JPH09260327A

JPH09260327A - 基板処理装置

Info

Publication number: JPH09260327A
Application number: JP6678396A
Authority: JP
Inventors: Mitsuaki Yoshitani; 光明芳谷
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1996-03-22
Filing date: 1996-03-22
Publication date: 1997-10-03

Abstract

(57)【要約】【課題】設備の大型化を抑えた上で、基板の主面の処
理液の液切りを確実に行わせ得るようにする。【解決手段】水平姿勢で搬送中の基板Ｂの表面に洗浄
水Ｌを供給して所定の処理を施す基板処理装置におい
て、上記洗浄水Ｌの液カーテンを搬送方向に沿うように
基板Ｂの表面に吐出する液吐出部材６と、この液吐出部
材６の前後端に基板Ｂを横断するように配設され、か
つ、上記液吐出部材６からの洗浄水Ｌの吐出域からの漏
洩を防止する前後方向一対の液切りローラ７とを備えて
いる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、フォトレジスト塗
布液、感光性ポリイミド樹脂、カラーフィルター用の染
色剤等からなる薄膜が表面に形成された液晶用のガラス
基板、フォトマスク用のガラス基板等を対象とし、これ
ら基板の表面に所定の処理液を供給することによって処
理する基板処理装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、基板に薬液供給処理が施された
後、洗浄水による洗浄処理を施してから後工程に搬送す
るようにした基板処理装置が知られている。かかる基板
処理装置は、薬液処理部、水洗部および乾燥部が直列に
配設されて形成されている。これら薬液処理部、水洗部
および乾燥部を貫通するように基板の搬送手段が敷設さ
れ、基板はこの搬送手段によって基板処理装置内を薬液
処理部、水洗部および乾燥部の順に搬送されつつ処理さ
れる。

【０００３】そして基板は、薬液処理部においてアルカ
リ洗浄液、現像液、エッチング液あるいは剥離液等の薬
液が表面に供給されて所定の処理が施され、ついで水洗
部において水洗処理が施され、最後に乾燥部において気
体の噴射等による乾燥処理が行われるようになってい
る。

【０００４】通常、薬液処理部と水洗部との境界部分に
エアーナイフが配設され、その気体吐出口から基板の表
面に向けてカーテン状の気体を吹き付け、基板の表面に
付着している薬液を、基板の表面が乾燥しない程度に薬
液処理部内に向けて吹き飛ばし、これによって薬液の水
洗部への持ち込みを防止するようにしている。また、水
洗部においては、第１の水洗部と第２の水洗部とによる
少なくとも２段階の水洗処理が施され、水洗処理の完全
を期すようになされている。第１の水洗部と第２の水洗
部との間にもエアーナイフが採用され、薬液処理部の薬
液によって汚染された状態になり易い第１の洗浄水がよ
り清浄な処理水を用いる第２の水洗部に持ち込まれるの
を防止している。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年、
基板の大型化に伴い、基板の上流側が第１の水洗部で第
１の洗浄水の供給を受けつつ下流側が第２の水洗部で第
２の洗浄水の供給を受けるという工程の重複が生じるよ
うになり、たとえ第１の水洗部と第２の水洗部との境界
部分でエアーナイフから基板の表面に向けて気体を噴射
しても、基板の上流側の表面には第１の洗浄水が、下流
側の表面には第２の洗浄水が同時に供給された状態にな
るため、基板の表面を通って第１の洗浄水が第２の水洗
部に入り込んだり、逆に第２の洗浄水が第１の水洗部に
移動したりすることがあり、境界部分において洗浄水の
確実な置換が行われなくなるという問題点が発生するよ
うになった。

【０００６】かかる問題点を解消するために、第１の水
洗部および第２の水洗部との間に未処理搬送部を設け、
基板が第１の水洗部と第２の水洗部との境界部分に差し
掛かった状態では、第１の洗浄水および第２の洗浄水の
いずれもが基板に供給されないようにすることが考えら
れるが、このようにすると処理槽を大型化しなければな
らず、設備コストが嵩むという新たな問題点が発生す
る。

