JP3666983B2 - 基板処理装置 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、フォトレジスト塗布液、感光性ポリイミド樹脂、カラーフィルター用の染色剤等からなる薄膜が主面に形成された液晶用のガラス基板、フォトマスク用のガラス基板等を対象とし、これら基板の主面に所定の処理液を供給することによって処理する基板処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、基板に薬液供給処理が施された後、洗浄水による洗浄処理を施してから後工程に搬送するようにした基板処理装置が知られている。かかる基板処理装置は、薬液処理部、水洗部および乾燥部が直列に配設されて形成されている。これら薬液処理部、水洗部および乾燥部を貫通するように基板の搬送手段が敷設され、基板はこの搬送手段によって基板処理装置内を薬液処理部、水洗部および乾燥部の順に搬送されつつ処理される。
【０００３】
そして基板は、薬液処理部においてアルカリ洗浄液、現像液、エッチング液あるいは剥離液等の薬液が主面に供給されて所定の処理が施され、ついで水洗部において水洗処理が施され、最後に乾燥部において気体の噴射等による乾燥処理が行われるようになっている。
【０００４】
ところで、薬液処理部で薬液による所定の処理が施された基板は、その主面に薬液が付着した状態になっているため、そのまま薬液処理部から水洗部に移されると、水洗部内に薬液が持ち込まれることになり、循環使用される洗浄水が薬液の混入によって汚染され、洗浄性能の維持を図ることができなくなるという不都合が生じる。
【０００５】
また水洗部においては、通常、第１の水洗部と第２の水洗部とによる少なくとも２段階の水洗処理が施され、水洗処理の完全を期すようになされているが、薬液処理部の薬液によって汚染された状態になり易い第１の水洗部の洗浄水が、第２の水洗部の高度に清浄な洗浄水に混入し、汚染されるという上記同様の問題点を有している。
【０００６】
かかる不都合を解消するために、従来、薬液処理部と水洗部との境界部分に配設されたエアーナイフから基板の主面に帯状の気体を吹き付け、基板の主面が乾燥しない程度に薬液を薬液処理部内に向けて吹き飛ばすことによって薬液の水洗部への持ち込みを防止するようにしていたが、近年、基板の大型化に伴い、基板が薬液処理部と水洗部とに跨った状態で薬液と洗浄水の供給を同時に受ける工程の重複が生じるようになり、基板の主面を通って薬液が洗浄部に入り込んだり、逆に洗浄水が薬液処理部に移動したりすることがあり、境界部分で液の確実な置換が行われなくなるという問題点が発生するようになった。
【０００７】
以上、薬液処理部と水洗部との間で起こる問題点について述べたが、第１の水洗部と第２の水洗部との間でも同様の問題点が発生する。
【０００８】
かかる問題点を解消するために、薬液処理部と第１の水洗部との間および第１の水洗部と第２の水洗部との間に未処理搬送部を設け、この部分では基板にいずれの処理液も供給されないようにすることが考えられるが、このようにすると処理槽を搬送方向に長くしなければならず、設備コストが嵩むという新たな問題点が発生する。
【０００９】
一方、処理槽が長尺化することによって、上記境界部分でエアーナイフから基板の表面に吐出される気体により基板の表面が薬液成分を含んだ状態で乾燥してしまうことがあり、基板の表面が乾燥すると、その部分にシミが生じる。そして、このシミは水洗処理によっても取り除くことができず、最終的に基板が乾燥処理された後にこのシミからパーティクルが発生し、これによって基板の表面が再汚染されるという問題点も有している。
【００１０】
