JPH09323060A

JPH09323060A - 基板処理装置

Info

Publication number: JPH09323060A
Application number: JP8143065A
Authority: JP
Inventors: Mitsuaki Yoshitani; 光明芳谷
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1996-06-05
Filing date: 1996-06-05
Publication date: 1997-12-16
Anticipated expiration: 2016-06-05
Also published as: US5881750A; KR100253834B1; JP3597639B2

Abstract

(57)【要約】【課題】装置の大型化を抑えた上で、基板の裏面の処
理液の置換を確実に行うことができるようにする。【解決手段】基板搬送方向に直交した面内で水平方向
に対して傾斜した姿勢で搬送中の基板Ｂの表裏面に処理
液を供給して基板Ｂに所定の処理を施す基板処理装置に
おいて、基板Ｂの裏面側に対して所定の間隔を隔てて対
向配置される補助板７と、この補助板７の表面側の上位
側端縁に向けて処理液を吐出する裏面側処理液吐出手段
６ｂとが備えられ、上記補助板７は、その幅寸法が基板
Ｂの幅寸法よりも長く設定され、かつ、その上位側端縁
が基板Ｂの上位側端縁よりも上位位置に配置されてい
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、フォトレジスト塗
布液、感光性ポリイミド樹脂、カラーフィルター用の染
色剤等からなる薄膜が表面に形成される液晶用のガラス
基板、フォトマスク用のガラス基板等を対象とし、これ
ら基板の主面に所定の処理液を供給することによって処
理する基板処理装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、前工程で所定の処理が施された基
板に薬液を供給した後、洗浄水による洗浄処理を施して
から後工程に搬送するようにした基板処理装置が知られ
ている。かかる基板処理装置は、薬液処理部、水洗部お
よび乾燥部が直列に配設されて構成されている。そし
て、基板の搬送手段がこれら薬液処理部、水洗部および
乾燥部を貫通するように敷設され、基板はこの搬送手段
によって薬液処理部、水洗部および乾燥部の順に搬送さ
れつつ処理される。

【０００３】そして基板は、薬液処理部においてアルカ
リ洗浄液、現像液、エッチング液あるいは剥離液等の薬
液が表裏面に供給されて所定の処理が施され、ついで水
洗部において水洗処理が施され、最後に乾燥部において
気体の噴射等による乾燥処理が行われるようになってい
る。

【０００４】ところで、薬液処理部で薬液による所定の
処理が施された基板は、その表裏面に薬液が付着した状
態になっているため、そのまま薬液処理部から水洗部に
移されると、水洗部内に薬液が持ち込まれることにな
り、循環使用される洗浄水が薬液の混入によって汚染さ
れ、洗浄水の水質が悪化するという不都合が生じる。

【０００５】そこで、通常、薬液処理部と水洗部との境
界部分にエアーナイフが配設され、その気体吐出口から
基板の表裏面に向けてカーテン状の気体を吹き付け、基
板の表裏面に付着している薬液を、基板の表裏面が乾燥
しない程度に薬液処理部内に向けて吹き飛ばし、これに
よって薬液の水洗部への持ち込みを防止するようにして
いる。

【０００６】また、水洗部においては、第１の水洗部と
第２の水洗部とによる少なくとも２段階の水洗処理が施
され、水洗処理の完全を期するようになされている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年、
基板の大型化に伴い、基板の上流側が第１の水洗部で第
１の洗浄水の供給を受けつつ下流側が第２の水洗部で第
２の洗浄水の供給を受けるといった工程の重複が生じる
ようになり、基板の上流側には第１の洗浄水が、下流側
には第２の洗浄水が同時に供給された状態になるため、
基板の主面を伝わって第１の洗浄水が第２の水洗部に入
り込んだり、逆に第２の洗浄水が第１の水洗部に移動し
たりすることがあり、境界部分において洗浄水の確実な
置換が行われなくなるという問題点が発生するようにな
った。

【０００８】かかる問題点を解消するために、第１の水
洗部および第２の水洗部との間に未処理搬送部を設け、
基板が第１の水洗部と第２の水洗部との境界部分に差し
掛かった状態では、第１の洗浄水および第２の洗浄水の
いずれもが基板に供給されないようにすることが考えら
れるが、このようにするためには、水洗部を構成してい
る水洗槽を延長して基板の洗浄液噴射領域を確保せねば
ならず、基板の大型化に応じて水洗槽が大型になってし
まい、設備コストが嵩むという新たな問題点が発生す
る。

【０００９】そこで、第１の水洗部と第２の水洗部との
境界部分にエアーナイフを設け、エアーナイフからの気
流を第１水洗部と第２水洗部との境界部分に噴射するこ
とも考えられるが、上記境界部分でエアーナイフから基
板の表面に吐出される気体により基板の表面が乾燥して
しまうことがあり、基板の表面が乾燥すると、その部分
にシミが生じる。そして、このシミは水洗処理によって
も取り除くことができず、最終的に基板が乾燥処理され
た後に、このシミからパーティクルが発生し、これによ
って基板の表面が再汚染されるという問題点も有してい
る。

【００１０】これらの問題点を解消するものとして、出
願人は先に、搬送中の基板の幅方向の一方の縁部から洗
浄水を基板の表裏面に向けて噴射供給するものを提案し
た（特願平８−８８２４７号）。こうすることによっ
て、噴射された洗浄水の液流が、搬送中の基板の表裏面
を高速で横断するため、洗浄効果が向上するとともに、
基板表裏面での液切れも良好になり、これによって水洗
槽の大型化を回避することができるとともに、エアーナ
イフを用いる必要がないので基板の表裏面でのシミの発
生を抑制する効果が得られる。

