
ル列を具備している。
ズルパイプ１に設けられた各ノズル５は、隣接する一方
のノズルパイプ１に設けられた各ノズル５と対向してい
るが、隣接する他方のノズルパイプ１に設けられた各ノ
ズル５とは対向していない。すなわち、各ノズルパイプ
１は一方向に向いた複数のノズル５が一列に並んだノズ
ル列を具備している。
【００１４】また、ノズル５の噴射方向２は、そのノズ
ル５と対向するノズル５の噴射方向２に対して逆方向で
あり、さらにそのノズル５から噴射された処理液は、対
向するノズル５から噴射された処理液と衝突することな
く交差するように、各ノズル５はノズルパイプ１上に配
列されている。なお、ノズル５から噴射された処理液が
基板３と衝突する位置と、そのノズル５と対向するノズ
ル５から噴射された処理液が基板３と衝突する位置との
間は、図１に示す如く側方視で約１０mmである。
ル５と対向するノズル５の噴射方向２に対して逆方向で
あり、さらにそのノズル５から噴射された処理液は、対
向するノズル５から噴射された処理液と衝突することな
く交差するように、各ノズル５はノズルパイプ１上に配
列されている。なお、ノズル５から噴射された処理液が
基板３と衝突する位置と、そのノズル５と対向するノズ
ル５から噴射された処理液が基板３と衝突する位置との
間は、図１に示す如く側方視で約１０mmである。
【００１５】以上説明した構成を具備した液晶基板用の
液体噴射装置を用いて、基板表面のレジストの剥離処理
を行った。すなわち、レジストを剥離するための剥離用
溶液をノズル５から搬送されてくる基板３に向かって噴
射し、処理状態を観察した。各ノズル５から噴射された
剥離用溶液は、側方視で水平方向に対してノズルパイプ
１の下方約４５°に、平面視でノズルパイプ１の半径方
向に対して約４５°傾斜する方向に進み、対向する他の
ノズル５から噴射された逆方向に進む剥離用溶液と交差
した。
液体噴射装置を用いて、基板表面のレジストの剥離処理
を行った。すなわち、レジストを剥離するための剥離用
溶液をノズル５から搬送されてくる基板３に向かって噴
射し、処理状態を観察した。各ノズル５から噴射された
剥離用溶液は、側方視で水平方向に対してノズルパイプ
１の下方約４５°に、平面視でノズルパイプ１の半径方
向に対して約４５°傾斜する方向に進み、対向する他の
ノズル５から噴射された逆方向に進む剥離用溶液と交差
した。
【００１６】そして、それぞれのノズル５から噴射され
た剥離用溶液は基板３に衝突した後、図３に示す如く矢
印６に沿って剥離用溶液は流れた。相互に対向し、か
つ、基板３の搬送方向に対して同一側に傾斜したノズル
５から噴射された剥離用溶液は、基板３上で合流し、基
板３の搬送方向に対して概略直交する方向に、すなわち
矢印７に沿って一筋の流れが発生した。基板３全体で見
れば、約70mmの間隔で交互に向きが変化する剥離用溶液
の流れが発生した。その結果、本装置による処理速度を
従来の扇形ノズルを配列して剥離用溶液をスプレーした
場合の処理速度と比較すると、約２割の向上が見られ
た。
た剥離用溶液は基板３に衝突した後、図３に示す如く矢
印６に沿って剥離用溶液は流れた。相互に対向し、か
つ、基板３の搬送方向に対して同一側に傾斜したノズル
５から噴射された剥離用溶液は、基板３上で合流し、基
板３の搬送方向に対して概略直交する方向に、すなわち
矢印７に沿って一筋の流れが発生した。基板３全体で見
れば、約70mmの間隔で交互に向きが変化する剥離用溶液
の流れが発生した。その結果、本装置による処理速度を
従来の扇形ノズルを配列して剥離用溶液をスプレーした
場合の処理速度と比較すると、約２割の向上が見られ
た。
【００１７】従って、本装置によれば、基板上において
基板の搬送方向に対して概略直交する方向に処理液の流
れが発生すると共に流れの向きが交互に変化するため、
基板の連続搬送により基板各部について表面を処理する
処理液の流れが交互に変わり、従来、一方向のみの処理
液の流れにより上流と下流とで発生していた処理の進行
度の違いが緩和される。特に、基板が大型化しても面内
での処理状態のばらつきを少なくすることができる。
基板の搬送方向に対して概略直交する方向に処理液の流
れが発生すると共に流れの向きが交互に変化するため、
基板の連続搬送により基板各部について表面を処理する
処理液の流れが交互に変わり、従来、一方向のみの処理
液の流れにより上流と下流とで発生していた処理の進行
度の違いが緩和される。特に、基板が大型化しても面内
での処理状態のばらつきを少なくすることができる。
【００１８】
【発明の効果】本発明にかかる液晶用基板の液体噴射装
置によれば、各ノズルの噴射方向は、当該ノズルから噴
射された処理液と、当該ノズルと対向するノズルから噴
射された処理液とが基板上で合流して基板の搬送方向に
対して概略直交する方向に流れるように、平面視で基板
の搬送方向に対して左右一側に傾斜しているので、基板
上のほぼ全面で基板の搬送方向に対して概略直交する方
向に処理液の流れが発生し、基板上において部分的に処
理液が滞留することはなく、その結果、従来技術で見ら
れたように滞留した処理液がスプレー、シャワーの表面
への当たりを妨害することにより生じるムラを防止する
ことができ、洗浄液、現像液、エッチング液等の処理液
による基板表面での処理状態のばらつきを極力抑制する
ことができる。
置によれば、各ノズルの噴射方向は、当該ノズルから噴
射された処理液と、当該ノズルと対向するノズルから噴
射された処理液とが基板上で合流して基板の搬送方向に
対して概略直交する方向に流れるように、平面視で基板
の搬送方向に対して左右一側に傾斜しているので、基板
上のほぼ全面で基板の搬送方向に対して概略直交する方
向に処理液の流れが発生し、基板上において部分的に処
理液が滞留することはなく、その結果、従来技術で見ら
れたように滞留した処理液がスプレー、シャワーの表面
への当たりを妨害することにより生じるムラを防止する
ことができ、洗浄液、現像液、エッチング液等の処理液
による基板表面での処理状態のばらつきを極力抑制する
ことができる。
【００１９】また、本発明にかかる液晶用基板の液体噴
射装置は、さらに、各ノズルと対向し、かつ、当該ノズ
ルの噴射方向と逆方向に処理液を噴射するように平面視
で基板の搬送方向に対して他側に傾斜した複数のノズル
