JP5785454B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
2 第1処理液吐出ノズル
4 第2処理液吐出ノズル
5 処理液回収部
6 貯留槽
7 ポンプ
8 管路
9 搬送ローラ
10 管路
21 第1処理液吐出口
41 第2処理液吐出口
42 処理液保持面
43 凹部
91 搬送ローラ
100 ガラス基板
Claims (4)
- 基板をその主面が略水平方向となる状態で支持するとともに、その基板を略水平方向に搬送する複数の搬送ローラと、
下方を向く第1の処理液吐出口が前記複数の搬送ローラによる基板の搬送方向と交差する方向に延設されるとともに、前記第1の処理液吐出口と前記複数の搬送ローラにより搬送される基板の表面との距離が、それらの間が前記第1の処理液吐出口より吐出された処理液の液膜により液密状態となる位置に配置された第1処理液吐出ノズルと、
上方を向く第2の処理液吐出口が前記複数の搬送ローラによる基板の搬送方向と交差する方向に延設されるとともに、第1の処理液吐出口と対向する位置に処理液の液溜まりを保持する処理液保持面を備え、前記第1の処理液吐出口と前記処理液保持面との距離が、それらの間に処理液の液溜まりを形成可能となる位置に配置されるとともに、前記複数の搬送ローラにより搬送される基板の裏面と前記処理液保持面との距離が、それらの間が前記第2の処理液吐出口より吐出された処理液の液膜により液密状態となる位置に配置された第2処理液吐出ノズルと、
前記第1処理液吐出ノズルおよび前記第2処理液吐出ノズルに供給する処理液を貯留する処理液貯留部と、
前記第1処理液吐出ノズルおよび前記第2処理液吐出ノズルの下方に配置された処理液回収部と、
前記処理液回収部に回収された処理液を前記処理液貯留部に送液する送液手段と、
を備え、
前記複数の搬送ローラのうち、少なくとも、前記複数の搬送ローラによる基板の搬送方向に対して前記第1処理液吐出ノズルおよび前記第2処理液吐出ノズルよりも下流側に配設された複数の搬送ローラは、それぞれ基板の搬送方向と直交する方向を向く軸を中心に回転可能であり、かつ、基板の搬送方向と直交する方向の大きさが比較的小さい円盤形状を有しており、基板の搬送方向と直交する方向において全体として千鳥状に配置されることにより、基板の裏面との接触時間が、基板の裏面全域において略同一となることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置において、
前記第1処理液吐出口および前記第2処理液吐出口は、前記複数の搬送ローラによる基板の搬送方向と交差する方向に列設された多数の穴から構成される基板処理装置。 - 請求項1または請求項2に記載の基板処理装置において、
前記第2処理液吐出ノズルの表面には、液溜まり保持用の凹部が形成されるとともに、前記第2処理液吐出口は、前記凹部内に形成される基板処理装置。 - 請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記処理液はフッ酸である基板処理装置。
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