【００１１】しかしながら、特願平８−８８２４７号の
ものにあっては、搬送中の基板の裏面に噴射された洗浄
水が、基板を横断する途中で基板の裏面を離れて落下し
てしまわないように洗浄水の噴射圧を相当の高圧にしな
ければならず、そのためには洗浄水供給系統を高圧仕様
にする必要がある。

【００１２】本発明は、かかる問題点を解決するために
なされたもので、処理液の圧力を特に考慮することな
く、傾斜姿勢で搬送中の基板に対して幅方向の一方の縁
部から基板を横断するように処理液を供給することによ
り、基板裏面での処理液の置換を確実に行わせ得る基板
処理装置を提供することを目的としている。

【００１３】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
基板搬送方向と直交した面内で水平方向に対して傾斜し
た傾斜姿勢で搬送される基板の表裏面に処理液を供給し
て処理を行う基板処理装置において、基板搬送路に沿っ
て設けられるとともに、搬送中の基板の裏面側と所定の
間隔を隔てて対向配置され、幅寸法が基板の幅寸法より
長く、かつ、上位側端縁が基板の上位側端縁より高い位
置に固定された補助板と、この補助板の上位側から上記
隙間に処理液を供給する裏面側処理液供給手段とが備え
られていることを特徴とするものである。

【００１４】この発明によれば、基板が基板搬送路に沿
って補助板の位置までくると、裏面側処理液供給手段か
ら処理液が補助板と搬送中の基板との間の隙間に供給さ
れ、この隙間を通って流下し、この流下中に基板の裏面
が処理液によって処理される。

【００１５】そして、このように補助板を設けたことに
より、処理液が補助板上の隙間に満ちた状態で流下する
ため、流下途中で処理液が基板の裏面から離れて落下
し、これを防ぐためには処理液の圧力を相当の高圧にし
なければならず、そのためには処理液供給系統を高圧仕
様にしなければならなくなるといった不都合は生じず、
処理液が確実に基板の裏面に接触した状態になる。

【００１６】請求項２記載の発明は、請求項１記載の発
明において、上記補助板は、上記基板に対して１乃至５
ｍｍの間隔で平行に対向配置されていることを特徴とす
るものである。

【００１７】この発明によれば、補助板に吐出された処
理液は基板の裏面に確実に接触した状態で処理板上を適
切に流下し、間隔が１ｍｍ未満である場合の処理液の流
下不良や、間隔が５ｍｍを越えた場合の処理液の基板裏
面への非接触が起こらない。

【００１８】請求項３記載の発明は、請求項１記載の発
明において、上記補助板は、上記基板との間隔が上位側
より下位側で小さくなるように対向配置されていること
を特徴とするものである。

【００１９】この発明によれば、補助板の下位側に向か
うにつれて処理液が広がることによる処理液の厚み寸法
の減少に対応し、処理液が基板裏面に確実に接触する。

【００２０】請求項４記載の発明は、請求項１乃至３の
いずれかに記載の発明において、上記裏面側処理液供給
手段は、基板搬送方向に延びるスリット状の吐出口を有
していることを特徴とするものである。

【００２１】この発明によれば、基板裏面には、基板搬
送方向に広範囲に亘って処理液が供給される。

【００２２】請求項５記載の発明は、請求項１乃至４の
いずれかに記載の発明において、搬送中の基板の上位側
端縁に向けて処理液を供給する第１の表面側処理液供給
手段を備えたことを特徴とするものである。

【００２３】この発明によれば、第１の表面側表面側処
理液吐出手段からの処理液の吐出によって基板表面が処
理される。

【００２４】請求項６記載の発明は、請求項５記載の発
明において、基板搬送方向と交差する方向に配設され、
かつ、上記第１の表面側処理液供給手段の処理液供給域
に処理液を供給する第２の処理液供給手段を備えたこと
を特徴とするものである。

【００２５】この発明によれば、第１の表面側処理液供
給手段からの処理液の吐出によって基板の表面で形成し
た液流に、さらに第２の表面側処理液供給手段からの処
理液が重ねて供給されることになり、これによって基板
表面上に乱流が発生するため、この乱流による撹拌で基
板表面に対する処理液の接触状態が良好になり、基板表
面の処理効率が向上する。

【００２６】特に、基板処理装置が洗浄処理を行うもの
である場合には、上記第２の表面側処理液供給手段から
供給された処理液が基板の表面に衝突する際の衝撃効果
により基板の表面に付着しているパーティクルの除去が
容易となり、洗浄効果が向上する。

【００２７】

【発明の実施の形態】図１は、本発明に係る基板処理装
置を含む基板処理装置群の一実施形態を示す説明図であ
る。基板処理装置群１は、基板Ｂの主面に所定の薬液を
供給して処理する薬液処理部１ａ、この薬液処理部１ａ
で薬液処理の施された基板Ｂに第１次の水洗処理を施す
第１次水洗部２、この第１次水洗部２で水洗された基板
Ｂに第２次の水洗処理を施す第２次水洗部３、およびこ
の第２次水洗部３で水洗処理の施された基板Ｂを乾燥す
る乾燥部４が上流側（図１の左方）から直列に順次配設
されて構成されている。

【００２８】薬液処理部１ａ、第１次水洗部２、第２次
水洗部３および乾燥部４は、それぞれ箱型の薬液処理槽
１ｂ、第１次水洗槽２１、第２次水洗槽３１および乾燥
槽４１を備えて形成されている。各槽１ｂ，２１，３
１，４１の上流壁および下流壁には水平方向で互いに対
向した基板通過口１１が開口され、この基板通過口１１
を通して基板Ｂが各槽１ｂ〜４１に入出されるようにな
っている。

