JPH09225420A - 基板処理装置 - Google Patents

基板処理装置

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JPH09225420A
JPH09225420A JP8038374A JP3837496A JPH09225420A JP H09225420 A JPH09225420 A JP H09225420A JP 8038374 A JP8038374 A JP 8038374A JP 3837496 A JP3837496 A JP 3837496A JP H09225420 A JPH09225420 A JP H09225420A
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JP
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liquid
main surface
pressure
roller
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JP8038374A
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Mitsuaki Yoshitani
光明 芳谷
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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    • H01L21/67706—Mechanical details, e.g. roller, belt

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板の主面に処理ムラが生じず、しかも運転
コストの増加を抑制した状態で高圧の処理液を基板の主
面に供給して基板処理効率を向上させるようにする。 【解決手段】 水平方向に延びる基板搬送路５ａに沿っ
て搬送されつつある基板Ｂの主面に処理液を供給して所
定の処理を施す基板処理装置であって、上記基板搬送路
５ａを横断し、かつ、下端部と搬送中の基板Ｂの主面と
の間に隙間を備えるように配設された第１液溜めローラ
８ａと、吐出口がこの第１液溜めローラ８ａの下流側に
上記隙間に向かうように配設され、かつ、高圧の処理液
を吐出する高圧ノズル７１とを備えている。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、フォトレジスト塗
布液、感光性ポリイミド樹脂、カラーフィルター用の染
色剤などの薄膜が主面に形成された液晶用のガラス基
板、フォトマスク用のガラス基板等を対象とし、これら
基板の主面に所定の処理液を供給することによって処理
する基板処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、基板に薬液を供給して処理した
後、洗浄水による洗浄処理を施してから後工程に搬送す
るようにした基板処理装置が知られている。かかる基板
処理装置は、薬液処理部、水洗部および乾燥部が直列に
配設されて形成されている。これら薬液処理部、水洗部
および乾燥部を貫通するように基板の搬送手段が敷設さ
れ、基板はこの搬送手段によって基板処理装置内を薬液
処理部、水洗部および乾燥部の順に搬送されつつ処理さ
れる。
【０００３】そして基板は、薬液処理部においてアルカ
リ洗浄液、現像液、エッチング液あるいは剥離液等の薬
液が主面に供給されて所定の処理が施され、ついで水洗
部において水洗処理が施され、最後に乾燥部において気
体の噴射等による乾燥処理が行われるようになってい
る。
【０００４】通常、基板は薬液処理部や水洗部において
その主面に散水ノズルから散液される薬液や洗浄水（以
下処理液という）の供給を受けて処理されるが、散水ノ
ズルからのソフトな散液では、基板の主面が単に処理液
によって濡らされるだけであるため、処理液の作用が基
板主面に強力に及ばないという不都合が存在した。特に
基板の主面を洗浄処理する場合、散水ノズルからの散液
だけでは主面に付着した異物を確実に除去することがで
きない。
