JPH11145109A

JPH11145109A - 基板処理装置

Info

Publication number: JPH11145109A
Application number: JP30586797A
Authority: JP
Inventors: Satoshi Suzuki; 聡鈴木
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1997-11-07
Filing date: 1997-11-07
Publication date: 1999-05-28

Abstract

(57)【要約】【課題】傾斜させた状態、あるいは起立させた状態の
基板に対し、本来の処理前に事前に処理液を供給して基
板を濡らすようにした装置であって、処理むらの発生を
より確実に防止して、基板面内での処理の均一性を良好
に確保する。【解決手段】処理槽１２に、処理中にエッチング液を
供給するシャワーノズル２０を設けるとともに、処理槽
１２への搬入中にエッチング液液を供給するスリットノ
ズル２２とを設け、傾斜させた基板Ｗを該姿勢のまま、
水平面と平行で、かつ傾斜方向と直交する方向に搬送し
つつ各ノズル２０，２２によりエッチング液を供給する
ようにエッチング装置１０を構成した。上記ノズル２２
は、基板Ｗの傾斜方向における上方端部が下方端部より
も搬送方向における下流側に位置するように、基板Ｗの
傾斜方向に対して角度θ₂を有するように傾けた状態で
配設した。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置用ガ
ラス基板、プラズマディスプレイ用ガラス基板、プリン
ト基板、半導体ウエハ等の基板の処理装置において、特
に、水平面に対して基板を傾斜させた状態、あるいは起
立させた状態で搬送しながら基板対して処理液を供給し
て処理を施すようにした基板処理装置に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】従来から、区画形成された複数の処理槽
にわたって基板を水平に支持した状態で順次搬送し、各
処理槽内でシャワーノズルから基板に薬液や純水等の処
理液を供給して各種処理を施すようにした基板処理装置
は一般に知られている。

【０００３】この種の装置では、各処理槽の区画壁に形
成された開口部を介して基板が次工程の処理槽に搬入さ
れるが、この場合、搬入先の処理槽内において処理液を
供給しながら基板を搬入すると、処理液のミストが開口
部を介して隣設された処理槽に侵入する虞れがある。

【０００４】そのため、従来では、例えばシャッターを
設けて開口部を開閉可能とし、基板の導入時のみ開口部
を開いて速やかに基板を処理槽内に搬入するとともに、
開口部が開いている間は処理液の供給を停止させ、基板
搬入後、開口部が完全に閉じてから処理液の供給を開始
するようにしていた。

【０００５】しかし、この場合、隣設処理槽へのミスト
の浸入は有効に防止されるが、新たに、次のような問題
を招くこととなった。すなわち、処理液の供給を停止し
た状態でも、シャワーノズルに残っている液滴が落下し
たり、あるいは処理槽の天井部分で液滴化したミストが
落下して、これが搬入中の基板に付着する場合があり、
例えば、エッチング処理の工程では、このような液滴の
付着箇所でのエッチング処理が他の箇所よりも進行する
こととなり、これが処理むらとなって基板面内での処理
の均一性（面内均一性）を低下させる原因の一つとなっ
た。

【０００６】そこで、最近では、図８に示すように、シ
ャワーノズル５２とは別に、基板搬送方向と水平面上で
直交する方向（同図では紙面に直交する方向）に延びる
スリットノズル５４を処理槽５０の開口部５０ａの近傍
に配設し、搬送機構５６により処理槽５０に搬入される
基板Ｗに対し処理液（シャワーノズル５２により供給す
る処理液と同じ処理液）をカーテン状に吐出させて基板
Ｗを濡らすようにしている。つまり、このように本来の
処理前に基板全体を処理液で均一に濡らして処理を開始
させておくことにより、その後に上記のような液滴が付
着した場合でも処理むらが生じることがないようにして
いる。この際、スリットノズル５４からの処理液の供給
は、基板Ｗの搬送方向における下流側に向かって行われ
るようになっており、従って、基板Ｗの搬入中に、処理
液のミストが隣設処理槽へ浸入することもない。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところで、今日では、
基板の搬送方向と水平面上で直交する方向において、基
板を水平面に対して所定角度だけ傾けた姿勢に保持して
搬送しつつ処理液を供給するようにした、いわゆる傾斜
式の基板処理装置が開発されており、このような装置に
おいても、上記従来の装置と同様に、隣設処理槽へのミ
スト浸入を防止しつつ、上記のような液滴の付着による
処理むらの発生を防止する必要がある。