【００２９】基板Ｂを各槽１ｂ〜４１内で搬送する搬送
手段としてはローラコンベアが適用されている。このロ
ーラコンベアは、基板Ｂの搬送方向と直交する向きの支
持軸に設けられた搬送ローラ５が搬送方向（図１の右
方）に向けてほぼ等ピッチで並設配置されており、図略
の駆動手段の駆動によって同一方向に同期回転されるよ
うになっている。

【００３０】基板Ｂは、前工程からコンベアあるいはロ
ボット等による図略の上流側引継ぎ手段を介して薬液処
理槽１ｂの上流側に配設された搬送ローラ５に移され
る。ついで搬送ローラ５の駆動によって基板処理装置群
１内に導入され、ここで搬送ローラ５によって搬送方向
（図１の右方）に向けて搬送されつつ薬液処理槽１ｂ内
において薬液処理され、第１次水洗槽２１内において処
理液供給手段６からの洗浄水の供給による１次洗浄処理
が施され、ついで第２次水洗槽３１内において処理液供
給手段６や純水供給ノズル３２等からの洗浄水の供給に
よる２次水洗処理が施され、最後の乾燥槽４１において
エアナイフ４２からの気体噴射供給による乾燥処理が施
された後、乾燥槽４１の直ぐ下流側に配設された搬送ロ
ーラ５に導出され、ロボット等からなる図略の下流側引
継ぎ手段を介して次工程に向けて導出されるようになっ
ている。

【００３１】上記各槽１ｂ〜４１内においては、上記各
搬送ローラ５はその軸心が基板搬送方向に直交する面内
で水平方向に対して傾斜するように配設され、これによ
って基板Ｂは各槽１ｂ〜４１内を傾斜姿勢で搬送されつ
つ処理される。

【００３２】基板Ｂの傾斜角度は、３°〜４０°に設定
されている。この傾斜角度の範囲では、基板Ｂを安定し
た状態で搬送することができるとともに、処理液の種
類、処理液の粘度、処理液の供給量さらには基板Ｂの搬
送速度等を勘案して上記範囲内で基板Ｂの傾斜角度を設
定することにより、基板Ｂ表面の乾燥を防止しつつ処理
液が良好に置換され、液切りを良好に行い得るようにし
ている。

【００３３】また、上記傾斜角度は、基板Ｂの搬送速
度、処理液の粘度、処理液の圧力、処理液の吐出量等の
創業条件を考慮して決められるが、処理液が、例えば濃
度の低い薬剤や純水などの場合、３°〜７°に設定する
ことができる。

【００３４】本発明に係る基板処理装置１０は、本実施
形態においては上記第２次水洗部３の一部および第１次
水洗部２に適用されている。以下、本発明に係る基板処
理装置１０が適用されている第１次水洗部２について説
明する。図２は、第１次水洗槽２１の一実施形態を示す
一部切欠き斜視図であり、図３は処理液供給手段６の一
実施形態を示す一部切欠き斜視図である。また、図４は
処理液供給手段６から吐出された洗浄水Ｌの基板表裏面
における流れを示す側面視の説明図である。

【００３５】図２示すように、第１次水洗槽２１内に
は、上流側および下流側の基板通過口１１間に、同一高
さレベルで搬送方向（右方）に向かって４本の搬送ロー
ラ５が配設され、図略の駆動手段による各搬送ローラ５
の同一方向の同期回転によって、上流側の基板通過口１
１から第１次水洗槽２１内に導入された基板Ｂは、下流
側の基板通過口１１に向けて第１次水洗槽２１内を搬送
されるようになっている。

【００３６】上記搬送ローラ５は、いわゆる部分支持型
ローラであり、第１次水洗槽２１内の両側壁間に回転可
能であって、傾斜して架橋されたローラ軸５１と、この
ローラ軸５１の左右両側部にローラ軸５１と共回り可能
に設けられた一対の側部ローラ５２と、ローラ軸５１の
中央部に設けられた中央ローラ５３とから構成されてい
る。かかる部分支持型ローラを適用することにより、搬
送ローラ５による基板Ｂの裏面との接触域を少なくし、
基板Ｂの裏面への洗浄水の供給を良好に行い得るととも
に、洗浄工程や乾燥工程における搬送ローラ５と基板Ｂ
の裏面との接触による汚染を最小限に抑えることが可能
になる。

【００３７】上記左右の側部ローラ５２は、各々その外
方側部に鍔部５２ａを有しており、特に下位側の鍔部５
２ａによって各ローラ５２，５３上に載置され、搬送さ
れる基板Ｂの滑り落ちを防止している。また、各ローラ
５２，５３にはゴム等の柔軟性材料からなる滑り止めと
してＯリング５４が外嵌されており、このＯリング５４
の滑り止め作用によって基板Ｂの搬送を確実に行い得る
ようにしている。

【００３８】第１次水洗槽２１内には、搬送方向の略中
央部であって、搬送ローラ５の上方位置の一方の側壁に
同一高さレベルで一対のブラケット２５が設けられ、こ
れらブラケット２５間に一対の処理液供給手段６が取り
付けられている。処理液供給手段６は、基板Ｂの表面に
向けて洗浄水Ｌを吐出する表面側処理液吐出手段６ａ
と、基板Ｂの裏面に洗浄水Ｌを吐出供給する裏面側処理
液吐出手段６ｂとを備えて構成されている。また、第１
次水洗槽２１内の上流側または中央の２本の搬送ローラ
５間における基板搬送路の下部には、ローラ軸５１に平
行で通過中の基板Ｂとの間に所定の寸法ｄで隙間Ｄが形
成されるように、基板Ｂに対して離間した補助板７が設
けられている。

