JP5785454B2

JP5785454B2 - 基板処理装置

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Publication number: JP5785454B2
Application number: JP2011166810A
Authority: JP
Inventors: 和男上代; 典生芳川
Original assignee: Screen Holdings Co Ltd
Current assignee: Screen Holdings Co Ltd
Priority date: 2011-07-29
Filing date: 2011-07-29
Publication date: 2015-09-30
Anticipated expiration: 2031-07-29
Also published as: JP2013027831A

Description

この発明は、ＬＣＤ（液晶表示装置）やＰＤＰ（プラズマディスプレイ）等のＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）用ガラス基板、有機ＥＬ用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板、半導体ウエハ、太陽電池および電子ペーパ用フィルム基板等の基板を処理液により処理する基板処理装置に関する。

例えば、ＬＣＤの製造時には、アモルファスシリコン層をガラス基板上に形成し、このシリコン層表面の自然酸化膜をエッチング処理し、洗浄および乾燥処理をした後に、レーザーを照射してアモルファスシリコン層を溶融再結晶化している。このとき、エッチング工程等においては、従来、基板を水平に支持した状態で垂直軸まわりを回転させながら、その表面に順次エッチング液を供給して、基板の表面をエッチング処理する構成が採用されている。また、エッチング処理後の基板は強い撥水性を有することから、エッチング後の基板を低速回転させながら洗浄液を供給し、基板全面にその表面張力で洗浄液の液膜を形成した状態で洗浄処理を施し、しかる後、基板を高速回転させて洗浄液を除去する構成が採用されている（特許文献１参照）。

しかしながら、近年の被処理基板の大型化により、特許文献１に記載された発明のように、基板を回転させながらエッチング処理を行うことは困難となっている。このため、基板を水平方向に搬送しながら、基板の表面に対してエッチング液等の処理液を供給して、基板を処理することが提案されている。

すなわち、基板を複数の搬送ローラにより水平方向に向けて搬送しながら、基板の表面と対向配置されたスリットノズルやスプレーノズルから基板の表面に処理液を供給することにより、基板を処理液により処理することが考えられる。しかしながら、基板の表面が強い撥液性（撥水性）を有する場合には、処理液が基板の表面ではじかれてしまい、基板の表面全域に処理液を供給できないという問題が発生する。

特に、処理液としてエッチング液を使用したエッチング処理においては、エッチング処理を開始した後に基板の表面が強い撥液性となり、処理液としてのエッチング液が基板の表面ではじかれることになる。このため、極めて多量の処理液を基板の表面に供給することで、基板表面の全域に処理液を行き渡らせることも考えられるが、この場合には、極めて多量の処理液を消費するという問題が生ずる。

このため、本出願人は、ガラス基板を水平方向に搬送する搬送ローラと、処理液吐出口が形成されこの処理液吐出口とガラス基板の表面との間が処理液の液膜により液密状態となる位置に配置された処理液吐出ノズルと、処理液保持面を備え処理液吐出口と処理液保持面との間に処理液の液溜まりを形成可能となる位置に配置された液溜まり保持部材と、ガラス基板の裏面に洗浄液を供給する裏面洗浄部とを備えた基板処理装置を提案している(特許文献２参照)。この基板処理装置によれば、処理液吐出ノズルと液溜まり保持部材との間に形成された液溜まりの作用により、多量の処理液を消費することなく、基板の表面全域に有効に処理液を供給することが可能となる。

特開２００３−１７４６１号公報特開２０１０−２１９１８７号公報

上述した特許文献２に記載の発明によれば、多量の処理液を消費することなく基板の表面全域に有効に処理液を供給することが可能となるが、処理液吐出口と処理液保持面との間に形成された処理液の液溜まり中に基板が進入したときに、基板の裏面側に少量の処理液が部分的に回り込む現象が発生する。そして、この処理液が搬送ローラに再付着した場合には、その搬送ローラにより搬送される基板の裏面が不均一に処理される。このとき、処理液として、例えば、フッ酸（フッ化水素酸／ＨＦ）が使用された場合には、基板の裏面が不均一にエッチングされ、目視で確認されるムラが生ずる場合もある。