【０００８】そこで、一つの方法として、上記従来の構
成を傾斜式の基板処理装置に流用することが考えられて
いる。すなわち、開口部近傍に、基板と平行に、かつ基
板搬送方向と水平面上で直交する方向、つまり基板Ｗの
傾斜方向と平行に延びるスリットノズルを配設し、この
スリットノズルを介して搬入中の基板に処理液を供給す
ることが考えられている。

【０００９】しかし、この場合には、基板Ｗが傾斜して
いるため、単に基板の傾斜方向と平行に延びるスリット
ノズルにより基板に処理液を吹き付けるだけでは、図９
に示すように、スリットノズル５８から基板Ｗに吹き付
けられた処理液の一部が該吹き付け位置Ｌよりも搬送方
向における上流側（同図では左側）、すなわち、未だ処
理液が吹き付けられていない部分にすじ状に流下し（図
中符号Ｓで示す）、その結果、この部分での処理が早く
進行して処理むらを生じさせることとなる。

【００１０】本発明は、上記問題を解決するためになさ
れたものであり、傾斜させた状態、あるいは起立させた
状態の基板に対し、本来の処理前に事前に処理液を供給
して基板を濡らすようにした装置だって、処理むらの発
生をより確実に防止して、基板面内での処理の均一性を
良好に確保することができる基板処理装置を提供するこ
とを目的としている。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、処理槽の内部に、処理中に基板に対して
処理液を供給する主液吐出手段と、処理槽の入口近傍に
配設され、該処理槽への基板の搬入中に基板に処理液を
供給する副液吐出手段とを備え、水平面に対して所定の
角度をなす基板姿勢方向に傾斜あるいは起立させた基板
を、該基板姿勢のまま、前記水平面と平行で、かつ前記
基板姿勢方向と直交する方向に搬送しつつ上記入口を介
して処理槽内に導入して処理を施す基板処理装置におい
て、上記副液吐出手段は、上記基板に対向配置されると
ともに、上記基板姿勢方向における上方端部が下方端部
よりも上記搬送方向における下流側に位置するように、
上記搬送方向に対して角度をなすように配置されている
ものである。

【００１２】この装置によれば、基板の搬入中、副液吐
出手段から処理液が吐出されることにより基板が事前に
処理液で濡らされる。そして、処理槽内に板が搬入され
ると主液吐出手段手段から基板に対して処理液が供給さ
れる。この場合、副液吐出手段による基板への処理液の
供給に際しては、基板姿勢方向における上方端部が下方
端部よりも搬送方向における下流側に位置するように副
液吐出手段が設けられているので、基板に供給される処
理液は、該供給位置よりも搬送方向における下流側、つ
まり、既に処理液が供給された部分を流下することとな
り、該供給位置よりも搬送方向における上流側、つま
り、未だ処理液が供給されていない部分を流下すること
がない。そのため、副液吐出手段による処理液の供給に
おいて、未だ処理液が供給されていない部分に処理液が
流下することに起因した処理むらの発生が有効に防止さ
れる。

【００１３】このような装置においては、上記搬送方向
における下流側に向かって処理液を吐出するように基板
表面に対して角度をなした状態で副液吐出手段を設ける
のが好ましく（請求項２）、望ましくは基板表面対する
副液吐出手段の角度を３０°以下に設定するのがよい
（請求項３）。このようにすれば、副液吐出手段による
基板の供給に際して、基板に供給した処理液をより良好
に搬送方向における下流側に流下させることが可能とな
る。

【００１４】また、副液吐出手段として、基板姿勢方向
にカーテン状に処理液を吐出するものを用いるようにす
れば（請求項４）、基板姿勢方向にむら無く処理液を供
給することができるため、処理むらの発生をより有効に
防止することが可能となる。