【００３９】この補助板７は、図３および図４に示すよ
うに、幅寸法が、基板Ｂの幅寸法よりも長めに設定さ
れ、その上位側端縁７１が搬送中の基板Ｂの上位側端縁
Ｂｔから外方に向かって所定長だけ突出するとともに、
下位側端縁が搬送中の基板の下位側端縁よりも若干外方
に突出するように寸法設定されている（図３、図４）。
そして、裏面側処理液吐出手段６ｂは、吐出された洗浄
水Ｌが面内を流下する際に、液流の表面側が基板Ｂの裏
面に接触する量に設定されており、これにより基板Ｂの
裏面が洗浄されるようにしている。

【００４０】上記表面側処理液吐出手段６ａは、図３に
示すように、基板搬送方向に延びるスリット状の洗浄水
吐出口６５が搬送中の基板Ｂの上位側端縁Ｂｔの表面側
に対向し、かつ、下位側に向くように角度設定されてい
るとともに、上記裏面側処理液吐出手段６ｂは、上記同
様のスリット状の洗浄水吐出口６５が補助板７の上位側
であって、通過する基板Ｂより上方に露出した部分に対
向し、かつ、補助板７の下位側に向くように角度設定さ
れ、これによって処理液供給手段６から吐出された洗浄
水Ｌが基板Ｂおよび補助板７の上位側端縁７１からこぼ
れるのを防止している。

【００４１】そして、基板Ｂが搬送ローラ５により第１
次水洗槽２１（図２）内に導入された状態で基板Ｂの表
裏面を横断するように処理液供給手段６から吐出された
洗浄水Ｌの液流による洗浄水吐出域Ａが形成されるよう
にしている。

【００４２】本実施形態においては、上記隙間Ｄの寸法
ｄは、１ｍｍ〜５ｍｍに設定されている。隙間Ｄの寸法
ｄを上記範囲に設定することにより、洗浄に必要な液の
流速と液量とが好適に設定される。すなわち、１ｍｍ未
満の場合は、基板Ｂと補助板７との間で洗浄水Ｌが封じ
込められるため、液流れが不良となり、確実な洗浄性能
が得られず、また、５ｍｍを越えた場合は、基板Ｂ裏面
への洗浄水Ｌの接触不良が生じ、不必要に液使用量が増
大する。

【００４３】一方、第１次水洗槽２１の近傍には上記処
理液供給手段６に供給するための洗浄水Ｌを貯留する洗
浄水貯留槽２２（図２）が配設されている。この洗浄水
貯留槽２２と上記処理液供給手段６との間に洗浄水管路
２２ａが配設されているとともに、第１次水洗槽２１の
底部と洗浄水貯留槽２２の上部との間には洗浄水戻り管
路２２ｂが配設され、これら洗浄水管路２２ａおよび洗
浄水戻り管路２２ｂによって洗浄水貯留槽２２内の洗浄
水Ｌを処理液供給手段６を介して循環させる循環管路が
形成されている。

【００４４】また、上記洗浄水貯留槽２２の直ぐ下流側
の洗浄水管路２２ａには洗浄水ポンプ２３が設けられて
いるとともに、洗浄水ポンプ２３の直ぐ下流側にはフィ
ルター２４が設けられている。従って、洗浄水ポンプ２
３を駆動することにより、洗浄水貯留槽２２内の洗浄水
Ｌは、洗浄水管路２２ａを通してまずフィルター２４で
清浄化され、ついで表面側処理液吐出手段６ａから搬送
ローラ５上の基板Ｂの上位側端縁Ｂｔの表面に向けて吐
出されると同時に、裏面側処理液吐出手段６ｂからも補
助板７の上位側端縁７１の露出面に向けて吐出され、基
板Ｂの表裏面に所定の処理を施した後、基板Ｂの下位部
から第１次水洗槽２１の底部に流下し、洗浄水戻り管路
２２ｂを介して洗浄水貯留槽２２に戻され、以後、循環
使用される。

【００４５】そして、洗浄水ポンプ２３は高圧の液を吐
出するいわゆる高圧ポンプが採用され、これによって処
理液供給手段６からは高圧の洗浄水Ｌが基板Ｂの表裏面
に向けて吐出されるようにしている。本実施形態におい
て、洗浄水Ｌの吐出圧は洗浄水ポンプ２３によって２〜
１０kgf／cm²Gに圧力設定されている。

【００４６】洗浄水Ｌの圧力を２〜１０kgf／cm²Gの範
囲内に設定することにより、２kgf／cm²G未満である
と、裏面側処理液吐出手段６ｂからの洗浄水Ｌの吐出圧
力が低すぎることによって、基板Ｂの表面および補助板
７と基板Ｂの裏面との間の隙間を流れる洗浄水Ｌの流速
が遅くなり洗浄不良になるという不都合が解消されると
ともに、逆に１０kgf／cm²Gを越えると、洗浄水Ｌの圧
力に耐えるようにするために、洗浄水ポンプ２３、洗浄
水貯留槽２２および処理液供給手段６を特別の高圧仕様
にしなければならず、設備コストが嵩むという不都合が
解消される。

