JP5878787B2 - 薬液処理装置及び薬液処理方法 - Google Patents
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したり薬液の蒸気が付着したりすることにより、被処理基板の表面にシミが付いたり、ウォーターマークができたりしてしまう。さらに、薬液が洗剤や剥離液のときには、薬液が固化してしまうことがある。薬液がエッチング液のときには、エッチングが不均一となって表示パネルの表示ムラとなってしまう。薬液がその他の酸性液体やアルカリ性液体のときには、被処理基板の表面の一部が酸化したり、腐蝕したりすることがある。
図1は、液晶表示装置等のアクティブマトリクス基板を作製する製造装置10の一部を模式的に示す。製造装置10は、複数の処理装置20と、被処理基板Sを搬送して複数の処理装置20間を移動させる搬送手段としての搬送ライン30とを有している。図1では、上流側から、処理装置20として、処理装置21,22,23,24,25,26及び27を示している。ここでは、例えば、処理装置21は、被処理基板Sの被処理面を洗浄する洗浄装置である。処理装置22は、被処理基板Sの被処理面にフォトレジスト液を均一に塗布するスピンコータ等のフォトレジスト塗布装置である。処理装置23は、フォトレジストの溶媒を蒸発させてプリベークを行う加熱装置である。処理装置24は、フォトマスク及び被処理基板を位置合わせして光照射し回路パターンを転写する露光装置である。処理装置25は、現像液を用いてフォトレジストの未感光部を除去する現像装置である。処理装置26は、ポストベークして付着したリンス液を除去する加熱装置である。処理装置27は、レジストで描かれた回路パターンを利用してウェットエッチングにより目的とする回路などを作製するエッチング装置である。そして、これらの処理装置21〜27を経ることにより、被処理基板Sの被処理面上に所定のレイアウトとなるように導電膜等が形成される。
入された被処理基板Sの被処理面の全面に向けてエッチング液を均一に吹き付けて塗布できるように構成されている。
次に、上述の製造装置10を用いてアクティブマトリクス基板を作製する際の、薬液処理装置27の薬液処理方法について説明する。薬液処理方法は、搬送ライン30が通常に運転している場合に被処理基板Sの被処理面に薬液処理を行う薬液処理工程と、搬送ライン30が停止した場合に被処理面をリンス液で保護する薬液反応停止工程と、を含む。
製造装置10の搬送ライン30には、複数の被処理基板Sが一定の間隔で載置され、各処理装置20を順に経由する。
通常であれば上述のようにエッチング処理が行われる。以下では、搬送ライン30が停止してしまった時の動作について説明する。搬送ライン30の下流側には、処理済の基板を搬送する下流コンベアや搬送モジュール(搬送ロボット)が設置されているが、これらが停止することにより、搬送ライン30が運転停止となることがある。このとき、処理中の被処理基板Sが薬液処理槽40の内部で停止してしまい、取り残されたままの状態となることがある。
いるので、エッチング液の蒸気により被処理基板Sの表面がダメージを受けたり、薬液反応が過剰に進行したりすることが抑制される。
本実施形態によれば、薬液処理装置27は、薬液処理槽40内部に、被処理基板Sに対してリンス液を供給するリンス液供給手段70を有するので、搬送ライン30の運転が停止して被処理基板Sが薬液処理槽40の内部に取り残されてしまった場合であっても、薬液反応停止工程において、薬液の供給を停止した後、リンス液供給手段70によって被処理基板Sにリンス液を供給して、被処理基板Sの被処理面を保護することができる。そのため、搬送ライン30の停止中、薬液処理槽40の内部で薬液供給手段60の薬液吹付口から薬液が被処理基板Sの上に垂れ落ちても、被処理基板Sの被処理面がリンス液で保護されているので、被処理基板Sのシミとして残らない。また、薬液処理槽40内に充満した薬液の蒸気が被処理基板Sに接触した状態となっていても、被処理基板Sの被処理面がリンス液で保護されているので、基板上では蒸気による薬液反応が進行せず、薬液反応のムラが生じることがない。そして、被処理基板Sにシミやムラが生じないことにより、結果として、仕損を抑制して被処理基板Sに薬液処理を施すことができる。