【００１５】また、上記課題を解決するために、本発明
は、処理槽の内部に、処理中に基板に対して処理液を供
給する主液吐出手段を備え、水平面に対して所定の角度
をなす基板姿勢方向に傾斜あるいは起立させた基板を、
該基板姿勢のまま、前記水平面に平行で、かつ前記基板
姿勢方向と直交する方向に搬送しつつ上記入口を介して
処理槽内に導入して処理を施す基板処理装置において、
上記処理槽内であって上記主液吐出手段よりも上記搬送
方向における上流側に、該基板の下方端外から上方端に
向かって移動しながら該基板の上記搬送方向の全体わた
って処理液を供給可能とする副液吐出手段が設けられる
ものである（請求項５）。

【００１６】この装置によれば、基板が処理槽に搬入さ
れた後、副液吐出手段から処理液が供給されることによ
り基板が事前に処理液で濡らされ、その後、主液吐出手
段から基板に対して処理液が供給される。この場合、副
液吐出手段による基板への処理液の供給に際しては、基
板の下方端外から上方端に向かって相対的に基板と副液
吐出手段とが移動させられながら処理液が供給されるの
で、基板に供給される処理液は、該供給位置よりも基板
の下位側、つまり、既に処理液が供給された部分を流下
することとなる。そのため、副液供給手段による処理液
の供給において、未だ処理液が供給されていない部分に
処理液が流下することに起因した処理むらの発生が有効
に防止される。

【００１７】

【発明の実施の形態】本発明の第１の実施の形態につい
て図面を用いて説明する。図１は本発明に係る基板処理
装置であるエッチング装置を概略的に示している。この
図に示すように、エッチング装置１０は、区画形成され
た処理槽１２を有しており、この処理槽１２の内部に、
矩形の基板Ｗを搬送するための搬送機構１６と、基板表
面にエッチング液を吹き付けるためのノズルとを備えて
いる。

【００１８】上記処理槽１２には、その側面に基板の導
入口１４ａ（開口部）及び導出口１４ｂが設けられてお
り、これら導入口１４ａ及び導出口１４ｂを介して処理
槽１２の内部が隣設された処理槽１１，１３の内部に連
通している。つまり、処理槽１１での処理を終えた基板
Ｗが導入口１４ａを介して処理槽１２に搬入され、ここ
でエッチング処理が施された後、上記導出口１４ｂを介
して処理槽１３に搬出されるようになっている。なお、
図示を省略するが、導入口１４ａ，導出口１４ｂには、
それぞれシャッターが設けられており、処理中は、該シ
ャッターにより導入口１４ａ，導出口１４ｂが閉じられ
ることにより、処理槽１２内が密閉されるようになって
いる。

【００１９】上記搬送機構１６は、ローラコンベアであ
って、搬送方向に並列に軸支される搬送ローラ１８…
と、モータを駆動源としてこれらの搬送ローラ１８…を
同期して回転させる駆動機構（図示せず）とを備えてい
る。そして、上記導入口１４ａを介して導入される基板
Ｗを受取り、この基板Ｗを搬送ローラ１８…で支持しな
がら処理槽１３に向けて図中白抜き矢印で示す方向へ搬
送するように構成されている。

【００２０】搬送ローラ１８の回転軸は、図２に示すよ
うに、水平面に対して角度θ₁だけ傾斜して設けられて
おり、これにより基板Ｗが水平面に対して角度θ₁をな
す基板姿勢方向Ｄに傾斜した状態で搬送方向（同図の紙
面に対して垂直な方向）に搬送されるようになってい
る。ここで、基板姿勢方向Ｄと搬送方向との関係をより
詳しく説明すると、本実施形態では、基板姿勢方向Ｄと
直交する方向のうち水平面と平行な方向が搬送方向とな
っている。

【００２１】上記ノズルとしては、処理中に基板Ｗにエ
ッチング液を吹き付けるシャワーノズル２０（主液吐出
手段）と、処理槽１２への搬入中に事前に基板Ｗにエッ
チング液を吹き付けるスリットノズル２２（副液吐出手
段）とが設けられている。

【００２２】シャワーノズル２０は、図２及び図３に示
すように、基板Ｗと平行に、上記基板姿勢方向Ｄ（以
下、傾斜方向という）に延びる円筒形のタンク１９の下
部に一列に並べて複数設けられており、図示の例では、
搬送方向に等間隔で５つのタンク１９が配設されること
により、複数のシャワーノズル２０が基板Ｗに対向して
平面的に、かつ規則的に配設されている。各タンク１９
は、液供給管２１を介して図外のエッチング液貯留用タ
ンクに接続されており、処理時には、液供給管２１に介
設されたバルブの開操作に応じて上記各タンク１９にエ
ッチング液が圧送され、これにより各シャワーノズル２
０からエッチング液が吐出されて、所定の処理位置にセ
ットされた基板表面の全体に対して均等にエッチング液
が吹き付けられるようになっている。