【００４７】実際の洗浄水Ｌの吐出圧力は、上記範囲内
において、基板Ｂのサイズ、基板Ｂの搬送速度、洗浄水
Ｌの粘度、および洗浄水Ｌの吐出量等が勘案され、裏面
側処理液吐出手段６ｂから吐出された洗浄水Ｌが基板Ｂ
の裏面の一方側端縁から他方側端縁までの全域に到達し
得る値に設定される。

【００４８】処理液供給手段６からの洗浄水Ｌの供給
は、常時でもよいし、基板Ｂの通過中のみ行うようにし
てもよい。常時供給する場合は、補助板７を常に清浄に
保つことが可能となる。また、基板Ｂの通過中にのみ洗
浄水Ｌを供給するようにする場合は、近接センサで基板
Ｂを検出して行うようにしたり、図略の搬送制御手段に
よる制御で所定時間間隔ごとに行うようにするなど、種
々の方策を採用し得る。

【００４９】処理液供給手段６は、基板搬送方向に延び
る長尺直方体状の吐出手段本体６１と、この吐出手段本
体６１の下部から延設された先細りのノズル部６２とを
備えて形成されている。上記吐出手段本体６１は、内部
に基板搬送方向に延びる洗浄水供給管路６３を有してい
るとともに、吐出手段本体６１の側面に雄ネジの螺設さ
れた接続筒６４を有している。この接続筒６４に洗浄水
管路２２ａの下流端に設けられたジョイント２２ｃが螺
着されることにより、洗浄水管路２２ａが処理液供給手
段６に接続されるようになっている。

【００５０】また、上記ノズル部６２には、洗浄水供給
管路６３に連通した基板搬送方向に延びるスリット状の
洗浄水吐出口６５が設けられており、洗浄水管路２２ａ
を通して洗浄水供給管路６３に供給された洗浄水Ｌは、
表面側処理液吐出手段６ａの洗浄水吐出口６５から基板
Ｂ上に供給されると同時に、裏面側処理液吐出手段６ｂ
の洗浄水吐出口６５から補助板７上に供給されるように
なっている。

【００５１】上記ブラケット２５の互いに対向した面に
は、互いに対向するように円柱状の支持ロッド２５ａが
一体に突設されている一方、吐出手段本体６１の幅方向
両側部には上記各支持ロッド２５ａに外嵌する一対の外
嵌筒６１ａが一体に突設され、左右の外嵌筒６１ａがそ
れぞれに対応した支持ロッド２５ａに外嵌されることに
より処理液供給手段６が支持ロッド２５ａの軸心回りに
回動可能になっている。

【００５２】そして、上記各外嵌筒６１ａには、外周面
から筒内に向けて貫通した締結ネジ６１ｂが螺着されて
おり、この締結ネジ６１ｂを締結することによって処理
液供給手段６の支持ロッド２５ａ回りの回動が固定され
るようにしている。従って、締結ネジ６１ｂを弛めた状
態で処理液供給手段６を支持ロッド２５ａ回りに回動さ
せ、処理液供給手段６が所望の傾斜姿勢になった時点で
締結ネジ６１ｂを締め付けることにより、上記設定され
た処理液供給手段６の傾斜角度が固定される。

【００５３】図４において、上記各処理液供給手段６の
水平面に対する傾斜角度θは、５°〜８０°の範囲内の
角度に設定されている。上記傾斜角度を５°〜８０°に
設定したのは、傾斜角度が５°未満であると、液噴射口
４３ａから噴射された噴射液流が基板Ｂの表面をなでる
ようにして通過してしまうため、基板Ｂの表面に付着し
ている異物を確実に除去することができない場合が生じ
る。また、傾斜角度が８０°を越えると、基板Ｂの表裏
面に吐出された洗浄水Ｌが吐出点から跳ね返るため、吐
出された洗浄水Ｌの全量を基板Ｂに横断させることがで
きなくなり、洗浄水Ｌが無駄になるからである。また、
傾斜角度θは、基板Ｂの傾斜角度に応じて適宜設定され
る。ちなみに、本実施形態においては上記傾斜角度は略
３０°に設定されている。

【００５４】表面側処理液吐出手段６ａから基板Ｂの上
位側端縁Ｂｔの表面側に高圧で供給された洗浄水Ｌは、
図４に示すように、基板Ｂの表裏面を速い液流で下位側
端縁に向かって流れ、これによって基板Ｂの表面が洗浄
処理される。また、裏面側処理液吐出手段６ｂから高圧
で吐出される洗浄水Ｌは、補助板７の基板Ｂの上位側端
縁Ｂｔよりも外方に突出した部分に供給され、補助板７
の表面と基板Ｂの裏面との間の隙間Ｄを通って流下し、
この液流の上面が基板Ｂの裏面に接触することにより基
板Ｂの裏面が洗浄処理される。

【００５５】このように、搬送中の基板Ｂの下部には、
所定の隙間寸法ｄで補助板７が設けられているため、裏
面側処理液吐出手段６ｂから吐出された洗浄水Ｌは、途
中で基板Ｂの裏面から離れて落下することはなく、基板
Ｂの裏面は裏面側処理液吐出手段６ｂからの洗浄水Ｌに
よって確実に洗浄される。

【００５６】図５は、本発明の作用を説明するための説
明図であり、（イ）は基板Ｂの搬送方向下流側の先端部
が洗浄水吐出域Ａに侵入した直後の状態、（ロ）は基板
Ｂの基板搬送方向の中央部が洗浄水吐出域Ａに位置した
状態、（ハ）は基板Ｂが洗浄水吐出域Ａから導出された
状態をそれぞれ示している。