そこで、近年、基板を搬送方向に直交した面内で水平方向に対して傾斜した傾斜姿勢で搬送し、搬送中の基板の傾斜面に薬液を供給することにより、供給された薬液が基板の傾斜に沿って流下するようにした基板処理装置が提案されている（特開平１−２５０９５８号公報）。このようにすると、エアーナイフを用いなくても液切りが良好に行われるため、エアーナイフを用いない分、設備コストや運転コストが低減されるとともに、基板主面の部分乾燥も回避される。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、基板を傾斜姿勢で搬送しつつ、その主面に薬液を供給した場合、基板の下位側端縁部に、基板搬送方向の全長に亘って表面張力に起因して処理液が残留する、いわゆる液溜りが形成される。そして、基板は、この液溜りが形成された状態で水洗部に搬送されるため、水洗部への薬液の持込み量を液溜りの量以下に抑えることができないという問題点が存在する。
【００１２】
かかる問題点を解消するために、実公平７−９１５２号公報には、水平姿勢で搬送中の基板を一旦停止させてから傾斜姿勢に変え、停止状態で現像液を供給するとともに、基板の下位側端縁に向けて気体を噴射するようにし、これによって基板の下位側端縁に形成された液溜りを吹き飛ばし、ついで基板を元の水平姿勢に戻して搬出するようにしたものが提案されている。しかしながら、気体を噴射すると、基板の主面が部分乾燥するという上記のエアーナイフを採用した場合と同様の問題点が発生し易く、基板の再汚染を効果的に防止し得なくなる。
【００１３】
本発明は、上記のような問題点を解決するためになされたものであり、基板の主面の部分乾燥を抑えた上で、搬送中の基板の下位側端縁に形成される液溜りを確実に取り除くことが可能な基板処理装置を提供することを目的としている。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
請求項１記載の発明は、搬送方向と直交する面内で水平方向に対して傾斜した基板載置面上を搬送される基板の主面に、処理液供給手段から供給される処理液によって処理を施す基板処理装置において、
上記処理液供給手段の下流側であって、かつ、上記基板載置面の表側および裏側の内の少なくとも一方側に、搬送中の基板の下位側端縁との間に微小の隙間が形成されるように配設された液除去部材を設けたことを特徴とするものである。
【００１５】
この発明によれば、傾斜姿勢で搬送中の基板に、処理液供給手段から搬送中の基板に向けて吐出された処理液は、基板の主面を処理しつつ傾斜に沿って流下し、基板の下位側端縁に液溜りが形成されるが、この液溜りは、基板の搬送方向への移動によって液除去部材により取り除かれ、基板は液溜りが除去された状態で下流側の工程に搬送されるため、処理液の下流側への持込み量が減少する。
【００１６】
請求項２記載の発明は、請求項１記載の発明において、上記液除去部材は、上記基板載置面を搬送方向と直交する横断方向に設けられた支持軸に回転自在に軸支された液取りローラであることを特徴とするものである。
【００１７】
この発明によれば、液取りローラは支持軸回りに回転するため、液取りローラと基板主面とが摺接状態にはならず、従って、両者がこすれ合うことによる基板主面の損傷が防止される。
【００１８】
請求項３記載の発明は、請求項２記載の発明において、上記液取りローラは、基板の下位側端縁の非有効部に当接するフランジ部を有していることを特徴とするものである。
【００１９】
この発明によれば、液取りローラのフランジ部を、搬送中の基板の下位側非有効部に当接させることにより、液切り部と基板主面の有効部分との隙間が一定寸法に維持される。
【００２０】
請求項４記載の発明は、請求項１乃至３のいずれかに記載の発明において、上記液除去部材は、搬送中の基板を挟むように対向配置されていることを特徴とするものである。