【０００５】かかる不都合を解消するものとして、基板
の主面に向けて高圧ノズルから高圧の処理液を吐出する
基板処理装置が提案されている（例えば実開平３−５４
９１６号公報）。このようにすると、高圧ノズルから吐
出された処理液が高速で基板主面に衝突し、処理液の基
板主面に対する接触状態が良好になるとともに、衝突時
の衝撃で異物の除去も行われる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところで、高圧ノズル
から処理液を高圧で吐出すると、吐出された処理液の基
板主面上での圧力分布が不均一になり易く、そのため基
板主面の処理状態にバラツキが生じ、このバラツキがそ
のまま基板の処理状態に影響を与え、処理ムラが生じる
という問題が起こる。
【０００７】かかる問題を解消するものとして、高圧ノ
ズルと基板との距離を大きくして複数の高圧ノズルを設
け、この高圧ノズルからの吐出域を基板主面上で重複さ
せるようにする方式や、基板の主面（表面）上にフード
を被せた状態で高圧の処理液を供給し、フード内に液溜
りを形成させ、この液溜りで高圧吐出された処理液の圧
力分布の不均一を緩和する方式の採用が考えられる。
【０００８】しかしながら、前者の高圧ノズルと基板と
の距離を大きくする方式では、基板主面上での処理液の
圧力が低下し、高圧であることの利点が消失するため、
処理液の圧力をさらに高圧にしたり、吐出量を増加させ
る必要があり、これによって運転コストが増加し、経済
的に不利になるという新たな問題点が発生する。
【０００９】また、後者の基板の主面上にフードを被せ
る方式では、処理液の吐出量とフード内からの流出量と
のバランスを維持して基板主面上に液溜りを形成するた
めに、基板主面とフードの下端縁部との間の隙間寸法を
適正に設定する必要があるが、この隙間寸法の設定が非
常に困難であり、この隙間寸法が適切でないと基板主面
上に液溜りが形成されなくなるという問題を有してい
る。また、液溜りをつくるためには、大量の処理液を供
給しなければならず、運転コストが嵩むという問題点が
存在する。
【００１０】本発明は、上記のような問題点を解決する
ためになされたものであり、基板の主面に処理ムラが生
じず、しかも運転コストの増加を抑制した状態で高圧の
処理液を基板の主面に供給し、これによって基板処理効
率を向上させることができる基板処理装置を提供するこ
とを目的としている。
【００１１】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
水平方向に延びる基板搬送路に沿って搬送されつつある
基板の主面に処理液を供給して所定の処理を施す基板処
理装置において、上記基板搬送路を横断し、かつ、下端
部と搬送中の基板の主面との間に隙間を備えるように配
設された液溜め部材と、この液溜め部材の直ぐ下流側の
基板主面に向けて処理液を供給する処理液供給手段と、
上記隙間に向けて高圧で処理液を吐出することにより処
理液を上記隙間を通して基板主面の液溜め部材よりも上
流側に圧送する処理液吐出手段とを備えたことを特徴と
するものである。
【００１２】この発明によれば、処理液供給手段から処
理液を供給するとともに処理液吐出手段から高圧の処理
液を吐出させた状態で基板を基板搬送路に沿って搬送す
ることにより、基板の下流端が液溜め部材の下流側に到
達した時点から、基板の上流端が液留め部材を外れるま
での間、基板の主面と液留め部材とによって形成された
隅部空間に、処理液供給手段から供給された処理液が側
面視で略三角形状に滞留する液溜りが形成されるため、
この液溜りの緩衝作用によって処理液吐出手段から高圧
で吐出された処理液の吐出圧のバラツキが吸収され、こ
れによって基板の主面には、均一に高圧の処理液と接触
することによる処理ムラが生じない状態での処理が施さ
れる。
【００１３】そして、液溜りの処理液は、処理液吐出手
段から継続して吐出される高圧の処理液に押圧され、液
溜め部材の下端部に形成された基板の主面との間に隙間
を通って基板主面の上流側に押し出されるため、基板主
面の液溜りよりも下流側は、処理液が薄膜状態になって
おり、基板に伴った処理液の次工程への持込み量が最小
限度に抑えられる。
【００１４】また、上記隙間を通った処理液によって、