このため、特許文献２に記載の発明においては、ガラス基板の裏面に洗浄液を供給する裏面洗浄部により基板の裏面側に回り込んだ処理液を除去することで、このような問題の発生を防止している。

しかしながら、基板の裏面に洗浄液を供給する構成を採用した場合には、基板の表面に供給し、基板の表面等から滴下した処理液を再利用しようとしても、この処理液が洗浄液により希釈されることから、処理液の再利用ができないという問題が生ずる。

この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、多量の処理液を消費することなく基板の表面全域に有効に処理液を供給することが可能であり、さらに、処理液を回収して再利用することが可能な基板処理装置を提供することを目的とする。

請求項１に記載の発明は、基板をその主面が略水平方向となる状態で支持するとともに、その基板を略水平方向に搬送する複数の搬送ローラと、下方を向く第１の処理液吐出口が前記複数の搬送ローラによる基板の搬送方向と交差する方向に延設されるとともに、前記第１の処理液吐出口と前記複数の搬送ローラにより搬送される基板の表面との距離が、それらの間が前記第１の処理液吐出口より吐出された処理液の液膜により液密状態となる位置に配置された第１処理液吐出ノズルと、上方を向く第２の処理液吐出口が前記複数の搬送ローラによる基板の搬送方向と交差する方向に延設されるとともに、第１の処理液吐出口と対向する位置に処理液の液溜まりを保持する処理液保持面を備え、前記第１の処理液吐出口と前記処理液保持面との距離が、それらの間に処理液の液溜まりを形成可能となる位置に配置されるとともに、前記複数の搬送ローラにより搬送される基板の裏面と前記処理液保持面との距離が、それらの間が前記第２の処理液吐出口より吐出された処理液の液膜により液密状態となる位置に配置された第２処理液吐出ノズルと、前記第１処理液吐出ノズルおよび前記第２処理液吐出ノズルに供給する処理液を貯留する処理液貯留部と、前記第１処理液吐出ノズルおよび前記第２処理液吐出ノズルの下方に配置された処理液回収部と、前記処理液回収部に回収された処理液を前記処理液貯留部に送液する送液手段と、を備え、前記複数の搬送ローラのうち、少なくとも、前記複数の搬送ローラによる基板の搬送方向に対して前記第１処理液吐出ノズルおよび前記第２処理液吐出ノズルよりも下流側に配設された複数の搬送ローラは、それぞれ基板の搬送方向と直交する方向を向く軸を中心に回転可能であり、かつ、基板の搬送方向と直交する方向の大きさが比較的小さい円盤形状を有しており、基板の搬送方向と直交する方向において全体として千鳥状に配置されることにより、基板の裏面との接触時間が、基板の裏面全域において略同一となることを特徴とする。

請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記第１処理液吐出口および前記第２処理液吐出口は、前記複数の搬送ローラによる基板の搬送方向と交差する方向に列設された多数の穴から構成される。

請求項３に記載の発明は、請求項１または請求項２に記載の発明において、前記第２処理液吐出ノズルの表面には、液溜まり保持用の凹部が形成されるとともに、前記第２処理液吐出口は、前記凹部内に形成される。

請求項４に記載の発明は、請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の発明において、前記処理液はフッ酸である。

請求項１に記載の発明によれば、多量の処理液を消費することなく基板の表面全域に有効に処理液を供給することが可能であり、さらに、処理液を回収して再利用することが可能となる。このとき、円盤形状を有し千鳥状に配置された搬送ローラを利用して、当該搬送ローラと基板の裏面との接触時間を基板の裏面全域において略同一とすることにより、基板の裏面にエッチングムラが生ずることを有効に防止することが可能となる。