【０００７】一方、処理槽が大型化することによって、
上記境界部分でエアーナイフから基板の表面に吐出され
る気体により基板の表面が乾燥してしまうことがあり、
基板の表面が乾燥すると、その部分にシミが生じる。そ
して、このシミは水洗処理によっても取り除くことがで
きず、最終的に基板が乾燥処理された後にこのシミから
パーティクルが発生し、これによって基板の表面が再汚
染されるという問題点も有している。

【０００８】本発明は、上記のような問題点を解決する
ためになされたものであり、設備の大型化を抑えた上
で、基板表面の処理液の液切りを確実に行わせ得る基板
処理装置を提供することを目的としている。

【０００９】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
水平姿勢で搬送中の基板の主面に対して所定の処理を施
す基板処理装置において、基板の主面に処理液を供給す
る処理液供給手段と、この処理液供給手段に対し搬送方
向の前後位置であって、基板搬送方向に交差する向きに
配設され、かつ、上記前後位置に対し搬送方向の両外側
への処理液の漏洩を防止する処理液漏洩防止手段とを備
えたことを特徴とするものである。

【００１０】この発明によれば、搬送中の基板の主面に
向けて処理液供給手段から供給された処理液は、処理液
漏洩防止手段間の基板上に供給され、これによって基板
の主面は処理液により所定の処理が施される。そして、
処理後の処理液は、一対の処理液漏洩防止手段によって
基板の前後に漏出することが抑制されるため、下流側へ
の基板に伴う処理液の持ち込みが抑制される。

【００１１】請求項２記載の発明は、請求項１記載の発
明において、上記処理液供給手段は帯状の液吐出口を有
する液吐出部材であることを特徴とするものである。

【００１２】この発明によれば、搬送中の基板の主面に
は液吐出部材から帯状で処理液が吐出されるため、基板
の主面が帯状の速い液流に均一にさらされ、基板は均一
にかつより良好に処理される。

【００１３】請求項３記載の発明は、請求項２記載の発
明において、上記液吐出部材は、長尺の液吐出口が基板
搬送方向に直交する方向の中央部に基板の搬送方向と平
行に設けられていることを特徴とするものである。

【００１４】この発明によれば、液吐出部材から基板の
主面に吐出された処理液は、主面における衝突で幅方向
に略均等に二分され、基板の両側部から流下するため、
基板に対する処理液の供給状態が均一になる。

【００１５】請求項４記載の発明は、請求項２または３
記載の基板処理装置において、上記液漏洩防止部材は、
自軸心回りに回転可能に構成されたローラであることを
特徴とするものである。

【００１６】この発明によれば、ローラの外周面がたと
え基板に接触しても基板は回転するため、基板とローラ
との間にこすれ合いが生ぜず、両者のこすれ合いに起因
した基板の損傷が防止される。

【００１７】請求項５記載の発明は、請求項４記載の発
明において、上記ローラは、基板の幅方向の端縁部と当
接する両側部が中央部に比して大径であることを特徴と
するものである。

【００１８】この発明によれば、液置換ローラに到達し
た基板は、幅方向の両側部が大径部に当接し、これによ
って基板の中央部と液置換ローラの小径部との間に隙間
が形成されるため、基板中央部の有効部分が液置換ロー
ラに接触することがなく、この接触に起因した基板主面
の有効部分の損傷が防止される。

【００１９】請求項６記載の発明は、請求項１乃至３の
いずれかに記載の発明において、上記処理液漏洩防止手
段間に、基板搬送方向に交差する向きに配設された第２
の処理液供給手段を備えたことを特徴とするものであ
る。

【００２０】この発明によれば、処理液供給手段からの
処理液の供給によって基板の主面上で形成した液流に、
さらに第２の処理液供給手段からの処理液が重ねて供給
されることになり、これによって基板主面上に乱流が発
生するため、この乱流による撹拌で基板主面に対する処
理液の接触状態が良好になり、基板主面の処理効率が向
上する。