基板の主面は高圧の処理液が吐出されるまでに事前処理
されるので、これによって基板主面の処理効率が向上す
る。
【００１５】請求項２記載の発明は、請求項１記載の発
明において、上記液溜め部材は、支持軸回りに回転可能
に軸支されるとともに、基板両側部の非有効面のみに当
接して配設された液溜めロールであることを特徴とする
ものである。
【００１６】この発明によれば、常時隙間を制御するこ
とができるため、基板接触を防止することができる。ま
た、回転によって基板端部とローラとのこすれによる主
面の損傷および発塵が防止される。
【００１７】請求項３記載の発明は、請求項１または２
記載の発明において、上記液溜め部材の上流側に搬送中
の基板を横断し、かつ、下端部と搬送中の基板の主面と
の間に隙間を備えるように配設された第２の液溜め部材
を備えたことを特徴とするものである。
【００１８】この発明によれば、液溜め部材の下端部と
基板主面との間の隙間を通って主面の上流側に押し出さ
れた処理液は、第２の液溜め部材によって堰き止められ
るので、処理液が基板を伝わって前工程へ逆流すること
が防止できる。
【００１９】請求項４記載の発明は、請求項３記載の発
明において、上記第２の液溜め部材は、支持軸回りに回
転可能に軸支されるとともに、基板両側部の非有効面の
みに当接して配設された第２の液溜めロールであること
を特徴とするものである。
【００２０】この発明によれば、常時隙間を制御するこ
とができるため、基板接触を防止することができる。ま
た、回転によって基板端部とローラとのこすれによる主
面の損傷および発塵が防止される。
【００２１】
【発明の実施の形態】図１は、本発明に係る基板処理装
置が適用された基板処理装置群の一実施形態を示す説明
図である。基板処理装置群１は、基板Ｂの主面に所定の
薬液を供給して薬液処理する薬液処理部１ａ、この薬液
処理部１ａで薬液処理された基板Ｂの主面に洗浄水を供
給して第１次の水洗処理を施す第１次水洗部２、この第
１次水洗部２で水洗処理された基板Ｂに第２次の水洗を
施す第２次水洗部３、およびこの第２次水洗部３で水洗
処理の施された基板Ｂを乾燥する乾燥部４が上流側から
直列に順次配設されて形成されている。
【００２２】薬液処理部１ａ、第１次水洗部２、第２次
水洗部３および乾燥部４は、それぞれ箱型の薬液処理槽
１ｂ、第１次水洗槽２１、第２次水洗槽３１および乾燥
槽４１を備えて形成されている。各槽１ｂ，２１，３
１，４１の上流壁および下流壁には水平方向で互いに対
向した基板通過口１１が開口され、この基板通過口１１
を通して基板Ｂが各槽１ｂ，２１，３１，４１に入出さ
れるようになっている。
【００２３】基板Ｂを各槽１ｂ，２１，３１，４１内で
搬送する搬送手段としてはローラコンベアが適用されて
いる。このローラコンベアは、基板Ｂの搬送方向に直交
する向きの支持軸に設けられた搬送ローラ５が搬送方向
（図１の右方）に向けてほぼ等ピッチで並設されて配置
され、図略の駆動手段の駆動により同一方向に同期回転
されるようになっている。
【００２４】基板Ｂは、前工程からコンベアあるいはロ
ボット等の図略の上流側引継ぎ手段を介して第１次水洗
槽２１の上流側に配設された搬送ローラ５に移され、つ
いで搬送ローラ５の駆動によって基板処理装置群１内に
導入され、ここで搬送ローラ５によって下流方向に向け
て搬送されつつ第１次水洗槽２１内において低圧散液管
６および高圧散液管７からの洗浄水の供給による処理が
施され、ついで水洗槽３１内においてリキッドナイフ３
２や純水供給ノズル３３等からの洗浄水の供給による水
洗処理が施され、最後の乾燥槽４１においてエアナイフ
４２からの気体噴射供給による乾燥処理が施された後、
乾燥槽４１の直ぐ下流側に配設された搬送ローラ５に導
出され、ロボット等からなる図略の下流側引継ぎ手段を
介して次工程に向けて導出されるようになっている。
【００２５】上記各槽１ｂ，２１，３１，４１内におい
ては、上記各搬送ローラ５はその軸心が基板Ｂの搬送方
向に対して直交する水平方向に延びるように配設されて
おり、これによって基板Ｂは各槽１ｂ，２１，３１，４
１内において水平姿勢で搬送方向に搬送されつつ処理さ
れる。
【００２６】本発明に係る基板処理装置１０は、本実施
形態においては第１次水洗部２に適用されている。以下