【００２１】
この発明によれば、搬送中の基板の下位側端縁に形成された液溜りは、基板を挟むように対向配置された液除去部材によって基板の表裏で取り除かれる。
【００２２】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明に係る基板処理装置が適用された基板処理装置群の一実施形態を示す説明図である。基板処理装置群１は、基板の表裏面に所定の薬液を供給して処理する薬液処理部２、この薬液処理部２で薬洗処理の施された基板Ｂを水洗する水洗部３、およびこの水洗部３で水洗処理の施された基板Ｂを乾燥する乾燥部４が直列に上流側から順次配設されて形成されている。水洗部３は、第１水洗部３ａと、第２水洗部３ｂとからなっている。
【００２３】
薬液処理部２、第１水洗部３ａ、第２水洗部３ｂおよび乾燥部４は、それぞれ箱型の薬液処理槽２１、第１水洗槽３１、第２水洗槽３２および乾燥槽４１を備えて形成されている。各槽２１，３１，３２，４１の上流壁および下流壁には水平方向で互いに対向した基板通過口１１が開口され、この基板通過口１１を通して基板Ｂが各槽２１，３１，３２，４１に入出されるようになっている。本実施形態においては、薬液処理部２で使用される処理液（薬液）として洗剤の混入された洗浄液が用いられ、水洗部３における処理液として、第１水洗部３ａでは通常の洗浄水が用いられ、第２水洗部３ｂでは純水やイオン交換水等の高度に清浄化処理された水が用いられている。
【００２４】
基板Ｂを各槽２１，３１，３２，４１内で搬送する搬送手段としてはローラコンベアが適用されている。このローラコンベアは、基板Ｂの搬送方向と直交する面内で水平方向に対して傾斜した支持軸を有する搬送ローラ５が搬送方向にほぼ等ピッチで並設配置されて基板載置面を形成しており、図略の駆動手段の駆動により同一方向に同期回転されるようになっている。従って、基板Ｂの各槽２１，３１，３２，４１内における搬送路は、搬送方向に対して全体的に幅方向に傾斜しており、基板Ｂはこの傾斜搬送路の基板載置面に沿って傾斜姿勢で搬送されつつ、各槽２１，３１，３２，４１内で所定の処理が施される。本実施形態においては、基板Ｂの水平面に対する傾斜角度α（図３）が略５°に設定されている。
【００２５】
基板Ｂは、前工程から図略の上流側引継ぎ手段を介して傾斜姿勢に姿勢変更された後、薬液処理槽２１の上流側に配設された搬送ローラ５に移載され、ついで搬送ローラ５の駆動によって基板処理装置群１内に導入され、ここで搬送ローラ５によって搬送方向（図１の右方）に向けて搬送されつつ薬液処理槽２１内において液吐出手段６からの薬液の供給による所定の薬洗処理が施され、ついで水洗部３内において液吐出手段６や純水供給ノズル３３等からの洗浄水の供給による水洗処理が施され、最後の乾燥槽４１においてエアーナイフ４２からの気体噴射供給による乾燥処理が施された後、乾燥槽４１の直ぐ下流側に配設された図略の下流側引継ぎ手段を介して元の水平姿勢に戻され、次工程に向けて導出されるようになっている。なお、上記液吐出手段６は、基板搬送方向に所定長を有するスリット状の吐出口が形成されたものである。
【００２６】
本発明に係る基板処理装置１０は、本実施形態においては上記第１水洗部３ａの一部および薬液処理部２に適用されている。以下本発明に係る基板処理装置１０を薬液処理部２に適用されたもので説明する。図２は、薬液処理部２の薬液処理槽２１の一実施形態を示す一部切欠き斜視図である。
【００２７】