【００２１】特に、基板処理装置が洗浄処理を行うもの
である場合には、上記第２の処理液供給手段から供給さ
れた処理液が基板の主面に衝突する際の衝撃効果により
基板の主面に付着しているパーティクルの除去が容易と
なり、洗浄効果が向上する。

【００２２】

【発明の実施の形態】図１は、本発明に係る基板処理装
置が適用された基板処理装置群の一実施形態を示す説明
図である。基板処理装置群１は、基板Ｂの主面に所定の
薬液を供給して薬液処理する薬液処理部１ａ、この薬液
処理部１ａで薬液処理された基板Ｂの主面に洗浄水を供
給して第１次の水洗処理を施す第１次水洗部２、この第
１次水洗部２で水洗処理された基板Ｂに第２次の水洗を
施す第２次水洗部３、およびこの第２次水洗部３で水洗
処理の施された基板Ｂを乾燥する乾燥部４が上流側（図
１の左方）から直列に順次配設されて形成されている。

【００２３】薬液処理部１ａ、第１次水洗部２、第２次
水洗部３および乾燥部４は、それぞれ箱型の薬液処理槽
１ｂ、第１次水洗槽２１、第２次水洗槽３１および乾燥
槽４１を備えて形成されている。各槽１ｂ，２１，３
１，４１の上流壁および下流壁には水平方向で互いに対
向した基板通過口１１が開口され、この基板通過口１１
を通して基板Ｂが各槽１ｂ，２１，３１，４１に入出さ
れるようになっている。

【００２４】基板Ｂを各槽１ｂ，２１，３１，４１内で
搬送する搬送手段としてはローラコンベアが適用されて
いる。このローラコンベアは、基板Ｂの搬送方向に直交
する向きの支持軸に設けられた搬送ローラ５が搬送方向
（図１の右方）に向けてほぼ等ピッチで並設配置されて
おり、図略の駆動手段の駆動によって同一方向に同期回
転されるようになっている。

【００２５】基板Ｂは、前工程からコンベアあるいはロ
ボット等の図略の上流側引継ぎ手段を介して第１次水洗
槽２１の上流側に配設された搬送ローラ５に移される。
ついで搬送ローラ５の駆動によって基板処理装置群１内
に導入され、ここで搬送ローラ５によって下流方向に向
けて搬送されつつ第１次水洗槽２１内において液吐出部
材６からの洗浄水の供給による処理が施され、ついで第
２次水洗槽３１内において上記と同一の液吐出部材６や
純水供給ノズル３２等からの洗浄水の供給による水洗処
理が施され、最後の乾燥槽４１においてエアナイフ４２
からの気体噴射供給による乾燥処理が施された後、乾燥
槽４１の直ぐ下流側に配設された搬送ローラ５に導出さ
れ、ロボット等からなる図略の下流側引継ぎ手段を介し
て次工程に向けて導出されるようになっている。

【００２６】上記液吐出部材６は、帯状の液吐出口を有
するもので、本実施形態では長尺の液吐出口が基板搬送
方向と直交する方向で基板の中央部に搬送方向と平行に
なるように設けられている。

【００２７】上記各槽１ｂ，２１，３１，４１内におい
ては、上記各搬送ローラ５はその軸心が基板Ｂの搬送方
向に対して直交する水平方向に延びるように配設されて
おり、これによって基板Ｂは各槽１ｂ，２１，３１，４
１内において水平姿勢で搬送方向に搬送されつつ処理さ
れる。

【００２８】本発明に係る基板処理装置１０は、本実施
形態においては第１次水洗部２に適用されている。以下
本発明に係る基板処理装置１０を第１次水洗部２に適用
されたもので説明する。図２は、第１次水洗槽２１の一
実施形態を示す一部切欠き斜視図であり、図３は、図２
に示す第１次水洗槽２１内部の液吐出部材６および液切
りローラ７の配置状態を示す斜視図である。図２に示す
ように、第１次水洗槽２１内には、上流側および下流側
の基板通過口１１間に、同一高さレベルで搬送方向（右
方）に向かって５本の搬送ローラ５（図１）が配設さ
れ、図略の駆動手段による各搬送ローラ５の同一方向の
同期回転によって、上流側の基板通過口１１から第１次
水洗槽２１内に導入された基板Ｂは、下流側の基板通過
口１１に向けて第１次水洗槽２１内を搬送されるように
なっている。