【００２３】上記スリットノズル２２は、図２に示すよ
うに、上記開口部１４ａの近傍において、上記搬送機構
１６の上方に基板表面と平行に配設されており、液供給
管２３を介して上記エッチング液貯留用タンクに接続さ
れている。そして、液供給管２３に介設されたバルブの
開操作に応じて、エッチング液貯留用タンクから圧送さ
れるエッチング液をカーテン状に吐出するようになって
いる。

【００２４】スリットノズル２２は、図３に示すように
基板Ｗの傾斜方向に対して角度をなす状態、詳しくは、
基板Ｗの傾斜方向における上方端部が下方端部よりも搬
送方向における下流側に位置するように傾斜方向に対し
て角度θ₂をなして配設されている。また、吐出流が基
板Ｗへの垂線方向よりも搬送方向における下流側に向く
ように、スリットノズル２２が図４に示すように、搬送
中の基板表面に対して角度θ₃をなして設けられてい
る。なお、本実施形態においては、後記処理むらの発生
を良好に防止できる一態様として、例えば上記角度θ₂
が７°に設定されるとともに、角度θ₃が２０°に設定
されている。

【００２５】なお、図１中、符号２４は、搬送機構１６
の下方に設けられたドレンパンで、各ノズル２０，２２
から吐出されて処理に供されたエッチング液がこのドレ
ンパン２４に捕集されながら、排液管２６を介して図外
の廃液タンクに導出されるようになっている。

【００２６】以上のようなエッチング装置１０におい
て、前工程である処理槽１１での基板Ｗの処理が終了す
ると、上記導入口１４ａが開かれて基板Ｗが処理槽１２
内に搬入される。基板Ｗの搬入に際しては、搬送機構１
６が高速で駆動されることにより速やかに基板Ｗが処理
槽１２内に搬入される。また、上記スリットノズル２２
からエッチング液が吐出され、これにより搬入される基
板Ｗに対してエッチング液が吹き付けられる。なお、基
板Ｗの搬入中は、シャワーノズル２０によるエッチング
液の供給は停止されている。

【００２７】そして、基板Ｗが完全に処理槽１２内に搬
入されると上記導入口１４ａが閉じられ、次いで、基板
Ｗがシャワーノズル２０に対向する所定の処理位置にセ
ットされると、上記スリットノズル２２からのエッチン
グ液の供給が停止される一方、上記シャワーノズル２０
からのエッチング液の供給が開始される。これにより基
板Ｗのエッチング処理が開始される。

【００２８】こうして一定時間だけ基板Ｗに対してエッ
チング液が吹き付けられると、シャワーノズル２０によ
るエッチング液の供給が停止される。そして、上記導出
口１４ｂが開かれ、基板Ｗがこの導出口１４ｂを介して
次工程である処理槽１３に搬出されることにより、処理
槽１２での当該基板Ｗのエッチング処理が終了する。

【００２９】以上のようなエッチング装置１０によれ
ば、上述のようにシャワーノズル２０によるエッチング
液の供給を停止させた状態で基板Ｗを処理槽１２に搬入
するため、基板Ｗの搬入中に導入口１４ａを介してエッ
チング液のミストが隣設された処理槽１１に浸入するこ
とがない。

【００３０】しかも、スリットノズル２２により搬入中
の基板Ｗにエッチング液を吹き付けて基板Ｗを濡らし、
これによりシャワーノズル２０からのエッチング液の供
給による本来のエッチング処理前に基板Ｗの処理を適度
に開始させるようにしているので、本来の処理が開始さ
れるまでに、シャワーノズル２０内に残っている液滴が
落下したり、あるいは処理槽１２の天井部分で液滴化し
たミストが落下して基板に付着するような場合であって
も、このような液滴の付着に起因して処理むらが発生す
ることがない。