【００５７】まず、図５の（イ）に示すように、搬送ロ
ーラ５の駆動により上流側（左方）の基板通過口１１を
介して第１次水洗槽２１内に導入され、洗浄水吐出域Ａ
に侵入した基板Ｂは、その下流側先端部に洗浄水ポンプ
２３（図１、図２）の駆動で洗浄水管路２２ａを通して
処理液供給手段６の洗浄水吐出口６５から吐出された洗
浄水Ｌが基板Ｂを幅方向（図５の紙面の裏表方向）に横
断し、特に裏面側処理液吐出手段６ｂから吐出された洗
浄水Ｌは、補助板７の表面を流下し、これによって基板
Ｂの先端側の表裏面が洗浄される。

【００５８】ついで、図５の（ロ）に示すように、搬送
ローラ５の駆動によって基板Ｂの中央部が洗浄水吐出域
Ａに位置した状態になると、処理液供給手段６から吐出
された洗浄水Ｌは、基板Ｂの中央部に供給され、これに
よって基板Ｂの中央部が洗浄処理される。

【００５９】洗浄水吐出域Ａにおいて基板Ｂ上に供給さ
れた洗浄水Ｌは、高圧で処理液供給手段６から吐出され
ているため、高速で基板Ｂの表裏面を横断し、洗浄水吐
出域Ａを通過した基板Ｂの表裏面には、洗浄水Ｌが極め
て薄い薄膜状態で残留するのみの状態になっている。

【００６０】そして、図５の（ハ）に示すように、搬送
ローラ５の駆動で基板Ｂが完全に洗浄水吐出域Ａから外
れた状態になると、基板Ｂの表裏面はすでに洗浄水Ｌに
よる洗浄処理が完了し、かつ、基板Ｂの表裏面には極め
て薄い薄膜状態の洗浄水Ｌが存在するのみの液切れ状態
になっているため、次工程である第２次水洗部３（図
１）での水洗処理時に洗浄水Ｌの第２次水洗部３への混
入量を最小限に抑えることができるとともに、基板Ｂの
表裏面が部分乾燥することによる洗浄水Ｌに起因したパ
ーティクルの発生を確実に抑制することが可能になる。

【００６１】また、図５の（ハ）に示すように、基板Ｂ
が洗浄水吐出域Ａを通過した後も、表面側処理液吐出手
段６ａおよび裏面側処理液吐出手段６ｂの双方から吐出
された洗浄水Ｌが補助板７上を常に流下するようにすれ
ば、補助板７の表面は清浄に保持され、補助板７を設け
たことによる基板Ｂに対する汚染等の悪影響は生じな
い。

【００６２】図６は、表面側処理液吐出手段６ａに散水
配管（処理液供給手段）６０が付加された状態を示す斜
視図である。この実施形態においては、図２に示す実施
形態の第１次水洗槽２１がベースとして採用され、その
基板搬送方向の中央部に、搬送中の基板の上部を横断す
るように散水配管６０が設けられている。この散水配管
６０は、下面部に長手方向に亘って配列された複数の散
水ノズル６０１を有している。この散水ノズル６０１と
しては、コーンノズルや扇形ノズル等の通常のスプレー
ノズルが採用されている。

【００６３】そして、散水配管６０からは、散水ノズル
６０１を介して洗浄水吐出域Ａに向けて洗浄水Ｌが供給
されるようになっている。その他は、先の第１次水洗槽
２１と同一構成である。

【００６４】上記ような散水配管６０を処理液供給手段
６に追加することにより、処理液供給手段６から吐出さ
れる洗浄水Ｌに加え、散水配管６０からも洗浄水Ｌ１が
基板Ｂの表面に供給されるため、基板Ｂの表面上での洗
浄水Ｌの流れに乱流が生じ、乱流による混合で洗浄水Ｌ
と基板Ｂ主面との接触状態が均一になるとともに、散水
配管６０から供給される洗浄水Ｌの基板Ｂ主面への衝突
による衝撃によってパーティクルの除去が容易になり、
洗浄効率を向上させることができる。

【００６５】本発明は、上記の実施形態に限定されるも
のではなく、以下の内容をも包含するものである。

【００６６】（１）上記の実施形態においては、基板Ｂ
の表裏面を対象に高圧の洗浄水Ｌを吐出する表面側処理
液吐出手段６ａおよび裏面側処理液吐出手段６ｂが設け
られているが、これら処理液吐出手段６ａ，６ｂから通
常の圧力の洗浄水Ｌをコーンタイプや扇状タイプ等の通
常のノズルを介して基板Ｂの表裏面に供給するように
し、その代りに処理液供給手段６の搬送方向下流側に搬
送中の基板Ｂを幅方向に横断するようにエアナイフ等の
液切り手段を配設し、これで基板Ｂ表面の液切りを行う
ようにしてもよい。

【００６７】（２）上記の実施形態においては、基板処
理装置１０として第１次水洗槽２１が適用されている
が、第１次水洗槽２１に適用することに限定されるもの
ではなく、第２次水洗槽３１に適用してもよい。ただ
し、第２次水洗槽３１に適用する場合は、第１次水洗槽
２１の直後で行われる最初の水洗処理に適用し、その後
の水洗処理の洗浄水とは別系統にするのが好ましい。

【００６８】（３）上記の実施形態においては、処理液
として基板Ｂの表裏面を洗浄する洗浄水Ｌを用いている
が、洗浄水Ｌに代えて現像液、基板Ｂの表面に形成され
た金属薄膜をエッチングするエッチング液、エッチング
処理された基板Ｂの表面に被着したレジスト膜を剥離す
る剥離液、あるいは剥離液を置換するイソプロピルアル
コール等の置換液または剥離液を洗い流す純水であって
もよい。