【００２９】上記搬送ローラ５は、図２に示すように、
第１次水洗槽２１内の側壁間に自軸心回りに回転可能に
架橋されたローラ軸５１と、このローラ軸５１の左右両
側部にローラ軸５１と共回り可能に設けられた左右一対
の側部ローラ５２と、ローラ軸５１の中央部に設けられ
た中央ローラ５３とから形成された、いわゆる部分支持
型ローラが採用されている。かかる部分支持型ローラを
適用することにより、搬送ローラ５による基板Ｂ裏面の
接触域を少なくし、基板Ｂ裏面への洗浄水や気体の供給
を良好に行い得るとともに、洗浄工程や乾燥工程におけ
る搬送ローラ５と基板Ｂの裏面との接触による汚染を最
小限に抑えることが可能になる。

【００３０】上記左右の側部ローラ５２は、各々その外
方側部に鍔部５２ａを有しており、この鍔部５２ａによ
って各ローラ５２，５３上に載置され、搬送される基板
Ｂの横ずれを防止している。また、各ローラ５２，５３
にはゴム等の柔軟性材料からなる緩衝材としてのＯリン
グ５４が外嵌されており、このＯリング５４の滑り止め
作用によって基板Ｂの搬送を確実に行い得るようにして
いる。

【００３１】第１次水洗槽２１内には、搬送方向の略中
央部であって、搬送ローラ５の上方位置に第１次水洗槽
２１の側壁間に差し渡された状態で固定された井桁状の
支持枠体２５が設けられている。この支持枠体２５の幅
方向の略中央部に、下方に向いたスリット状の吐出口を
搬送方向に沿わせるようにして配置された液吐出部材６
が固定されているとともに、この液吐出部材６の直ぐ上
流側および直ぐ下流側に幅方向に延びた前後方向一対の
液切りローラ７が設けられている。そして、基板Ｂ上の
一対の液切りローラ７間に幅方向に液吐出部材６から洗
浄水Ｌを吐出する処理液吐出域Ａが形成されている。

【００３２】一方、第１次水洗槽２１の近傍には上記液
吐出部材６に供給するための洗浄水Ｌを貯留する洗浄水
貯留槽２２が配設されている。この洗浄水貯留槽２２と
上記液吐出部材６との間に洗浄水管路２２ａが配設され
ているとともに、第１次水洗槽２１の底部と洗浄水貯留
槽２２の上部との間には洗浄水戻り管路２２ｂが配設さ
れ、これら洗浄水管路２２ａおよび洗浄水戻り管路２２
ｂによって洗浄水貯留槽２２内の洗浄水Ｌを液吐出部材
６を介して循環させる循環管路が形成されている。

【００３３】また、上記洗浄水貯留槽２２の直ぐ下流側
の洗浄水管路２２ａには洗浄水ポンプ２３が設けられて
いるとともに、洗浄水ポンプ２３の直ぐ下流側にはフィ
ルター２４が設けられている。従って、洗浄水ポンプ２
３を駆動することにより、洗浄水貯留槽２２内の洗浄水
Ｌは、洗浄水管路２２ａを通してまずフィルター２４で
異物が除去され、ついで液吐出部材６から搬送ローラ５
上の基板Ｂの表面中央部に向けて吐出され、基板Ｂの表
面を幅方向の両側に流れた後、基板Ｂの両側部から第１
次水洗槽２１の底部に流下し、洗浄水戻り管路２２ｂを
介して洗浄水貯留槽２２に戻され、以後、循環使用され
る。