【００３１】特に、上述のように基板Ｗの傾斜方向にお
ける上方端部が下方端部よりも搬送方向における下流側
に位置するようにスリットノズル２２が搬送方向に対し
て角度θ₂だけ傾斜した状態で配設されているため、搬
入中の基板Ｗに対するエッチング液の吹き付けに際して
は、図５に示すように、基板Ｗに吹き付けられるエッチ
ング液が、該吹き付け位置（図中符号Ｌで示す位置）よ
りも搬送方向における下流側、つまり、既にエッチング
液が吹き付けられた部分（同図の斜線で示す部分）を流
下することとなる。そのため、例えば、傾斜方向と平行
なスリットノズルを設けた構成のように、吹き付けられ
たエッチング液が、エッチング液の吹き付け位置よりも
搬送方向における上流側、つまり、未だエッチング液が
吹き付けられていない部分をすじ状に流下するようなこ
とがない。従って、このようなエッチング液の未供給部
分でのエッチング液の流下に起因した処理むらの発生が
有効に防止され、これによりエッチング処理の面内均一
性が良好に確保される。

【００３２】なお、このような搬送中のエッチング液の
供給に際しては、吐出流が基板Ｗへの垂線方向よりも搬
送方向における下流側に向くようにスリットノズル２２
が基板表面に対して角度θ₃だけ傾斜した状態で配設さ
れているので、シャワーノズル２０から吐出されたエッ
チング液やそのミストが導入口１４ａを介して隣設され
処理槽１１に侵入することがない。

【００３３】ところで、上記エッチング装置１０では、
吐出流が基板Ｗへの垂線方向よりも搬送方向における下
流側に向くように、搬送中の基板表面に対してスリット
ノズル２２が角度θ₃だけ傾斜した状態で設けられてい
るが、吐出流が基板Ｗへの垂線方向に向くようにスリッ
トノズル２２を設けるようにしてもよい。但し、この場
合には、基板Ｗに吹き付けられるエッチング液の液圧に
よっては上記吹き付け位置Ｌよりも搬送方向における上
流側にエッチング液が流下し易くなる場合があるので、
隣設された処理槽１１へのエッチング液のミスト浸入を
確実に防止し、また、基板Ｗに吹き付けたエッチング液
を、確実に上記吹き付け位置Ｌよりも搬送方向における
下流側に流下させるといった観点からは、吐出流が基板
Ｗへの垂線方向よりも搬送方向における下流側に向くよ
うにスリットノズル２２を設けるのが望ましい。

【００３４】また、上記エッチング装置１０では、スリ
ットノズル２２を用いてエッチング液を基板Ｗに吹き付
けるようにしているが、単孔からエッチング液を吐出す
るスポット状ノズルや、集結配置した多数の孔からエッ
チング液を吐出するシャワー状ノズル等、上記スリット
ノズル２２以外のノズルを用いて基板Ｗにエッチング液
を吹き付けるようにしてもよい。この場合には、複数の
スポット状ノズル等を基板Ｗの傾斜方向にわたって並べ
て配設するようにすればよい。

【００３５】なお、基板Ｗを搬送する際の基板Ｗの傾斜
角度θ₁、基板Ｗの傾斜方向に対するスリットノズル２
２の傾斜角度θ₂及び基板Ｗに対するスリットノズル２
２の傾斜角度θ₃の具体的な値は上記実施形態に限定さ
れるものではなく、具体的な基板Ｗの種類、エッチング
液の種類、その他の諸条件に応じて基板Ｗの洗浄がより
良好に行われ得るように適宜選定するようにすればよ
い。但し、基板Ｗの傾斜角度に対するスリットノズル２
２の傾斜角度θ₂については０°＜θ₂≦４５°の範囲、
基板表面に対するノズル２２の傾斜角度θ₃については
０°＜θ₃≦３０°の範囲で設定するのが好ましい。こ
の場合、特に、基板Ｗの傾斜角度に対するスリットノズ
ル２２の上記傾斜角度θ₂の設定については、スリット
ノズル２２と搬送ローラ１８との位置関係をも考慮して
設定する必要がある。具体的には、スリットノズル２２
の液吐出口が一対の搬送ローラ１８間に介設され、スリ
ットノズル２２から吐出されるエッチング液が搬送ロー
ラ１８に当ることなくドレンパン２４内に流下し得るよ
うな範囲で上記傾斜角度θ₂を設定するのが望ましい。
すなわち、スリットノズル２２は上述の通り導入口１４
ａの近傍に配設されるため、スリットノズル２２から吐
出されるエッチング液が搬送ローラ１８に当って飛び散
ると、これによりエッチング液のミストが発生して導入
口１４ａを介して隣の処理槽１２に浸入する虞れがあ
る。この点、上記傾斜角度θ₂をあまり大きく設定する
と、スリットノズル２２が搬送ローラ１８の上方を横切
る配置となり、吐出されるエッチング液が搬送ローラ１
８に当り易くなる。従って、エッチング液のミストの発
生を防止する観点からは、上述のように、スリットノズ
ル２２と搬送ローラ１８の位置関係等を考慮してスリッ
トノズル２２の上記傾斜角度θ₂を設定する必要があ
る。なお、上記傾斜角度θ₂の上限角度は、搬送ローラ
１８の配置によって異なるが、スリットノズル２２から
のエッチング液が搬送ローラ１８に当らない角度とすれ
ばよい。