請求項２に記載の発明によれば基板の搬送方向と交差する方向に列設された複数の第１、第２処理液吐出口から、基板の両面全域に処理液を供給することが可能となる。

請求項３に記載の発明によれば、第２処理液吐出ノズルの表面に形成された凹部の作用により、処理液の液溜まりを容易に形成することが可能となる。

請求項４に記載の発明によれば、フッ酸により生ずる基板裏面のエッチングムラを有効に防止することが可能となる。

この発明に係る基板処理装置の側面概要図である。搬送ローラ９と第１処理液吐出ノズル２との配置を示す平面図である。塗布ユニット１を拡大して示す側面図である。第１処理液吐出ノズル２の下面図である。第２処理液吐出ノズル４の概要を示す図である。第１処理液吐出ノズル２および第２処理液吐出ノズル４への処理液の供給機構を示す概要図である。この発明に係る基板処理装置によるガラス基板１００の処理動作を示す説明図である。この発明に係る基板処理装置によるガラス基板１００の処理動作を示す説明図である。この発明に係る基板処理装置によるガラス基板１００の処理動作を示す説明図である。他の実施形態に係る搬送ローラ９１と第１処理液吐出ノズル２との配置を示す平面図である。

以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図１は、この発明に係る基板処理装置の側面概要図である。また、図２は、その搬送ローラ９と第１処理液吐出ノズル２との配置を示す平面図である。さらに、図３は、塗布ユニット１を拡大して示す側面図である。

この基板処理装置は、アモルファスシリコン層がその表面に形成されたガラス基板１００に対してレーザーアニールを行う前に、シリコン層表面に形成された酸化膜のエッチングを行うためのものである。この基板処理装置は、ガラス基板１００をその主面が水平方向となる状態で支持するとともに、このガラス基板１００を水平方向に搬送する複数の搬送ローラ９と、２個の塗布ユニット１ａ、１ｂ（これらを総称するときには「塗布ユニット１」という）を備える。

各塗布ユニット１は、複数の搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の表面に処理液を供給するための第１処理液吐出ノズル２と、この第１処理液吐出ノズル２との間に処理液の液溜まりを形成するとともに、複数の搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の裏面に処理液を供給するための第２処理液吐出ノズル４とを備える。搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００に対し、このような構成を有する２個の塗布ユニット１ａ、１ｂの作用により、その表面および裏面への処理液の塗布が、繰り返し実行される。

なお、この基板処理装置においては、ガラス基板１００を搬送する各搬送ローラ９は、各搬送ローラ９とガラス基板１００の裏面との接触時間が、ガラス基板１００の裏面全域において同一となるように、ガラス基板１００の裏面全域に当接する長尺で丸棒形状を有している。

最初に、塗布ユニット１における第１処理液吐出ノズル２の構成について説明する。図４は、第１処理液吐出ノズル２の下面図である。

この第１処理液吐出ノズル２は、ガラス基板１００の表面に処理液を塗布するためのものであり、搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００と対向する下面に、多数の第１処理液吐出口２１が形成された構成を有する。これらの第１処理液吐出口２１は、搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の搬送方向と直交する方向に列設されている。この第１処理液吐出口２１は、例えば、０．５ｍｍ程度の直径を有し、第１処理液吐出ノズル２の長手方向（搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の搬送方向と直交する方向）に、５ｍｍ乃至１０ｍｍ程度のピッチで形成されている。この第１処理液吐出口２１は、ガラス基板１００の幅方向（搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の搬送方向と直交する方向）全域にわたって設けられている。

ガラス基板１００の処理時には、後述するように、この第１処理液吐出口２１から処理液が吐出され、ガラス基板１００の表面に供給される。このとき、後述するように、第１処理液吐出口２１と搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の表面との距離は、それらの間が第１処理液吐出口２１より吐出された処理液の液膜により液密状態となるようにする必要があることから、できるだけ小さいことが好ましい。一方、第１処理液吐出口２１と搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の表面との距離を過度に小さくすると、ガラス基板１００と第１処理液吐出ノズル２とが衝突するおそれがある。ガラス基板１００と第１処理液吐出ノズル２との衝突を回避しながら、第１処理液吐出ノズル２とガラス基板１００の表面との間を処理液の液膜により液密状態とするためには、第１処理液吐出ノズル２における第１処理液吐出口２１（すなわち、第１処理液吐出ノズル２の下面）と搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の表面との距離Ｄ１（図３参照）は、１ｍｍ乃至２ｍｍとすることが好ましい。