本発明に係る基板処理装置１０を第１次水洗部２に適用
されたもので説明する。図２は、第１次水洗槽２１の一
実施形態を示す一部切欠き斜視図であり、図３は、図２
に示す第１次水洗槽２１内部の側面視の断面図である。
図２および図３に示すように、第１次水洗槽２１内に
は、上流側および下流側の基板通過口１１間に、同一高
さレベルで搬送方向（右方）に向かって５本の搬送ロー
ラ５が配設され、図略の駆動手段による各搬送ローラ５
の同一方向の同期回転によって、上流側の基板通過口１
１から第１次水洗槽２１内に導入された基板Ｂは、下流
側の基板通過口１１に向けて第１次水洗槽２１内を搬送
されるようになっている。
【００２７】上記搬送ローラ５は、図２に示すように、
第１次水洗槽２１内の側壁間に自軸心回りに回転可能に
架橋されたローラ軸５１と、このローラ軸５１の左右両
側部にローラ軸５１と共回り可能に設けられた左右一対
の側部ローラ５２と、ローラ軸５１の中央部に設けられ
た中央ローラ５３とから形成された、いわゆる部分支持
型ローラが採用されている。かかる部分支持型ローラを
適用することにより、搬送ローラ５による基板Ｂ裏面の
接触域を少なくし、基板Ｂの裏面への洗浄水や気体の供
給を良好に行い得るとともに、洗浄過程や乾燥過程での
搬送ローラ５との接触による基板Ｂの裏面の汚染を最小
限に抑えることが可能になる。
【００２８】上記左右の側部ローラ５２は、各々その外
方側部に鍔部５２ａを有しており、この鍔部５２ａによ
って各ローラ５２，５３上に載置され、搬送される基板
Ｂの横ずれを防止している。また、各ローラ５２，５３
にはゴム等の柔軟性材料からなる緩衝材としてのＯリン
グ５４が外嵌されており、このＯリング５４の滑り止め
作用によって基板Ｂの搬送を確実に行い得るようにして
いる。このような各ローラ５２，５３上にＯリング５４
を介してローラ軸５１の延びる方向に水平に直交した基
板搬送路５ａが形成されている。
【００２９】第１次水洗槽２１内には、基板搬送路５ａ
の上部を横断するように３本の液溜めローラ（液溜め部
材）８が設けられている。本実施形態においては、第１
次水洗槽２１内の下流側から上流側に向けて、略等ピッ
チで第１液溜めローラ８ａ、第２液溜めローラ８ｂ、お
よび第３液溜めローラ８ｃが設けられている。本実施形
態においては、第１液溜めローラ８ａは第１次水洗槽２
１内の下流側から２番目の搬送ローラ５の上方に設けら
れ、第２液溜めローラ８ｂは第１次水洗槽２１内の中央
の搬送ローラ５の上方に設けられ、第３液溜めローラ８
ｃは第１次水洗槽２１内の上流側から２番目の搬送ロー
ラ５の上方に設けられている。
【００３０】これらの液溜めローラ８は、第１次水洗槽
２１の幅方向の両側壁間に架橋された支持軸８１、この
支持軸８１の中央部に、基板Ｂの有効幅に対応した長さ
寸法を有する液溜め部８２、およびこの液溜め部８２の
両側部に設けられたフランジ部８３とを備えて形成され
ている。上記フランジ部８３は、その外周面が搬送中の
基板Ｂの幅方向の表面両側端縁であって、基板Ｂの有効
部分にかからない部分に当接するように幅寸法および径
寸法が設定されているとともに、上記液溜め部８２はフ
ランジ部８３よりも小径に寸法設定されている。
【００３１】従って、搬送ローラ５によって第１次水洗
槽２１内を搬送される基板Ｂは、各液溜めローラ８のフ
ランジ部８３と、搬送ローラ５の側部ローラ５２とによ
って挟持された状態になり、これによって基板Ｂの上下
方向に向かうばたつきが規制されて搬送状態が安定する
とともに、基板Ｂの中央部の有効部分が液溜めローラ８
の外周面に接触しないようになっている。また、第１液
溜めローラ８ａの図３における反時計方向の回転によっ
て、後述する液溜りＬ３が形成されやすくなっている。
【００３２】また、第１液溜めローラ８ａの下流側にお
ける基板搬送路５ａの上部には、基板搬送路５ａを横断
するように低圧散液管６および高圧散液管７が上流側か
ら順次配設されている。低圧散液管６の底部には吐出口
が下方に向いた複数の低圧ノズル（処理液供給手段）６
１が長手方向に並設されているとともに、高圧散液管７
には、吐出口が第１液溜めローラ８ａの外周面と搬送中
の基板Ｂの表面との対向部分に向かうように傾斜した
（図３）複数の高圧ノズル（処理液吐出手段）７１が長