【００６９】（４）上記の実施形態においては、補助板
７は搬送中の基板Ｂに対して平行になるように配設され
ているが、こうする代りに、補助板７と基板Ｂとの隙間
寸法が上位側より下位側の方が小さくなるように補助板
７を配設してもよい。このようにすることの一つの例と
して、補助板７の上位側から下位側に向かって、補助板
７の表面と基板Ｂの裏面との間の隙間寸法が漸減するよ
うに補助板７を配設することが挙げられる。こうするこ
とによって、補助板７の下位側での洗浄水Ｌの広がりに
よる液流厚みの減少に対応することが可能になり、補助
板７の下位側での基板Ｂの裏面と洗浄水Ｌとの接触を確
実に保証し得る。

【００７０】（５）上記の実施形態においては、補助板
７の上位側端縁は基板Ｂの上位側端縁より外方に突出さ
れ、この突出した部分に向けて裏面側処理液吐出手段６
ｂから洗浄水Ｌを吐出するようにしているが、逆に補助
板７を基板Ｂの上位側端縁と一致乃至は内側に没入させ
るようにし、その代りに裏面側処理液吐出手段６ｂを基
板搬送路の下部に設けてその洗浄水吐出口６５を基板Ｂ
の裏面側の上位端縁に対向させるようにし、洗浄水吐出
口６５から直接基板Ｂの裏面に洗浄水Ｌを吐出するよう
にしてもよい。

【００７１】こうすることによって、裏面側処理液吐出
手段６ｂから吐出された洗浄水Ｌは、一旦基板Ｂの上位
側の路面に衝突し、その勢いで基板Ｂの裏面に沿って流
下し、しかも、基板Ｂの下位側では補助板７に阻止され
て基板Ｂの裏面から離脱することはないため、基板Ｂの
裏面は確実に洗浄処理される。また、こうすることによ
って表面側処理液吐出手段６ａと裏面側処理液吐出手段
６ｂとは基板搬送路を挟んで上下に配設されるため、基
板搬送路に沿って両処理液吐出手段６ａ，６ｂを並設し
た場合に比べて第１次水洗槽２１内の空間を有効に利用
することが可能になり、その分第１次水洗槽２１を縮小
することができる。

【００７２】

【発明の効果】請求項１記載の発明によれば、基板の裏
面側に対して所定の間隔を隔てて対向配置される補助板
を設け、この補助板と搬送中の基板との間の隙間に処理
液が供給されるように処理液を吐出する裏面側処理液供
給手段を備え、補助板の幅寸法を基板の幅寸法よりも長
く設定するとともに、補助板の上位側端縁を基板の上位
側端縁よりも上位位置に配置したため、裏面側処理液供
給手段から吐出された処理液は、搬送中の基板と補助板
との間の隙間に向かい、傾斜姿勢で搬送中の基板の裏面
と補助板との隙間を通って流下し、この間に基板の裏面
を処理液で処理することができる。

【００７３】そして、このように補助板を設けたことに
より、吐出された処理液は補助板上を流下するため、流
下途中で処理液が基板の裏面から離れて落下するような
不都合は生じず、基板の傾斜角度に拘らず処理液が確実
に基板の裏面に接触した状態になり、吐出された処理液
の全てを基板裏面の処理に費やすことが可能になる。従
って、流下途中での基板裏面からの液離れを見込んで余
分な処理液を吐出しなくてもよく、その分処理液の吐出
量を抑えることが可能になり、基板処理コストの低減を
図る上で有効である。

【００７４】請求項２記載の発明によれば、補助板を、
基板に対して１乃至５ｍｍの間隔で平行に対向配置した
ため、補助板に吐出された処理液は基板の裏面に確実に
接触した状態で処理板上を適切に流下し、間隔が１ｍｍ
未満である場合の処理液の流下不良や、間隔が５ｍｍを
越えた場合の処理液の基板裏面への非接触を確実に防止
することができる。

【００７５】請求項３記載の発明によれば、補助板を、
上位側よりも下位側の方が基板との間の隙間寸法が小さ
くなるように設けたため、補助板の下位側に向かうにつ
れて広がることによる処理液の厚み寸法の減少に対応す
ることが可能になり、補助板の下位側で処理液が基板裏
面に接触しなくなるという不都合を確実に防止すること
ができる。

【００７６】請求項４記載の発明によれば、裏面側処理
液供給手段として基板搬送方向に延びるスリット状の吐
出口を有しているものを採用したため、基板裏面には、
基板搬送方向に広範囲に亘って処理液が供給され、これ
によって基板処理効率を上昇させることが可能になる。

【００７７】請求項５記載の発明によれば、基板の上位
側端縁に向けて処理液を吐出する第１の表面側処理液供
給手段を備えたため、この供給手段からの処理液によっ
て基板の表裏面を同時に処理することができる。

【００７８】請求項６記載の発明によれば、基板搬送方
向と交差する方向に配設され、かつ、第１の表面側処理
液供給手段の処理液吐出域に処理液を供給する第２の処
理液供給手段を備えたため、第１の処理液供給手段から
の処理液の供給によって基板の表面で形成した液流に、
さらに第２の処理液供給手段からの処理液が重ねて供給
されることになり、これによって基板表面上に乱流が発
生し、この乱流による撹拌で基板表面に対する処理液の
接触状態が良好になり、基板表面の処理効率を向上させ
ることができる。