また、第１処理液吐出ノズル２と搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の表面との間が、第１処理液吐出口２１より吐出された処理液の液膜により液密状態となるようにするためには、第１処理液吐出ノズル２の下面の形状を、平面状とするか、あるいは、ガラス基板１００の搬送方向と鉛直方向とを含む平面による断面形状が下方が凸となる円弧状とすることが好ましい。このような形状を採用することにより、第１処理液吐出ノズル２とガラス基板１００の表面との間に処理液の液膜を形成することができ、液密状態を容易に達成することが可能となる。なお、第１処理液吐出ノズル２の下面を上述したような下方が凸となる円弧状とするためには、第１処理液吐出ノズル２を、例えば、複数の第１処理液吐出口がその下端部に形成されたパイプから構成すればよい。そして、この第１処理液吐出ノズル２の材質は、金属イオン等が溶出することがなく、処理の清浄性を確保できる、例えば、フッ素樹脂製のものを採用することが好ましい。

次に、塗布ユニット１における第２処理液吐出ノズル４の構成について説明する。図５は、第２処理液吐出ノズル４の概要を示す図であり、図５（ａ）は第２処理液吐出ノズル４の部分斜視図、また、図５（ｂ）は第２処理液吐出ノズル４の縦断面図である。

この第２処理液吐出ノズル４は、ガラス基板１００の裏面に処理液を塗布するためのものである。この第２処理液吐出ノズル４は、その上面が処理液の液溜まりを保持する処理液保持面４２となっている。そして、この処理液保持面４２には、処理液の液溜まり保持用の凹部４３が凹設されており、この凹部４３内には第２処理液吐出口４１が形成されている。

凹部４３は、処理液保持面４２に好適に処理液の液溜まりを保持するために使用される。すなわち、第２処理液吐出ノズル４の材質としては、金属イオン等が溶出することがなく、処理の清浄性を確保できる、第１処理液吐出ノズル２と同様の、例えば、フッ素樹脂製のものを採用することが好ましい。ここで、フッ素樹脂は処理液をはじく強い撥液性を有する。このため、処理液が第２処理液吐出ノズル４における処理液保持面４２から流下しやすくなる。このような流下を防止するために、処理液保持面４２には凹部４３が形成されている。なお、第２処理液吐出ノズル４の材質として塩化ビニール等の樹脂を使用する場合には、この凹部４３を省略してもよい。

図５（ａ）に示すように、この凹部４３は、第２処理液吐出ノズル４の長手方向（搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の搬送方向と直交する方向）に延びる形状を有する。この凹部４３は、ガラス基板１００の幅方向（搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の搬送方向と直交する方向）全域にわたって形成されている。そして、第２処理液吐出口４１は、凹部４３に沿って複数個列設されている。

ガラス基板１００の処理時には、後述するように、この第２処理液吐出口４１から処理液が吐出され、ガラス基板１００の裏面に供給される。このとき、後述するように、処理液保持面４２と搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の裏面との距離は、それらの間が第２処理液吐出口４１より吐出された処理液の液膜により液密状態となるようにする必要があることから、できるだけ小さいことが好ましい。また、ガラス基板１００に処理液を供給する前の段階で、後述するように、第１処理液吐出ノズル２の第１処理液吐出口２１と第２処理液吐出ノズル４の第２処理液吐出口４１から処理液が吐出され、第１処理液吐出ノズル２と第２処理液吐出口４の処理液保持面４２との間に、処理液の液溜まりを形成する必要がある。このためには、第１処理液吐出ノズル２と第２処理液吐出ノズル４の処理液保持面４２との距離は、ガラス基板１００が通過できる範囲で、できるだけ小さいことが好ましい。一方、第２処理液吐出ノズル４と搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の裏面との距離を過度に小さくすると、ガラス基板１００と第２処理液吐出ノズル４とが衝突するおそれがある。ガラス基板１００と第２処理液吐出ノズル４との衝突を回避しながら、第２処理液吐出ノズル４の処理液保持面４２とガラス基板１００の裏面との間を処理液の液膜により液密状態とするためには、第２処理液吐出ノズル４における処理液保持面４２と搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の裏面との距離Ｄ２（図３参照）は、１ｍｍ乃至２ｍｍとすることが好ましい。