【００３４】図３は、液吐出部材６および液切りローラ
７の一実施形態を示す一部切欠き斜視図である。まず、
液吐出部材６は、搬送方向の前後位置方向へ延びる長尺
直方体状の部材本体６１と、この部材本体６１の下部か
ら延設された先細りのノズル部６２とを備えて形成され
ている。上記部材本体６１は、内部に長手方向に延びる
洗浄水供給管路６３を有しているとともに、頂部に雄ネ
ジの螺設された接続筒６４を有している。この接続筒６
４に洗浄水管路２２ａの下流端に設けられたジョイント
２２ｃが螺着されることにより、洗浄水管路２２ａが液
吐出部材６に接続されるようになっている。

【００３５】また、上記ノズル部６２には、洗浄水供給
管路６３に連通した長手方向に延びるスリット状の洗浄
水吐出口６５が設けられており、洗浄水管路２２ａを通
して部材本体６１の洗浄水供給管路６３に供給された洗
浄水Ｌは、洗浄水吐出口６５から基板Ｂ上に供給され
る。

【００３６】上記液切りローラ７は、基板Ｂの幅方向に
延びる液切りローラ軸７１と、この液切りローラ軸７１
の両側部に設けられたフランジ部（大径部）７２と、こ
れらフランジ７２に挟持され、かつ、大径部７２より若
干小径の液切り部（小径部）７３とから構成されてい
る。上記液切り部７３は、フランジ部７２が基板Ｂの幅
方向の上縁部に当接するように長さ寸法が設定されてい
る。従って、基板Ｂが液切りローラ７の下部に搬送され
た状態で、基板Ｂの幅方向の両側部は側部ローラ５２
（図２）の外周面とフランジ部７２の外周面とに挟持さ
れ、これによって基板Ｂの表面中央部と液切り部７３の
外周面との間には距離Ｓの隙間が形成された状態になっ
ている。

【００３７】上記隙間の距離Ｓは、基板Ｂ上に前後の液
切りローラ７により形成された処理液吐出域Ａに液吐出
部材６から吐出された洗浄水Ｌが、表面張力によって漏
れ出ない寸法に設定されている。本実施例では、上記隙
間Ｓは０．１〜４．０ｍｍ好ましくは０．１〜０．３ｍ
ｍに設定され、これによって、基板Ｂの表面中央部に形
成された有効エリアが液切りローラ７との接触による損
傷を受けないようにしているとともに、処理液吐出域Ａ
に供給された洗浄水Ｌが液切りローラ７の外側に漏出し
ないようにしている。

【００３８】また、液切りローラ７は、上記搬送ローラ
５に対向して設けられ、これによって液切りローラ７に
到達した基板Ｂは、搬送ローラ５上にあって、かつ、幅
方向の端縁が搬送ローラ５の側部ローラ５２と、液切り
ローラ７のフランジ部７２とに挾持されて安定した状態
になり、これによって基板Ｂの撓みが抑制され、隙間Ｓ
の一定化を確保した状態で液切り部７３による液切りが
確実に行われるようにしている。

【００３９】図４は、本発明の作用を説明するための説
明図であり、（イ）は基板Ｂの下流側の先端部が処理液
吐出域Ａに侵入した直後の状態、（ロ）は基板Ｂの前後
方向の中央部が処理液吐出域Ａに位置した状態、（ハ）
は基板Ｂが処理液吐出域Ａを通過した状態をそれぞれ示
している。

【００４０】まず、図４の（イ）に示すように、搬送ロ
ーラ５の駆動により上流側（左方）の基板通過口１１を
介して第１次水洗槽２１内に導入され、前後方向一対の
液切りローラ７間の処理液吐出域Ａに侵入した基板Ｂ
は、その下流側先端部に洗浄水ポンプ２３（図１、図
２）の駆動で洗浄水管路２２ａを通して液吐出部材６の
洗浄水吐出口６５から吐出された洗浄水Ｌが供給され、
これによって基板Ｂの先端側の表面が水洗処理され、処
理後の洗浄水Ｌは基板Ｂの下流側端縁を通って第１次水
洗槽２１の底部に流下する。そして、この状態で処理液
吐出域Ａにある基板Ｂに液吐出部材６から吐出された洗
浄水Ｌは、上流側の液切りローラ７によって上流側への
漏出が阻止されるため、洗浄水Ｌが基板Ｂの表面を伝っ
て基板Ｂの後端縁から第１次水洗槽２１外に漏れ出ると
いう不都合が回避される。