手方向に並設されている。
【００３３】一方、第１次水洗槽２１の近傍には上記低
圧散液管６および高圧散液管７に供給する洗浄水Ｌを貯
留した洗浄水貯留槽２２が配設されている。低圧散液管
６と洗浄水貯留槽２２との間に低圧管路２３が配設さ
れ、高圧散液管７と洗浄水貯留槽２２との間に高圧管路
２４が配設されているとともに、第１次水洗槽２１の底
部と洗浄水貯留槽２２の上部との間には洗浄水戻り管路
２５が配設され、これら低圧管路２３および高圧管路２
４、並びに洗浄水戻り管路２５によって洗浄水貯留槽２
２内の洗浄水Ｌを低圧散液管６および高圧散液管７を介
して循環させる洗浄水循環管路が形成されている。
【００３４】また、上記洗浄水貯留槽２２の直ぐ下流側
の低圧管路２３には低圧ポンプ２３ａが設けられている
とともに、洗浄水貯留槽２２の直ぐ下流側の高圧管路２
４には高圧ポンプ２４ａが設けられ、これら各ポンプ２
３ａ，２４ａの下流側にはフィルター２６が設けられて
いる。
【００３５】従って、低圧ポンプ２３ａを駆動すること
により、洗浄水貯留槽２２内の洗浄水Ｌは、低圧管路２
３を通してまずフィルター２６で清浄化され、ついで低
圧散液管６を介して低圧ノズル６１から低圧散布液Ｌ１
となって基板Ｂの表面に吐出される。また、高圧ポンプ
２４ａを駆動することにより、洗浄水貯留槽２２内の洗
浄水Ｌは、高圧管路２４を通してまずフィルター２６で
清浄化された後、高圧散液管７を介して高圧ノズル７１
から高圧吐出液Ｌ２となって基板Ｂの表面に吐出され
る。吐出後の低圧散布液Ｌ１および高圧吐出液Ｌ２は、
基板Ｂに所定の処理を施した後、第１次水洗槽２１の底
部に流下し、洗浄水戻り管路２５を介して洗浄水貯留槽
２２に戻され、以後、循環使用される。
【００３６】また、第１次水洗槽２１内の基板搬送路５
ａの上部には、搬送中の基板Ｂ、各液溜めローラ８、低
圧散液管６、および高圧散液管７を覆うミスト飛散防止
フード２７が設けらている。このミスト飛散防止フード
２７は、上流端および下流端に、基板Ｂが通過し得る基
板通過口２７ａを有しているとともに、幅方向の両側部
は、搬送中の基板Ｂの幅方向の両側端縁との間に僅かな
隙間を形成するように側壁が設けられ、この側壁の存在
により、搬送中の基板の表面における第１液溜めローラ
８ａと第２液溜めローラ８ｂとの間、および第２液溜め
ローラ８ｂと第３液溜めローラ８ｃとの間に洗浄水Ｌが
滞留し、これによって基板Ｂの処理の確実性を期すると
ともに、基板Ｂを伝わって上流側の処理液が持ち出され
ることを防止している。
【００３７】そして、本実施形態においては、第１液溜
めローラ８ａは、第２および第３液溜めローラ８ｂ，８
ｃよりも径寸法を大径に設定した大きめのものが採用さ
れている。そして、第１液溜めローラ８ａの下流側の下
方外周面と、搬送中の基板Ｂ表面との間の隅部空間に、
低圧ノズル６１および高圧ノズル７１からの低圧散布液
Ｌ１および高圧吐出液Ｌ２による側面視で略三角形状を
呈した液溜りＬ３が形成されるようにしている。
【００３８】また、搬送中の基板Ｂの表面と、第１液溜
めローラ８ａの液溜め部８２の外周面との間の隙間寸法
ｄ１は、低圧ノズル６１および高圧ノズル７１から上記
隅部空間に供給される洗浄水Ｌの量と、高圧ノズル７１
から吐出される高圧吐出液Ｌ２に押圧されて基板Ｂ上を
第１液溜めローラ８ａの上流側に移行する量とがバラン
スした状態で常に所定量の液溜りＬ３が形成される寸法
に設定されている。各液溜めローラ８ａ，８ｂ，８ｃに
係る隙間寸法ｄ１，ｄ２，ｄ３は、洗浄水Ｌの粘度、基
板Ｂの搬送速度、各吐出液Ｌ１，Ｌ２の吐出量、高圧吐
出液Ｌ２等を勘案して設定される。
【００３９】なお、第２液溜めローラ８ｂの液溜め部８
２の外周面と、搬送中の基板Ｂ表面との間の隙間寸法ｄ
２は、上記隙間寸法ｄ１よりも大きめに設定し、これに
よって基板Ｂ上で第１液溜めローラ８ａの上流側に押し
やられた洗浄水Ｌが、第２液溜めローラ８ｂより上流側
に移行し易くするとともに、第３液溜めローラ８ｃの液
溜め部８２の外周面と、搬送中の基板Ｂ表面との間の隙
間寸法ｄ３は、上記隙間寸法ｄ２よりも小さめに設定
し、これによって基板Ｂ上で第２液溜めローラ８ｂと第
３液溜めローラ８ｃとの間に洗浄水Ｌを一時滞留させ易
くしてもよい。
【００４０】また、本実施形態においては、第１液溜め