なお、第１処理液吐出ノズル２と第２処理液吐出ノズル４の処理液保持面４２との間に形成される処理液の液溜まりは、第１処理液吐出ノズル２と第２処理液吐出ノズル４の処理液保持面４２との間の全域に形成される必要はない。例えば、第１処理液吐出ノズル２の長手方向におけるところどころの領域で、部分的に液溜まりが形成されない領域が存在してもよい。第１処理液吐出ノズル２と第２処理液吐出ノズル４の処理液保持面４２との間の一定の領域に液溜まりが形成されれば、搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の先端部が液溜まりに進入するときに、第１処理液吐出ノズル２と第２処理液吐出ノズル４の処理液保持面４２との間の一定の領域に形成された液溜まりを、第１処理液吐出ノズル２と第２処理液吐出ノズル４の処理液保持面４２との間の全領域に広げることができる。

図６は、第１処理液吐出ノズル２および第２処理液吐出ノズル４への処理液の供給機構を示す概要図である。

図６に示すように、第１処理液吐出ノズル２および第２処理液吐出ノズル４は、処理液を貯留する貯留槽６と、ポンプ７および管路８を介して接続されている。貯留槽６に貯留された処理液は、ポンプ７の作用により、管路８を介して第１処理液吐出ノズル２および第２処理液吐出ノズル４に送液される。また、第１処理液吐出ノズル２および第２処理液吐出ノズル４の下方には、処理液回収部５が配設されており、この処理液回収部５と貯留槽６とは、管路１０により接続されている。第１処理液吐出ノズル２および第２処理液吐出ノズル４から吐出され、ガラス基板１００から流下した処理液は、この処理液回収部５および管路１０を介して貯留槽６に回収される。

なお、貯留槽６は、各塗布ユニット１ａ、１ｂ毎に、別個のものを使用してもよく、また、塗布ユニット１ａ、１ｂに共通のものを使用してもよい。

ここで、第１処理液吐出ノズル２における第１処理液吐出口２１としては、ガラス基板１００を処理しないときの処理液の流下を防止するため、そこに供給された処理液に圧力が付与されない状態においては、処理液の表面張力の作用により第１処理液吐出口２１より処理液が流下しない大きさとすることが好ましい。すなわち、ポンプ７が駆動していない状態においては、処理液の表面張力の作用により第１処理液吐出口２１より処理液が流下しない大きさである。この第１処理液吐出口２１の大きさとしては、処理液の粘度にも左右されるが、上述したように０．５ｍｍ程度とすることが好ましい。

但し、ガラス基板１００の搬送方向と直交する方向に列設された多数の第１処理液吐出口２１に替えて、ガラス基板１００の搬送方向と直交する方向に延びるスリット状の吐出口を採用してもよい。

上述した２個の塗布ユニット１ａ、１ｂからは、処理液としてのエッチング液が供給される。このようなエッチング液としては、例えば、フッ酸（フッ化水素酸／ＨＦ）が使用される。なお、意図的にガラス基板１００の表面に均一な酸化膜を形成するため、塗布ユニット１ａから、または、塗布ユニット１ｂから、あるいは、塗布ユニット１ａと１ｂから、エッチング液に代えてオゾン水を供給してもよい。

次に、上述した基板処理装置によりガラス基板１００を処理する処理動作について説明する。図７乃至図９は、この発明に係る基板処理装置によるガラス基板１００の処理動作を示す説明図である。

複数の搬送ローラ９により水平方向に搬送されるガラス基板１００の先端が塗布ユニット１に到達する前に、図７に示すように、第１処理液吐出ノズル２の第１処理液吐出口２１および第２処理液吐出ノズル４の第２処理液吐出口４１から少量の処理液を吐出し、予め、第１処理液吐出ノズル２における第１処理液吐出口２１と第２処理液吐出ノズル４における処理液保持面４２との間に、処理液の液溜まり５１を形成しておく。なお、第２処理液吐出ノズル４から流下する処理液は、処理液回収部５により回収され、貯留槽６に送液される。

この状態において、さらに搬送ローラ９によりガラス基板１００の搬送を継続すると、図８に示すように、ガラス基板１００の先端が、第１処理液吐出ノズル２と第２処理液吐出ノズル４との間に形成された処理液の液溜まり５１中に進入する。