【００４１】ついで、図４の（ロ）に示すように、搬送
ローラ５の駆動によって基板Ｂの中央部が処理液吐出域
Ａに位置した状態になると、液吐出部材６から吐出され
た洗浄水Ｌは、一対の液切りローラ７間にある基板Ｂの
中央部に供給され、これによって基板Ｂの中央部が水洗
処理され、処理後の洗浄水Ｌは基板Ｂの両側部を通って
第１次水洗槽２１の底部に流下する。

【００４２】そして、この場合、基板Ｂ上の処理液吐出
域Ａに供給された洗浄水Ｌは、下流側の液切りローラ７
に阻止されて液切りローラ７を越えて下流側に漏出しな
いため、下流側の液切りローラ７を通過した基板Ｂの表
面は、洗浄水Ｌが極めて薄い薄膜状態で残留している状
態になっている。

【００４３】さらに、図４の（ハ）に示すように、搬送
ローラ５の駆動で基板Ｂが処理液吐出域Ａから完全に外
れた状態になると、基板Ｂの表面はすでに洗浄水Ｌによ
る水洗処理が完了し、かつ、基板Ｂの表面には極めて薄
い薄膜状態の洗浄水Ｌが存在するのみの液切れ状態にな
っているため、次工程である第２水洗部３（図１）での
水洗処理時に洗浄水Ｌの洗浄水への混入量を最小限に抑
えることができるとともに、基板Ｂの表面が部分乾燥す
ることによる洗浄水Ｌに起因したパーティクルの発生を
確実に抑制することが可能になる。

【００４４】図５は、第１次水洗槽２１内における処理
液供給手段の配置を他の実施形態で示す斜視図である。
この実施形態においては、液吐出部材６の上部に、処理
液吐出域Ａを基板Ｂの幅方向に横断するように散水配管
（第２の処理液供給手段）６０が配設され、液吐出部材
６からの洗浄水Ｌの吐出に加えてこの散水配管６０から
も基板Ｂに向けてスプレーされるようにしている。この
散水配管６０は、その下面に複数の扇型、フルコーン
型、あるいはストレート型等の散水ノズル６０１を有
し、これらの散水ノズル６０１から洗浄水Ｌがスプレー
される。

【００４５】このように液吐出部材６に加えて散水配管
６０からも基板Ｂの主面に洗浄水Ｌを供給することによ
って、基板Ｂ上での洗浄水Ｌの流れに乱流が発生し、洗
浄水Ｌが十分に撹拌された状態で基板Ｂに接触するた
め、洗浄水Ｌによる処理効率を向上させることが可能に
なる。

【００４６】本発明は、上記の実施形態に限定されるも
のではなく、以下の内容をも包含するものである。

【００４７】（１）上記の実施形態においては、基板処
理装置１０として第１次水洗槽２１が適用されている
が、第１次水洗槽２１に適用することに限定されるもの
ではなく、第２次水洗槽３１に適用してもよい。ただ
し、第２次水洗槽３１に適用する場合は、第２次水洗槽
３１の最初に行われる第１段階の水洗処理に適用し、循
環使用する洗浄水Ｌはその後の水洗処理の洗浄水とは別
系統にするのが好ましい。

【００４８】（２）上記の実施形態においては、処理液
として基板Ｂの表面を洗浄する洗浄水Ｌが用いられてい
るが、洗浄水Ｌに代えて現像液、エッチング液、現像液
やエッチング液であってもよい。さらに、処理液は、エ
ッチング処理された基板Ｂの表面に被着したレジスト膜
を剥離する剥離液、あるいは剥離液を置換するイソプロ
ピルアルコール等の置換液または剥離液を洗い流す純水
であってもよい。