ローラ８ａによる隙間寸法ｄ１は、０．５〜２．０ｍｍ
に設定されている。また、高圧ノズル７１からの高圧吐
出液Ｌ２の吐出圧は、１０kgf／cm2G以上に設定され、
このウォータハンマー効果によって洗浄水Ｌによる基板
Ｂ表面の処理効率を向上させるとともに、洗浄水Ｌの上
流側への送り出しを容易にしている。また、高圧吐出液
Ｌ２の吐出量は５０００ｍｌ／ｍｉｎに設定されてい
る。
【００４１】図４は、液溜めローラ８の作用を説明する
ための側面断面視の説明図であり、（イ）は基板Ｂの下
流端が第１液溜めローラ８ａを通過した直後の状態、
（ロ）は基板Ｂの表面中央部が洗浄処理されつつある状
態、（ハ）は基板Ｂの下流端が低圧ノズル６１および高
圧ノズル７１の吐出域から外れて洗浄処理が完了した状
態をそれぞれ示している。
【００４２】まず、図４の（イ）に示すように、基板Ｂ
の下流端が第１液溜めローラ８ａの液溜め部８２を通過
した時点では、基板Ｂの表面の下流側縁部に低圧ノズル
６１から散液された低圧散布液Ｌ１、および高圧ノズル
７１から吐出された高圧吐出液Ｌ２により第１液溜めロ
ーラ８ａの液溜め部８２と、基板Ｂ表面との間に液溜り
Ｌ３が形成され、その一部が第１液溜めローラ８ａの液
溜め部８２下部の隙間を通って基板Ｂ上を上流側に押し
出されつつある状態になっている。
【００４３】ついで基板Ｂの進行により、図４の（ロ）
に示すように、基板Ｂの中央部が各液溜めローラ８の下
部に位置した状態になると、低圧ノズル６１および高圧
ノズル７１からの低圧散布液Ｌ１および高圧吐出液Ｌ２
の供給量と、高圧ノズル７１からの高圧吐出液Ｌ２によ
る押圧力で第１液溜めローラ８ａの液溜め部８２下部の
隙間を通って基板Ｂ表面の上流側に押し出される洗浄水
Ｌの量とがバランスした定常状態で液溜りＬ３が形成さ
れる。この液溜りＬ３の形成によって高圧ノズル７１か
らの高圧吐出液Ｌ２の吐出圧力が分散されるため、基板
Ｂ表面には吐出圧のバラツキによって処理が不均一にな
る、いわゆる圧力ムラの発生が確実に抑制される。
【００４４】そして、液溜りＬ３が定常状態で形成され
ると、図４の（ロ）に示すように、液溜りＬ３から第１
液溜めローラ８ａの上流側に押し出された洗浄水Ｌは、
第２液溜めローラ８ｂの液溜め部８２下部の隙間を通っ
て第２液溜めローラ８ｂと第３液溜めローラ８ｃとの間
に一時滞留した後、ミスト飛散防止フード２７（図２）
と、基板Ｂの幅方向の両端縁との間の隙間から流下する
ため、この一時滞留によって基板Ｂの表面は液溜りＬ３
での処理に先立って事前処理され、基板Ｂの処理がより
効率的に行われるようになる。
【００４５】そして、図４の（ハ）に示すように、高圧
ノズル７１が上流側に傾斜し、常時、上流側に向かって
基板Ｂ上の液流れが生じるため、基板Ｂの上流端が低圧
ノズル６１および高圧ノズル７１の吐出域から外れた状
態では、洗浄水Ｌが薄膜状態で存在するのみになってお
り下流側への液の持出を抑制することができる。
【００４６】本発明は、以上詳述したように、第１次水
洗槽２１内に、基板搬送路５ａを横断するように第１液
溜めローラ８ａを設け、この第１液溜めローラ８ａの下
流側に低圧ノズル６１から低圧散布液Ｌ１を散布すると
ともに、同下流側であって、搬送中の基板Ｂの表面と第
１液溜めローラ８ａとの対向部分に向けて高圧ノズル７
１から高圧吐出液Ｌ２を吐出するようにしているため、
従来のように第１次水洗槽２１内で搬送中の基板Ｂの表
面全面に向けて高圧の処理液を吐出する方式に比べ、構
造が簡単になるとともに、洗浄水Ｌの吐出量を少なくす
ることができ、設備コストおよび運転コストが廉価にな
る。
【００４７】また、基板Ｂの表面全面に洗浄水Ｌを高圧
で吐出する場合には、基板Ｂの表面上で吐出圧のバラツ
キが生じ、これによって処理後の基板Ｂの表面にいわゆ
る圧力ムラが発生するが、本発明においては、第１液溜
めローラ８ａの下流側に形成される液溜りＬ３の緩衝作
用により、高圧ノズル７１から吐出される高圧吐出液Ｌ
２の吐出圧のバラツキが均一化されるため、処理後の基
板Ｂの表面には、従来のような圧力ムラが生じない。
【００４８】また、第１液溜めローラ８ａの液溜め部８
２と、搬送中の基板の表面との間の隙間寸法を適切に設
定し、この隙間を通して液溜りＬ３の洗浄水Ｌを基板Ｂ