【００３６】次に、本発明の第２の実施の形態について
図面を用いて説明する。図６及び図７は、本発明の基板
処理装置の第２の実施の実施の形態であるエッチング装
置を概略的に示している。なお、この図に示すエッチン
グ装置１０′の基本構成は、上記第１の実施の形態のエ
ッチング装置１０と共通するため、共通箇所については
同一の符号を付して説明を省略し、以下、相違点につい
てのみ説明することとする。

【００３７】このエッチング装置１０′の処理槽１２内
には、上記スリットノズル２２に代えて、同図に示すよ
うに、搬送方向に延びるスリットノズル３０が設けら
れ、シャワーノズル２０による本来のエッチング処理前
に、このスリットノズル３０によって基板Ｗにエッチン
グ液が供給されるようになっている。

【００３８】スリットノズル３０は、少なくとも基板Ｗ
の搬送方向の寸法よりも長く設けられており、基板Ｗの
下方側に向かってエッチング液を吹き付けるように、基
板Ｗへの垂線方向に対して基板Ｗの下方側に角度をなし
た状態で搬送機構１６の上方に配置されている。また、
エアシリンダ等を駆動源とする図外の移動機構に接続さ
れ、これにより図７に示すように、搬送機構１６に支持
された基板Ｗの表面に沿って傾斜方向に移動し得るよう
に構成されている。

【００３９】以上のようなエッチング装置１０′におい
て、前工程である処理槽１１での基板Ｗの処理が終了す
ると、上記導入口１４ａが開かれて基板Ｗが処理槽１２
内に搬入され、基板Ｗがスリットノズル３０による所定
の液供給位置（図６に示す位置）にセットされてから上
記導入口１４ａが閉じられる。この際、各ノズル２０，
３０からのエッチング液の供給は停止されており、ま
た、スリットノズル３０は、基板Ｗの下方位置外側の退
避位置にセットされている。

【００４０】基板Ｗが液供給位置にセットされると、上
記スリットノズル３０からのエッチング液の供給が開始
されるとともに、上記退避位置から基板Ｗの上方側に向
かってスリットノズル３０が移動させられる。これによ
り、基板Ｗの表面にエッチング液が吹き付けられること
となる。なお、スリットノズル３０の移動は高速で行わ
れ、これにより基板Ｗの全体に速やかにエッチング液が
吹き付けられる。

【００４１】こうしてスリットノズル３０が基板Ｗの上
方端部より外側の退避位置に達すると、スリットノズル
３０からのエッチング液の供給が停止されるとともに、
上記搬送機構１６の駆動により基板Ｗが上記処理位置に
セットされる。

【００４２】そして、以後、上記第１の実施の形態のエ
ッチング装置１０同様に、一定時間だけシャワーノズル
２０により基板Ｗにエッチング液が吹き付けられた後、
基板Ｗが導出口１４ｂを介して次工程である処理槽１３
に搬出されて当該基板Ｗのエッチング処理が終了する。

【００４３】以上のようなエッチング装置１０によれ
ば、上述のようにエッチング液の供給を停止させた状態
で基板Ｗを処理槽１２に搬入するため、基板Ｗの搬入中
に導入口１４ａを介してエッチング液のミストが隣設さ
れた処理槽１１に浸入することがない。