この図に示すように、薬液処理槽２１内には、上流側および下流側の基板通過口１１間に、同一傾斜レベルで搬送方向（右方）に向かって５本の搬送ローラ５が配設され、図略の駆動手段による各搬送ローラ５の同一方向の同期回転によって上流側の基板通過口１１から薬液処理槽２１内に導入された基板Ｂは、下流側の基板通過口１１に向けて薬液処理槽２１内を搬送されつつ、表裏面に液吐出手段６からの薬液Ｌの供給を受けて薬液処理され、ついで液吐出手段６の下流側に設けられた液取りローラ７によって下位側端縁に残留した液溜りが除去されるようになっている。
【００２８】
上記搬送ローラ５は、薬液処理槽２１内の側壁間に自軸心回りに回転可能に架橋されたローラ軸５１と、このローラ軸５１の左右両側部にローラ軸５１と共回り可能に設けられた左右一対の側部ローラ５２と、ローラ軸５１の中央部に設けられた中央ローラ５３とから形成された、いわゆる部分支持型ローラが採用されている。かかる部分支持型ローラを適用することにより、撓みを規制し得るとともに搬送ローラ５による基板Ｂ裏面の接触域を少なくし、基板Ｂの裏面への洗浄水や気体の供給を良好に行い得るとともに、洗浄工程や乾燥工程での搬送ローラ５との接触による基板Ｂの裏面の汚染を最小限に抑えることが可能になる。
【００２９】
上記左右の側部ローラ５２は、各々その外方側部に側部ローラ５２と一体の鍔部５２ａを有しており、この鍔部５２ａによって各ローラ５２，５３上に載置されて搬送される基板Ｂの横ずれを防止するとともに、特に下位側の鍔部５２ａによって基板Ｂが搬送路の傾斜面に沿って滑落するのを防止している。また、各ローラ５２，５３にはゴム等の柔軟性材料からなる緩衝材としてのＯリング５４が外嵌されており、このＯリング５４の滑り止め作用によって基板Ｂの搬送を確実に行い得るようにしている。
【００３０】
薬液処理槽２１内には、搬送方向の略中央部であって、搬送ローラ５の上位側の側壁（図２では左方の側壁）の、搬送ローラ５よりも上方に上部支持枠体２５が設けられ、これら上部支持枠体２５間に一つの液吐出手段６（上部液吐出手段６ａ）が取り付けられている。また、上記側壁の搬送ローラ５より下方の部分に、上記上部支持枠体２５に対向した一対の下部支持枠体２６が、薬液処理槽２１内の基板搬送方向の中央部に設けられた搬送ローラ５を避けるように設けられ、これら各下部支持枠体２６に一対の液吐出手段６（下部液吐出手段６ｂ）が取り付けられている。
【００３１】
上記上部液吐出手段６ａは、基板搬送方向に延びる吐出口が基板Ｂの上位側の表面側端縁に対向するように上部支持枠体２５に取り付けられているとともに、一対の下部液吐出手段６ｂは、基板搬送方向に延びる吐出口が基板Ｂの上位側の裏面側端縁に斜めに対向して吐出液が基板Ｂの下位側に向かうように各下部支持枠体２６に取り付けられている。
【００３２】
そして、基板Ｂが搬送ローラ５により薬液処理槽２１内に導入された状態で、図２に示すように、基板Ｂの表裏面を横断するように液吐出手段６から吐出された薬液Ｌの液流による処理液吐出域Ａが形成されるようにしている。
【００３３】
一方、薬液処理槽２１の近傍には上記液吐出手段６に供給するための薬液Ｌを貯留する薬液貯留槽２２が配設されている。この薬液貯留槽２２と上記液吐出手段６との間に薬液管路２２ａが配設されているとともに、薬液処理槽２１の底部と薬液貯留槽２２の上部との間には薬液戻り管路２２ｂが配設され、これら薬液管路２２ａおよび薬液戻り管路２２ｂによって薬液貯留槽２２内の薬液Ｌを液吐出手段６を介して循環させる循環管路が形成されている。
【００３４】