この状態でさらにガラス基板１００が水平方向に搬送された場合には、図９に示すように、第１処理液吐出ノズル２とガラス基板１００の表面との間に処理液の液膜５２が形成され、第１処理液吐出ノズル２とガラス基板１００の表面との間は、処理液の液膜５２により液密状態となる。また、第２処理液吐出ノズル４とガラス基板１００の裏面との間に処理液の液膜５３が形成され、第２処理液吐出ノズル４とガラス基板１００の裏面との間は、処理液の液膜５３により液密状態となる。

すなわち、ガラス基板１００の先端が第１処理液吐出ノズル２と第２処理液吐出ノズル４との間に形成された処理液の液溜まり５１中に進入した後、処理液の表面張力により第１処理液吐出ノズル２から吐出された処理液と第２処理液吐出ノズル４から吐出された処理液とが引っ張られるようにして、ガラス基板１００の表面および裏面全域にそこではじかれることなく塗り広げられる。このときには、第１処理液吐出ノズル２や第２処理液吐出ノズル４の長手方向におけるところどころの領域で部分的に液溜まりが形成されない領域が存在していたとしても、ガラス基板１００が移動を継続することに伴って、これらの領域は処理液で満たされ、第１処理液吐出ノズル２および第２処理液吐出ノズル４とガラス基板１００の表裏両面との間は、処理液の液膜５２、５３により液密状態となる。ここで、液密状態とは、それらの間が全て処理液で満たされた状態を指す。

そして、第１処理液吐出ノズル２とガラス基板１００との間を処理液の液膜５２により液密とし、第２処理液吐出ノズル４とガラス基板１００の裏面との間を処理液の液膜５３により液密としたままの状態でガラス基板１００が水平方向に搬送されることにより、図９に示すように、ガラス基板１００の表面および裏面全域に処理液が供給される。

このように、この基板処理装置においては、ガラス基板１００の表面のみならず、ガラス基板１００の裏面にも、処理液が供給される。このとき、この基板処理装置においては、ガラス基板１００の裏面全域に処理液が均一に塗布されることから、従来のように、ガラス基板１００の裏面に部分的に処理液が回り込んで、ガラス基板１００の裏面が不均一にエッチングされ、エッチングムラが発生することを防止することが可能となる。

そして、この基板処理装置においては、ガラス基板１００の裏面に当接してこのガラス基板１００を搬送する搬送ローラ９として、ガラス基板１００の裏面全域に当接する長尺で丸棒形状を有するものを採用していることから、各搬送ローラ９とガラス基板１００の裏面との接触時間が、ガラス基板１００の裏面全域において同一となる。このため、ガラス基板１００の裏面が搬送ローラ９との接触により不均一にエッチングされることを有効に防止することが可能となる。

なお、このような効果を奏するためには、ガラス基板１００を搬送する複数の搬送ローラ９のうち、少なくとも、ガラス基板１００の搬送方向に対して第１処理液吐出ノズル２および第２処理液吐出ノズル４よりも下流側に配設された搬送ローラ９に対して、ガラス基板１００の裏面との接触時間がガラス基板１００の裏面全域において略同一となる構成を採用すればよい。また、搬送ローラ９としては、ガラス基板１００の裏面全域に当接する長尺で丸棒形状以外の形状のものを使用してもよい。

図１０は、他の実施形態に係る搬送ローラ９１と第１処理液吐出ノズル２との配置を示す平面図である。

この実施形態に係る搬送ローラ９１は、それぞれが、ガラス基板１００の搬送方向と直交する方向を向く軸を中心に回転可能であり、かつ、ガラス基板１００の搬送方向と直交する方向の大きさが比較的小さい円盤形状を有しており、第１処理液吐出ノズル２をはさんで全体として基板搬送方向に直交する方向において千鳥状に配置されている。このような搬送ローラ９１を使用した場合であっても、ガラス基板１００の搬送方向に対して第１処理液吐出ノズル２および第２処理液吐出ノズル４よりも下流側に配設された搬送ローラ９１が、これらの搬送ローラ９１とガラス基板１００との接触時間の合計が基板の裏面全域において略同一となるように各搬送ローラ９１を配置することにより、ガラス基板１００の裏面が搬送ローラ９１との接触により不均一にエッチングされ、エッチングムラが発生することを有効に防止することが可能となる。