次に、実施形態2に係る薬液処理装置27について説明する。この薬液処理装置27は、実施形態1と同様、液晶表示装置等のアクティブマトリクス基板を作製する製造装置10の一部を構成するものであり、係る製造装置10は、複数の処理装置20と、被処理基板Sを搬送して複数の処理装置20(薬液処理装置27を含む。)間を移動させる搬送ライン30とを有している。
ス液を吹き付けるリンス液供給手段70が、薬液処理槽40内の上流端から下流端に亘って一列に延びるように設けられている。
上記の実施形態では、薬液処理槽40において、リンス液供給手段70は薬液処理槽40内の上流端から下流端に亘って一列に延びるように設けられているとして説明したが、リンス液供給手段70が上流端から下流端に亘って延びており、薬液処理槽40内で停止した被処理基板Sに対して均一にリンス液の供給が可能であれば、一列設けることに限定されない。例えば、図7に示すように、リンス液供給手段70が、薬液処理槽40の対向する2辺に沿って、上流端から下流端に亘って2列に延びるように設けられていてもよい。また、薬液供給手段60による薬液の供給を妨げないレイアウトであれば、搬送ライン30の全面に対してリンス液を供給可能なように、薬液処理槽40の天井の全面に設けられていてもよい。
リンス液供給手段70を洗浄液タンクに接続することができる。これにより、リンス液供給手段を洗浄槽の洗浄液タンクと接続することにより、使用するリンス水の量を低減することができる。
27 薬液処理装置
30 搬送ライン
40 薬液処理槽
50 洗浄槽
60 薬液供給手段
70 リンス液供給手段
Claims (6)
- 搬送手段により搬入された被処理基板の被処理面に対して薬液処理を施す薬液処理装置であって、
薬液処理槽と、
上記搬入された被処理基板に対して上方から薬液を供給する薬液供給手段と、
上記薬液処理槽内部に上流端から下流端に亘って延びるように設けられ、上記搬送手段による被処理基板の搬送が停止した場合、上記薬液供給手段の薬液の供給が停止した状態で、上記搬入された被処理基板に対して上方からリンス液を供給するリンス液供給手段と、
を有することを特徴とする薬液処理装置。 - 請求項1に記載された薬液処理装置において、
上記搬送手段は、上記薬液処理槽内で、被処理面が搬送方向と垂直な方向に傾斜するように被処理基板を搬送し、
上記リンス液供給手段は、上記被処理基板の被処理面において、リンス液が該傾斜の上側から下側に向かって流れるように供給可能に位置付けられていることを特徴とする薬液処理装置。 - 請求項1又は2に記載された薬液処理装置において、
上記薬液処理槽の下流側に該薬液処理槽に隣接して設けられ、洗浄液を供給する洗浄液タンクを有し、該洗浄液タンクから供給される洗浄液を用いて上記薬液処理槽から搬出された被処理基板を洗浄する洗浄槽をさらに備え、
上記リンス液供給手段は、上記洗浄槽の洗浄液タンクに接続されていることを特徴とする薬液処理装置。 - 請求項1〜3のいずれか1項に記載された薬液処理装置において、
上記リンス液供給手段は、上流端から下流端に亘って延びるスリット状の供給口を有するスリットノズルで構成されていることを特徴とする薬液処理装置。 - 請求項1〜3のいずれか1項に記載された薬液処理装置において、
上記リンス液供給手段は、複数のシャワーノズル又はスプレーノズルが上流端から下流端に向かう方向に所定の間隔で並ぶように配置されることにより上流端から下流端に亘って延びていることを特徴とする薬液処理装置。 - 搬送手段により薬液処理槽内に搬入された被処理基板の被処理面に対して薬液処理を施す薬液処理方法であって、
上記薬液処理槽内に搬入された被処理基板の被処理面に、薬液を供給して薬液処理を施す薬液処理工程と、
上記薬液処理槽において、上記搬送手段による被処理基板の搬送が停止した場合、上記薬液の供給を停止し、リンス液を上記搬送が停止した被処理基板の被処理面に供給する薬液反応停止工程と、
を備えたことを特徴とする薬液処理方法。
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