の上流側に押しやるようにしているため、処理後の洗浄
水Ｌ中に混入した異物が下流側に持ち込まれることがな
く、異物の再付着による基板Ｂの再汚染が確実に防止さ
れる。
【００４９】本発明は、以上の実施形態に限定されるも
のではなく、以下の内容をも包含するものである。
【００５０】（１）上記の実施形態においては、第１次
水洗槽２１内に第１液溜めローラ８ａ、第２液溜めロー
ラ８ｂおよび第３液溜めローラ８ｃの３本の液溜めロー
ラが設けられているが、本発明は、第１次水洗槽２１内
に３本の液溜めローラを設けることに限定されるもので
はなく、少なくとも第１液溜めローラ８ａを設けるよう
にすればよい。
【００５１】（２）上記の実施形態においては、基板搬
送路５ａの上方に液溜めローラ８、低圧散液管６、およ
び高圧散液管７を覆うミスト飛散防止フード２７が設け
られているが、特にミスト飛散防止フード２７を設けな
くてもよい。
【００５２】（３）上記の実施形態においては、低圧散
液管６は高圧散液管７より上流側に設けられているが、
こうする代わりに低圧散液管６を高圧散液管７の下流側
に配設してもよい。ただし、このようにすると、処理後
の基板Ｂの表面に低圧ノズル６１から散液された洗浄水
Ｌが多く残留するので、基板Ｂが次工程に導入される前
にエアーナイフ等による液切り処理を施すことが好まし
い。
【００５３】（４）上記の実施形態においては、液溜め
部材として液溜めローラ８が用いられているが、本発明
は、液溜め部材が液溜めローラ８であることに限定され
るものではなく、基板搬送路５ａを横断し、かつ、搬送
中の基板に主面に対して離間した状態の液切り刃や、液
切りロッドを設けてもよい。
【００５４】（５）上記の実施形態においては、処理液
として基板Ｂの表裏面を水洗する洗浄水Ｌを用いている
が、洗浄水Ｌに代えて基板Ｂの表面を現像処理する現像
液、基板Ｂの表面に形成された金属薄膜をエッチングす
る酸性のエッチング液、エッチング処理された基板Ｂの
表面に被着したレジスト膜を剥離する剥離液、あるいは
剥離液を置換するイソプロピルアルコール等の置換液ま
たは剥離液を洗い流す純水であってもよい。
【００５５】（６）上記の実施形態においては、基板Ｂ
への低圧ノズル６１からの散液によって基板Ｂの表面に
液溜りＬ３を形成させるようにしているが、こうする代
わりに高圧ノズル７１からの高圧吐出液Ｌ２の吐出圧を
一旦邪魔板等の緩衝材によって緩衝してから基板Ｂに供
給し得るようにし、基板が高圧ノズル７１の吐出域に到
達した初期時点のみこの邪魔板で圧を下げて基板Ｂに処
理液を供給し、液溜りＬ３が形成された後、上記邪魔板
を取り除いて高圧ノズル７１から処理液を吐出させるよ
うにしてもよい。
【００５６】
【発明の効果】請求項１記載の発明によれば、水平方向
に延びる基板搬送路を横断し、かつ、下端部と搬送中の
基板の主面との間に隙間を備えるように配設された液溜
め部材を設け、この液溜め部材の下流側に、低圧で処理
液を供給する処理液供給手段と、高圧の処理液を吐出す
る吐出口が上記隙間に向かうように配設された処理液吐
出手段を設けているため、搬送中の基板の下流端が液溜
め部材の下流側に到達した時点から、基板の上流端が液
留め部材を外れるまでの間、基板の主面と液留め部材と
によって形成された隅部空間に、処理液供給手段から吐
出された処理液が側面視で三角形状に滞留する液溜りが
形成され、この液溜りの緩衝作用によって処理液吐出手
段から高圧で吐出された処理液の吐出圧のバラツキが吸
収される。このバラツキの吸収により、基板の主面は、
均一に高圧の処理液と接触することができるようにな
り、基板は処理ムラが生じない状態で処理することがで
きるようになる。
【００５７】そして、液溜りの処理液は、処理液吐出手
段から継続して吐出される高圧の処理液に押圧され、液
溜め部材の下端部に形成された基板の主面との間に隙間
を通って基板主面の上流側に押し出されるため、基板主
面の液溜りよりも下流側は、処理液が薄膜状で残留した
状態になっており、基板に伴った処理液の次工程への持
込み量を最小限度に抑えることができるようになる。
【００５８】また、上記隙間を通った処理液によって、
基板の主面は高圧の処理液が吐出されるまでに事前処理
されるため、基板主面の処理効率が向上する。