【００４９】（３）上記の実施形態においては、第１次
水洗槽２１内の基板Ｂ上には、前後方向一対の液切りロ
ーラ７によって１枚の基板Ｂ当り一つの処理液吐出域Ａ
が形成されているが、基板Ｂ上に２本以上の液切りロー
ラ７を配設し、これによって複数の処理液吐出域が形成
されるようにしてもよい。こうすることによって、１枚
の基板Ｂを対象にして処理液吐出域毎に異なる種類の処
理液を供給することが可能になり、その結果複数の処理
槽を一つにまとめることができるため、設備コストの削
減を図る上で有効である。ただし、この場合、各処理液
吐出域Ａを区切る液切りローラ７の下部には槽の仕切り
を設け、基板Ｂから処理槽に流下する異なる種類の処理
液が相互に混ざり合わないようにするのが好ましい。

【００５０】（４）上記の実施形態においては、液吐出
部材６は、第１次水洗槽２１内で基板Ｂの搬送方向に延
びるように配設されているが、本発明は液吐出部材６を
搬送方向に延びるように設けることに限定されるもので
はなく、基板Ｂを幅方向に横断するように設けてもよい
し、斜めに設けてもよい。

【００５１】（５）上記の実施形態においては、液吐出
部材６および液切りローラ７は基板Ｂの表面側に設けら
れているが、これに加えて液吐出部材６を幅方向に横断
させるようにして基板Ｂの裏面側にも設けてもよい。

【００５２】（６）上記の実施形態においては、液切り
ローラ７の液切り部７３と、基板Ｂ表面との間の隙間Ｓ
の寸法は、上流側と下流側とが同一寸法に設定されてい
るが、下流側の隙間Ｓを上流側の隙間Ｓより小さくする
等、状況に応じて上流側と下流側とで異ならせるように
してもよい。

【００５３】（７）上記の実施形態においては、下流側
の液切りローラ７の液切り部７３は、フランジ部７２と
一体に共回りするようにしてあるが、こうする代わりに
別途設けた駆動手段によって液切り部７３をフランジ部
７２と逆回転させるようにしてもよい。これによって処
理液吐出域Ａにある洗浄水Ｌの基板Ｂ上での液切り部７
３を介した漏洩を防止する効果が向上する。

【００５４】

【発明の効果】請求項１記載の発明によれば、基板処理
装置は、処理液を帯状で基板の主面に吐出する処理液供
給手段と、この処理液供給手段の搬送方向前後位置に基
板を横断するように配設された処理液漏洩防止手段とを
備えているため、処理液供給手段から基板に供給された
処理液は、その基板の主面上の吐出域からの漏洩が上記
処理液漏洩防止手段によって防止され、基板の主面の処
理液漏洩防止手段よりも下流側の部分は処理液がほとん
ど取り除かれ、極めて薄い薄膜状態の処理液が存在する
のみの、いわゆる液切り状態になる。従って、従来のよ
うにエアーナイフ等の液切り手段を別途設ける必要はな
く、基板処理装置の設備コストの低減に寄与するととも
に、エアナイフを用いた場合の基板主面の部分乾燥が確
実に防止されるため、部分乾燥に起因したパーティクル
の発生が確実に抑制され、パーティクルの発生による基
板の汚染を確実に防止することができる。

【００５５】請求項２記載の発明によれば、処理液供給
手段として帯状の液吐出口を有する液吐出部材が用いら
れているため、搬送中の基板の主面には液吐出部材から
帯状で処理液が吐出されるため、基板の主面が帯状の速
い液流に均一にさらされ、基板を均一にかつより良好に
処理することができる。

【００５６】請求項３記載の発明によれば、液吐出部材
は、長尺の液吐出口が基板搬送方向に直交する方向の中
央部に基板の搬送方向と平行に設けられているため、処
理液供給手段から基板の主面に吐出された処理液は、主
面における衝突で幅方向に略均等に二分され、基板に対
する処理液の供給状態を均一にすることが可能になる。

【００５７】請求項４記載の発明によれば、液漏洩防止
部材として自軸心回りに回転可能に構成されたローラが
用いられているため、ローラの外周面がたとえ基板に接
触しても基板は回転するため、基板とローラとの間にこ
すれ合いが生ぜず、両者のこすれ合いに起因した基板の
損傷が防止できる。