【００４４】また、搬入された基板Ｗに対して、まず、
スリットノズル３０によりエッチング液を吹き付けて基
板Ｗをエッチング液で濡らし、これにより基板Ｗのエッ
チング処理を適度に開始させた後に、上記処理位置に基
板Ｗを移動させるので、本来のエッチング処理前に、シ
ャワーノズル２０内に残っている液滴が落下して基板に
付着した場合であっても、このような液滴の付着に起因
した処理むらの発生を有効に防止することができる。こ
の場合、上記エッチング装置１０′では、上述のように
基板Ｗの下方側から上方側に向かってスリットノズル３
０を移動させながらエッチング液を吹き付けるので、基
板Ｗに吹き付けられるエッチング液は、既にエッチング
液が吹き付けられた部分、つまりスリットノズル２２に
よるエッチング液の吹き付け位置より下方側に流下する
こととなる。従って、未だエッチング液が吹き付けられ
ていない部分にエッチング液がすじ状に流下するような
ことがなく、このような未供給部分でのエッチング液の
流下による処理むらの発生を有効に防止することができ
る。

【００４５】なお、上記エッチング装置１０′では、基
板Ｗの下方位置に向かってエッチング液を吹き付け得る
ように、基板Ｗへの垂線方向に対して基板Ｗの下方側に
角度をなした状態でスリットノズル３０が搬送機構１６
の上方に配置されているが、基板Ｗの吹き付け方向は、
基板Ｗへの垂線方向であってもよい。但し、この場合に
は、基板Ｗに吹き付けたエッチング液の液圧によっては
吹き付け位置よりも上方側にエッチング液が押し上げら
れることが考えられるので、確実に吹き付け位置よりも
下方側にエッチング液を流下させるといった観点から
は、基板Ｗへの垂線方向よりも下方側に向かってエッチ
ング液を吐出させるようにするのが望ましい。

【００４６】また、上記エッチング装置１０′では、ス
リットノズル３０を移動させつつ基板Ｗにエッチング液
を吹き付けるようにしているが、逆に、スリットノズル
３０を固定的に設けて基板Ｗを移動させながらエッチン
グ液を吹き付けるようにしてもよい。

【００４７】さらに、上記エッチング装置１０′では、
スリットノズル３０を用いてエッチング液を基板Ｗに吹
き付けるようにしているが、単孔からエッチング液を吐
出するスポット状ノズルや、集結配置した多数の孔から
エッチング液を吐出するシャワー状ノズル等、上記スリ
ットノズル３０以外のノズルを用いて基板Ｗにエッチン
グ液を吹き付けるようにしてもよい。この場合には、複
数のスポット状ノズル等を基板Ｗの傾斜方向にわたって
並べて配設し、これらを一体に移動させるようにすれば
よい。

【００４８】ところで、上記各実施形態は、本願発明を
エッチング装置に適用した例であるが、本願発明は、こ
のようなエッチング装置以外にも、現像処理、エッチン
グ処理あるいは洗浄処理等の各処理装置にも適用するこ
とができる。また、上記エッチング装置１０，１０′の
ように基板Ｗを水平面に対して傾けた状態で搬送しなが
ら処理を施す装置以外に、表面が搬送方向と平行、かつ
鉛直となるように起立させた状態で基板Ｗに処理を施す
装置にも適用することができる。

【００４９】

【発明の効果】以上説明したように、本発明は、処理槽
内に主液吐出手段と副液吐出手段とを設け、水平面に対
して所定の角度をなす基板姿勢方向に傾斜あるいは起立
させた基板を搬送しつつ処理槽内に導入して処理を施す
基板処理装置において、上記副液吐出手段が基板に対向
配置されるとともに、基板姿勢方向における上方端部が
下方端部よりも上記搬送方向における下流側に位置する
ように、上記搬送方向に対して角度をなすように配置さ
れ、副液吐出手段による基板への事前の処理液の供給に
際しては、基板に供給される処理液が、該供給位置より
も搬送方向における下流側、つまり、既に処理液が供給
された部分に流下し、該供給位置よりも搬送方向におけ
る上流側、つまり、未だ処理液が供給されていない部分
に流下することがないようになっているので、副液吐出
手段による事前の処理液の供給に際して、処理むらの発
生を有効に防止することができる。そのため、処理の面
内均一性を良好に確保することができる。