【００５９】請求項２記載の発明によれば、液溜め部材
として支持軸回りに回転可能に軸支されるとともに、基
板両側部の非有効面のみに当接して配設された液溜めロ
ールが採用され、これによって常時隙間を制御すること
ができるため、基板接触を防止することができる。ま
た、回転によって基板端部とローラとのこすれによる主
面の損傷および発塵が防止される。
【００６０】請求項３記載の発明によれば、液溜め部材
の上流側に搬送中の基板を横断し、かつ、下端部と搬送
中の基板の主面との間に隙間を備えるように配設された
第２の液溜め部材を備えたため、液溜め部材の下端部と
基板主面との間の隙間を通って主面の上流側に押し出さ
れた処理液は、第２の液溜め部材によって堰き止めら
れ、これによって処理液が基板を伝わって前工程へ逆流
することが防止できる。
【００６１】請求項４記載の発明によれば、第２の液溜
め部材として支持軸回りに回転可能に軸支されるととも
に、基板両側部の非有効面のみに当接して配設された第
２の液溜めロールが採用され、これによって常時隙間を
制御することができるため、基板接触を防止することが
できる。また、回転によって基板端部とローラとのこす
れによる主面の損傷および発塵が防止される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る基板処理装置が適用された基板処
理装置群の一実施形態を示す説明図である。
【図２】第１次水洗槽の一実施形態を示す一部切欠き斜
視図である。
【図３】図２に示す第１次水洗槽内部の側面視の断面図
である。
【図４】（イ）〜（ハ）は、液溜めローラの作用を説明
するための側面断面視の説明図である。
【符号の説明】
１ 基板処理装置群 １０ 基板処理装置 １１ 基板通過口 ２ 第１次水洗部 ２１ 第１次水洗槽 ２２ 洗浄水貯留槽 ２３ 低圧管路 ２３ａ 低圧ポンプ ２４ 高圧管路 ２４ａ 高圧ポンプ ３ 第２次水洗部 ３１ 第２次水洗槽 ３２ 純水供給ノズル ４ 乾燥部 ４１ 乾燥槽 ４２ エアナイフ ５ 搬送ローラ ５ａ 基板搬送路 ５１ ローラ軸 ５２ 側部ローラ ５２ａ 鍔部 ５３ 中央ローラ ５４ Ｏリング ６ 低圧散液管 ６１ 低圧ノズル（処理液供給手段） ７ 高圧散液管 ７１ 高圧ノズル（処理液吐出手段） ８ 液溜めローラ ８ａ 第１液溜めローラ ８ｂ 第２液溜めローラ ８ｃ 第３液溜めローラ ８１ 支持軸 ８２ 液溜め部 ８３ フランジ部 Ｂ 基板

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 水平方向に延びる基板搬送路に沿って搬
    送されつつある基板の主面に処理液を供給して所定の処
    理を施す基板処理装置において、 上記基板搬送路を横断し、かつ、下端部と搬送中の基板
    の主面との間に隙間を備えるように配設された液溜め部
    材と、この液溜め部材の直ぐ下流側の基板主面に向けて
    処理液を供給する処理液供給手段と、上記隙間に向けて
    高圧で処理液を吐出することにより処理液を上記隙間を
    通して基板主面の液溜め部材よりも上流側に圧送する処
    理液吐出手段とを備えたことを特徴とする基板処理装
    置。
  2. 【請求項２】 上記液溜め部材は、支持軸回りに回転可
    能に軸支されるとともに、基板両側部の非有効面のみに
    当接して配設された液溜めロールであることを特徴とす
    る請求項１記載の基板処理装置。
  3. 【請求項３】 請求項１または２記載の基板処理装置に
    おいて、上記液溜め部材の上流側に搬送中の基板を横断
    し、かつ、下端部と搬送中の基板の主面との間に隙間を
    備えるように配設された第２の液溜め部材を備えたこと
    を特徴とする基板処理装置。
  4. 【請求項４】 上記第２の液溜め部材は、支持軸回りに
    回転可能に軸支されるとともに、基板両側部の非有効面
    のみに当接して配設された第２の液溜めロールであるこ
    とを特徴とする請求項３記載の基板処理装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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