からなると共に基板の搬送方向に対して概略直交する方
向に並ぶノズル列を複数備え、上記ノズルから噴射され
た処理液は、当該ノズルと対向するノズルから噴射され
た処理液と衝突することなく交差するので、基板上にお
いて処理液の流れの向きが交互に変化し、その結果、基
板の連続搬送により基板全面は順次流れの向きが交互に
変化する処理液によって処理され、さらに基板表面での
処理状態のばらつきを極力抑制することができると共
に、基板表面での処理液の流量が増加するので、洗浄、
エッチング等の処理時間を短縮することができる。
射装置は、さらに、各ノズルと対向し、かつ、当該ノズ
ルの噴射方向と逆方向に処理液を噴射するように平面視
で基板の搬送方向に対して他側に傾斜した複数のノズル
からなると共に基板の搬送方向に対して概略直交する方
向に並ぶノズル列を複数備え、上記ノズルから噴射され
た処理液は、当該ノズルと対向するノズルから噴射され
た処理液と衝突することなく交差するので、基板上にお
いて処理液の流れの向きが交互に変化し、その結果、基
板の連続搬送により基板全面は順次流れの向きが交互に
変化する処理液によって処理され、さらに基板表面での
処理状態のばらつきを極力抑制することができると共
に、基板表面での処理液の流量が増加するので、洗浄、
エッチング等の処理時間を短縮することができる。
【図１】本発明にかかる液晶用基板の液体噴射装置の一
実施形態を示す概略側面図である。
実施形態を示す概略側面図である。
【図２】図１に示す液体噴射装置の平面図である。
【図３】基板上における処理液の流れを示す説明図であ
る。
る。
【図４】従来の液晶用基板の液体噴射装置を示す概略側
面図である。
面図である。
１ ノズルパイプ ２ 噴射方向 ３ 基板 ４ 搬送方向 ５ ノズル
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G02F 1/1333 500 G02F 1/13 101 G02F 1/1343 G02F 1/136 - 1/1368 B08B 3/04 G03F 7/26 - 7/42 C23F 1/08 H05K 3/06 H01L 21/304 - 21/306
Claims (3)
- 【請求項１】 液晶表示装置を製造する工程のうち湿式
工程において用いられる液晶用基板の液体噴射装置にお
いて、処理液を基板に向かって噴射する複数のノズルか
らなると共に基板の搬送方向に対して概略直交する方向
に並ぶノズル列を複数備え、各ノズルの噴射方向は、当
該ノズルから噴射された処理液と、当該ノズルと対向す
るノズルから噴射された処理液とが基板上で合流して基
板の搬送方向に対して概略直交する方向に流れるよう
に、平面視で基板の搬送方向に対して左右一側に傾斜し
ていることを特徴とする液晶用基板の液体噴射装置。 - 【請求項２】 さらに、前記ノズル列の各ノズルと対向
し、かつ、当該ノズルの噴射方向と逆方向に処理液を噴
射するように平面視で基板の搬送方向に対して他側に傾
斜した複数のノズルからなると共に基板の搬送方向に対
して概略直交する方向に並ぶノズル列を複数備え、前記
ノズルから噴射された処理液は、当該ノズルと対向する
ノズルから噴射された処理液と衝突することなく交差す
ることを特徴とする請求項１記載の液晶用基板の液体噴
射装置。 - 【請求項３】 前記処理液は、洗浄液、現像液又はエッ
チング液からなることを特徴とする請求項１又は２記載
の液晶用基板の液体噴射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07322883A JP3113192B2 (ja) | 1995-12-12 | 1995-12-12 | 液晶用基板の液体噴射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07322883A JP3113192B2 (ja) | 1995-12-12 | 1995-12-12 | 液晶用基板の液体噴射装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09160006A JPH09160006A (ja) | 1997-06-20 |
| JP3113192B2 true JP3113192B2 (ja) | 2000-11-27 |
Family
ID=18148687
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP07322883A Expired - Fee Related JP3113192B2 (ja) | 1995-12-12 | 1995-12-12 | 液晶用基板の液体噴射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3113192B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0454690A (ja) * | 1990-06-22 | 1992-02-21 | Futaba Keiki Kk | 電子式タクシーメータ |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4675113B2 (ja) * | 2005-01-28 | 2011-04-20 | 住友精密工業株式会社 | 基板洗浄装置 |
| WO2017164126A1 (ja) * | 2016-03-25 | 2017-09-28 | 東レ株式会社 | 現像装置及び回路基板の製造方法 |
-
1995
- 1995-12-12 JP JP07322883A patent/JP3113192B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0454690A (ja) * | 1990-06-22 | 1992-02-21 | Futaba Keiki Kk | 電子式タクシーメータ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09160006A (ja) | 1997-06-20 |
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