【００５０】特に、このような装置においては、上記搬
送方向における下流側に向かって処理液を吐出するよう
に基板表面に対して角度をなした状態で副液吐出手段を
設けるようにすれば、副液吐出手段によって基板に供給
した処理液をより良好に搬送方向における下流側に流下
させることが可能となる。

【００５１】また、副液吐出手段として、基板姿勢方向
にカーテン状に処理液を吐出するものを用いるようにす
れば、基板姿勢方向にむら無く処理液を供給することが
できるため、処理むらの発生をより有効に防止すること
が可能となる。

【００５２】また、本発明は、処理槽の内部に、処理中
に基板に対して処理液を供給する主液吐出手段を備え、
水平面に対して所定の角度をなす基板姿勢方向に傾斜あ
るいは起立させた基板を搬送しつつ処理槽内に導入して
処理を施す基板処理装置において、主液吐出手段よりも
上流側に搬入された基板に事前に処理液を供給する副液
吐出手段を設け、基板の下方端外から上方端に向かって
相対的に基板と副液吐出手段とを移動させながら基板に
事前に処理液を供給するようにしたので、副液吐出手段
による事前の処理液の供給に際して、処理むらの発生を
有効に防止することができる。そのため、処理の面内均
一性を良好に確保することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る基板処理装置（第１の実施の形
態）であるエッチング装置を示す概略図である。

【図２】搬送機構の構成を示す断面図である。

【図３】搬送機構とスリットノズル及びシャワーノズル
との関係を示す平面図である。

【図４】基板とスリットノズルとの関係を示す側面図で
ある。

【図５】スリットノズルにより基板に吹き付けられた処
理液の流れを説明する模式図である。

【図６】本発明に係る基板処理装置（第２の実施の形
態）であるエッチング装置を示す平面略図である。

【図７】図６のエッチング装置におけるスリットノズル
の移動方向を説明する断面図である。

【図８】従来のエッチング装置の一例を示す要部断面略
図である。

【図９】従来のエッチング装置における基板に供給され
た処理液の流れを説明する模式図である。

【符号の説明】

１０エッチング装置１１，１２，１３処理槽１４ａ導入口１４ｂ導出口１６搬送機構１８搬送ローラ１９タンク２０シャワーノズル（主液吐出手段）２２スリットノズル（副液吐出手段）Ｗ基板

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】処理槽の内部に、処理中に基板に対して
処理液を供給する主液吐出手段と、処理槽の入口近傍に
配設され、該処理槽への基板の搬入中に基板に処理液を
供給する副液吐出手段とを備え、水平面に対して所定の
角度をなす基板姿勢方向に傾斜あるいは起立させた基板
を、該基板姿勢のまま、前記水平面と平行で、かつ前記
基板姿勢方向と直交する方向に搬送しつつ上記入口を介
して処理槽内に導入して処理を施す基板処理装置におい
て、上記副液吐出手段は、上記基板に対向配置されると
ともに、上記基板姿勢方向における上方端部が下方端部
よりも上記搬送方向における下流側に位置するように、
上記搬送方向に対して角度をなすように配置されている
ことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】上記副液吐出手段は、上記搬送方向にお
ける下流側に向かって処理液を吐出するように基板表面
に対して角度をなして設けられていることを特徴とする
請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】副液吐出手段の基板表面に対する上記角
度が３０°以下に設定されていることを特徴とする請求
項２記載の基板処理装置。
【請求項４】上記副液吐出手段は、基板姿勢方向にカ
ーテン状に処理液を吐出するものであることを特徴とす
る請求項１乃至３のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項５】処理槽の内部に、処理中に基板に対して
処理液を供給する主液吐出手段を備え、水平面に対して
所定の角度をなす基板姿勢方向に傾斜あるいは起立させ
た基板を、該基板姿勢のまま、前記水平面に平行で、か
つ前記基板姿勢方向と直交する方向に搬送しつつ上記入
口を介して処理槽内に導入して処理を施す基板処理装置
において、上記処理槽内であって上記主液吐出手段より
も上記搬送方向における上流側に、該基板の下方端外か
ら上方端に向かって相対的に移動しながら該基板の上記
搬送方向の全体わたって処理液を供給可能とする副液供
給手段が設けられていることを特徴とする基板処理装
置。