【００５８】請求項５記載の発明によれば、ローラは、
基板の幅方向の端縁部と当接する両側部が中央部に比し
て大径にしてあるため、処理液漏洩防止手段に到達した
基板は、幅方向の両側部が大径部に当接し、これによっ
て基板の中央部と処理液漏洩防止手段の小径部との間に
隙間が形成され、基板中央部の有効部分が処理液漏洩防
止手段に接触することがなく、基板表面の有効部分の損
傷を確実に防止することができる。

【００５９】請求項６記載の発明によれば、処理液漏洩
防止手段間に、基板搬送方向に交差する向きに配設され
た第２の処理液供給手段を備えたため、処理液供給手段
からの処理液の供給によって基板の主面上で形成した液
流に、さらに第２の処理液供給手段からの処理液が重ね
て供給されることになり、これによって基板主面上に乱
流が発生し、この乱流による撹拌で基板主面に対する処
理液の接触状態が良好になり、基板主面の処理効率を向
上させることができる。

【００６０】特に、基板処理装置が洗浄処理を行うもの
である場合には、上記第２の処理液供給手段から供給さ
れた処理液が基板の主面に衝突する際の衝撃効果により
基板の主面に付着しているパーティクルの除去が容易と
なり、洗浄効果を向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る基板処理装置が適用された基板処
理装置群の一実施形態を示す説明図である。

【図２】第１次水洗槽の一実施形態を示す一部切欠き斜
視図である。

【図３】液吐出部材および液切りローラの一実施形態を
示す一部切欠き斜視図である。

【図４】本発明の作用を説明するための説明図であり、
（イ）は基板の下流側の先端部が処理液吐出域に侵入し
た直後の状態、（ロ）は基板の前後方向の中央部が処理
液吐出域に位置した状態、（ハ）は基板が処理液吐出域
から導出された状態をそれぞれ示している。

【図５】第１次水洗槽内の処理液供給手段の配置の他の
実施形態を示す斜視図である。

【符号の説明】

１基板処理装置群１０基板処理装置１１基板通過口１ａ薬液処理部２第１水洗部２１第１次水洗槽２２洗浄水貯留槽２２ａ洗浄水管路２２ｂ洗浄水戻り管路２３洗浄水ポンプ２４フィルター３第２次水洗部３１第２次水洗槽３２純水供給ノズル４乾燥部４１乾燥槽４２エアナイフ５搬送ローラ５１ローラ軸５２側部ローラ５２ａ鍔部５３中央ローラ５４Ｏリング６液吐出部材６１部材本体６２ノズル部６３洗浄水供給管路６４接続筒６５洗浄水吐出口７液切りローラ７１液切りローラ軸７２フランジ部Ａ処理液吐出域Ｂ基板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｈ０１Ｌ 21/68 Ａ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】水平姿勢で搬送中の基板の主面に対して
所定の処理を施す基板処理装置において、基板の主面に
処理液を供給する処理液供給手段と、この処理液供給手
段に対し搬送方向の前後位置であって、基板搬送方向に
交差する向きに配設され、かつ、上記前後位置に対し搬
送方向の両外側への処理液の漏洩を防止する処理液漏洩
防止手段とを備えたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】上記処理液供給手段は帯状の液吐出口を
有する液吐出部材であることを特徴とする請求項１記載
の基板搬送装置。
【請求項３】上記液吐出部材は、長尺の液吐出口が基
板搬送方向に直交する方向の中央部に基板の搬送方向と
平行に設けられていることを特徴とする請求項２記載の
基板処理装置。
【請求項４】上記液漏洩防止部材は、自軸心回りに回
転可能に構成されたローラであることを特徴とする請求
項２または３記載の基板処理装置。
【請求項５】上記ローラは、基板の幅方向の端縁部と
当接する両側部が中央部に比して大径であることを特徴
とする請求項４記載の基板処理装置。
【請求項６】請求項１乃至３のいずれかに記載の基板
処理装置において、上記処理液漏洩防止手段間に、基板
搬送方向に交差する向きに配設された第２の処理液供給
手段を備えたことを特徴とする基板処理装置。