【００７９】特に、基板処理装置が洗浄処理を行うもの
である場合には、上記処理液供給手段から供給された処
理液が基板の表面に衝突する際の衝撃効果により基板の
表面に付着しているパーティクルの除去が容易となり、
洗浄効果の向上を図る上での効果は大きい。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る基板処理装置が適用された基板処
理装置群の一実施形態を示す説明図である。

【図２】第１次水洗槽の一実施形態を示す一部切欠き斜
視図である。

【図３】処理液吐出手段の一実施形態を示す一部切欠き
斜視図である。

【図４】処理液吐出手段から吐出された洗浄水の基板表
裏面における流れを示す側面視の説明図である。

【図５】本発明の作用を説明するための説明図であり、
（イ）は基板の搬送方向下流側の先端部が洗浄水吐出域
に侵入した直後の状態、（ロ）は基板の基板搬送方向の
中央部が洗浄水吐出域に位置した状態、（ハ）は基板が
洗浄水吐出域から導出された状態をそれぞれ示してい
る。

【図６】表面側処理液吐出手段に散水配管が付加された
状態を示す斜視図である。

【符号の説明】

１基板処理装置群１１基板通過口１ａ薬液処理部１ｂ薬液処理槽２第１次水洗部２１第１次水洗槽２２洗浄水貯留槽２３洗浄水ポンプ３第２次水洗部４乾燥部５搬送ローラ６処理液吐出手段６０散水配管６ａ表面側処理液吐出手段６ｂ裏面側処理液吐出手段７補助板Ａ洗浄水吐出域Ｌ洗浄水

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【手続補正書】

【提出日】平成８年６月２４日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】請求項１

【補正方法】変更

【補正内容】

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１３

【補正方法】変更

【補正内容】

【００１３】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
基板搬送方向と直交した面内で水平方向に対して傾斜し
た姿勢で搬送される基板の表裏面に処理液を供給して処
理を行う基板処理装置において、基板搬送路に沿って設
けられるとともに、搬送中の基板の裏面側と所定の間隔
を隔てて対向配置され、幅寸法が基板の幅寸法より長
く、かつ、上位側端縁が基板の上位側端縁より高い位置
に固定された補助板と、この補助板の上位側から上記隙
間に処理液を供給する裏面側処理液供給手段とが備えら
れていることを特徴とするものである。

【手続補正３】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００３９

【補正方法】変更

【補正内容】

【００３９】この補助板７は、図３および図４に示すよ
うに、幅寸法が、基板Ｂの幅寸法よりも長めに設定さ
れ、その上位側端縁７１が搬送中の基板Ｂの上位側端縁
Ｂｔから外方に向かって所定長だけ突出するとともに、
下位側端縁が搬送中の基板の下位側端縁よりも若干外方
に突出するように寸法設定されている。そして、裏面側
処理液吐出手段６ｂは、吐出された洗浄水Ｌが上記隙間
Ｄ内を流下する際に、液流の表面側が基板Ｂの裏面に接
触する量に設定されており、これにより基板Ｂの裏面が
洗浄されるようにしている。

【手続補正４】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００５３

【補正方法】変更

【補正内容】

【０００５３】図４において、上記各処理液供給手段６
の水平面に対する傾斜角度θは、５°〜８０°の範囲内
の角度に設定されている。上記傾斜角度θを５°〜８０
°に設定したのは、傾斜角度θが５°未満であると、液
噴射口４３ａから噴射された噴射液流が基板Ｂの表面を
なでるようにして通過してしまうため、基板Ｂの表面に
付着している異物を確実に除去することができない場合
が生じる。また、傾斜角度θが８０°を越えると、基板
Ｂの表裏面に吐出された洗浄水Ｌが吐出点から跳ね返る
ため、吐出された洗浄水Ｌの全量を基板Ｂに横断させる
ことができなくなり、洗浄水Ｌが無駄になるからであ
る。また、傾斜角度θは、基板Ｂの傾斜角度に応じて適
宜設定される。ちなみに、本実施形態においては上記傾
斜角度θは略３０°に設定されている。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｈ０１Ｌ 21/304 ３４１Ｈ０１Ｌ 21/68 Ａ 21/68 21/30 ５６９Ｄ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板搬送方向と直交した面内で水平方向
に対して傾斜した傾斜姿勢で搬送される基板の表裏面に
処理液を供給して処理を行う基板処理装置において、基板搬送路に沿って設けられるとともに、搬送中の基板
の裏面側と所定の間隔を隔てて対向配置され、幅寸法が
基板の幅寸法より長く、かつ、上位側端縁が基板の上位
側端縁より高い位置に固定された補助板と、この補助板
の上位側から上記隙間に処理液を供給する裏面側処理液
供給手段とが備えられていることを特徴とする基板処理
装置。
【請求項２】上記補助板は、上記基板に対して１乃至
５ｍｍの間隔で平行に対向配置されていることを特徴と
する請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】上記補助板は、上記基板との間隔が上位
側より下位側で小さくなるように対向配置されているこ
とを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項４】上記裏面側処理液吐出手段は、基板搬送
方向に延びるスリット状の吐出口を有していることを特
徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の基板処理装
置。
【請求項５】搬送中の基板の上位側端縁に向けて処理
液を供給する第１の表面側処理液供給手段を備えたこと
を特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の基板処
理装置。
【請求項６】基板搬送方向と交差する方向に配設さ
れ、かつ、上記第１の表面側処理液供給手段の処理液供
給域に処理液を供給する第２の処理液供給手段を備えた
ことを特徴とする請求項５記載の基板処理装置。