このような構成は、上述したように、少なくとも、ガラス基板１００の搬送方向に対して第１処理液吐出ノズル２および第２処理液吐出ノズル４よりも下流側に配設された搬送ローラに対して採用すればよい。また、ガラス基板１００の裏面全域に当接する長尺で丸棒形状を有する搬送ローラ９と、円盤状の搬送ローラ９１との両方を使用して、ガラス基板１００を搬送するようにしてもよい。

なお、上述した実施形態においては、ガラス基板１００を、その主面が水平方向となる状態で支持して、水平方向に搬送しているが、ガラス基板１００がわずかに傾斜していてもよい。例えば、ガラス基板１００がその搬送方向と直交する方向に対して１度程度傾斜していても、この発明を適用することは可能である。すなわち、この発明は、ガラス基板１００を正確に水平方向に支持する場合に限らず、略水平方向に支持する場合においても適用が可能である。

また、上述した実施形態においては、ガラス基板１００の表面にエッチング液としてのフッ酸等を供給しているが、この発明はこれに限定されるものではない。例えば、ガラス基板１００に対して現像液を供給することにより現像処理を行う基板処理装置にこの発明を適用してもよい。さらに、その他の処理液を使用する基板処理装置にこの発明を適用することも可能である。

１塗布ユニット
２第１処理液吐出ノズル
４第２処理液吐出ノズル
５処理液回収部
６貯留槽
７ポンプ
８管路
９搬送ローラ
１０管路
２１第１処理液吐出口
４１第２処理液吐出口
４２処理液保持面
４３凹部
９１搬送ローラ
１００ガラス基板

Claims

基板をその主面が略水平方向となる状態で支持するとともに、その基板を略水平方向に搬送する複数の搬送ローラと、
下方を向く第１の処理液吐出口が前記複数の搬送ローラによる基板の搬送方向と交差する方向に延設されるとともに、前記第１の処理液吐出口と前記複数の搬送ローラにより搬送される基板の表面との距離が、それらの間が前記第１の処理液吐出口より吐出された処理液の液膜により液密状態となる位置に配置された第１処理液吐出ノズルと、
上方を向く第２の処理液吐出口が前記複数の搬送ローラによる基板の搬送方向と交差する方向に延設されるとともに、第１の処理液吐出口と対向する位置に処理液の液溜まりを保持する処理液保持面を備え、前記第１の処理液吐出口と前記処理液保持面との距離が、それらの間に処理液の液溜まりを形成可能となる位置に配置されるとともに、前記複数の搬送ローラにより搬送される基板の裏面と前記処理液保持面との距離が、それらの間が前記第２の処理液吐出口より吐出された処理液の液膜により液密状態となる位置に配置された第２処理液吐出ノズルと、
前記第１処理液吐出ノズルおよび前記第２処理液吐出ノズルに供給する処理液を貯留する処理液貯留部と、
前記第１処理液吐出ノズルおよび前記第２処理液吐出ノズルの下方に配置された処理液回収部と、
前記処理液回収部に回収された処理液を前記処理液貯留部に送液する送液手段と、
を備え、
前記複数の搬送ローラのうち、少なくとも、前記複数の搬送ローラによる基板の搬送方向に対して前記第１処理液吐出ノズルおよび前記第２処理液吐出ノズルよりも下流側に配設された複数の搬送ローラは、それぞれ基板の搬送方向と直交する方向を向く軸を中心に回転可能であり、かつ、基板の搬送方向と直交する方向の大きさが比較的小さい円盤形状を有しており、基板の搬送方向と直交する方向において全体として千鳥状に配置されることにより、基板の裏面との接触時間が、基板の裏面全域において略同一となることを特徴とする基板処理装置。
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記第１処理液吐出口および前記第２処理液吐出口は、前記複数の搬送ローラによる基板の搬送方向と交差する方向に列設された多数の穴から構成される基板処理装置。
請求項１または請求項２に記載の基板処理装置において、
前記第２処理液吐出ノズルの表面には、液溜まり保持用の凹部が形成されるとともに、前記第２処理液吐出口は、前記凹部内に形成される基板処理装置。
請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記処理液はフッ酸である基板処理装置。