また、上記薬液貯留槽２２の直ぐ下流側の薬液管路２２ａには薬液ポンプ２３が設けられているとともに、薬液ポンプ２３の直ぐ下流側にはフィルター２４が設けられている。従って、薬液ポンプ２３を駆動することにより、薬液貯留槽２２内の薬液Ｌは、薬液管路２２ａを通してまずフィルター２４で清浄化され、ついで上部液吐出手段６ａから搬送ローラ５上の傾斜姿勢の基板Ｂ表面の上位側端縁に向けて吐出されるともに、下部液吐出手段６ｂからは基板Ｂ裏面の上位側に向けて吐出され、基板Ｂの傾斜に沿って流下しながら基板Ｂの表裏面に所定の処理を施した後、基板Ｂの下位側端縁から薬液処理槽２１の底部に落下し、薬液戻り管路２２ｂを介して薬液貯留槽２２に戻され、以後、循環使用される。なお、本実施形態では、薬液Ｌに洗浄液を用いた洗浄処理で実施しているため、基板Ｂの表裏面を洗浄する必要があることから、基板Ｂの裏面側にも下部液吐出手段６ｂを設けている（第１水洗部３ａの場合も同様）が、現像液、エッチング液、剥離液等を用いる薬液処理の場合は、基板Ｂの表面の処理だけでよいので、基板Ｂ裏面側の下部液吐出手段６ｂは不要となる。
【００３５】
図３は、液取りローラ７の一位置実施形態を示す一部切欠き斜視図であり、図４は、図３における液取りローラ７のＸ線矢視図である。図３、図４および図２に示すように、薬液処理槽２１内には、液吐出手段６よりも下流側に各側部ローラ５２および中央ローラ５３の上部に形成される基板載置面を挟むように、上下一対の液取りローラ（液除去部材）７（上部液取りローラ７ａおよび下部液取りローラ７ｂ）が設けられている。各液取りローラ７ａ，ｂは、基板搬送方向に直交し、かつ、基板載置面を横断するように配設された支持軸７１、この支持軸７１回りに回転自在に軸支されたフランジ部７２、およびフランジ部７２に同心で一体に延設された円筒状の液切り部７３を備えて形成されている。
【００３６】
そして、上部液取りローラ７ａのフランジ部７２は、外周面が搬送中の基板Ｂの表面側の下位側端縁に当接するとともに、下部液取りローラ７ｂは上部液取りローラ７ａと基板搬送方向の同一位置に設けられ、かつ、その外周面が搬送中の基板Ｂの裏面側の下位側端縁に当接するように設置位置が設定され、各フランジ部７２から基板搬送路の中心線方向に向けて液切り部７３が延設されている。
【００３７】
また、上記各フランジ部７２は、その厚み寸法が基板Ｂの中央部の有効部分に達しない寸法に設定されているとともに、上記各液切り部７３は、その径寸法がフランジ部７２の径寸法よりも小さく設定され、かつ、基板Ｂの有効部分にまで所定寸法だけ入り込んだ状態になっている。
【００３８】
従って、薬液処理槽２１内において搬送ローラ５により搬送される基板Ｂは、まず、その表裏面が各液吐出手段６ａ，６ｂから吐出される薬液Ｌによって処理され、ついで、基板Ｂの進行により下位側の端縁が液吐出手段６の下流側で液取りローラ７の上下のフランジ部７２に挟持され、基板Ｂの下位側に残留した液溜りが上下の液切り部７３によって除去されることになる。
【００３９】
そして、本実施形態においては、液切り部７３の幅方向の長さ寸法Ｓが１０〜５０ｍｍに設定されているとともに、基板Ｂの表裏面と、同表裏面に対向した液切り部７３の外周面との間の隙間寸法ｄが０．１〜１．０ｍｍに設定され、これによって液溜りの液切り効果を良好にしている（図４）。
【００４０】
液切り部７３の幅方向の長さ寸法Ｓが１０〜５０ｍｍに設定されているのは、基板Ｂの下位側端縁の液溜りは、端縁から基板の中心方向に向けて１０〜２０ｍｍの範囲内に形成されるため、液切り部７３が１０ｍｍ未満であると、液溜りを確実に除去することができなくなり、また、液切り部７３が５０ｍｍを越えると、搬送中の基板または液切りローラ７の中央部が撓んだ場合、基板Ｂの有効部分が液切り部７３に接触し、基板Ｂの有効部分が損傷され易くなるからである。
【００４１】
また、基板Ｂの表裏面と、液切り部７３の外周面との間の隙間寸法ｄが０．１〜１．０ｍｍに設定されるのは、隙間寸法ｄが０．１ｍｍ未満であると、高い精度で隙間寸法を維持するのが困難になり、その結果、液切り部７３の外周面が基板Ｂの有効部分に接触する場合も考えられ、そうなると基板Ｂの有効部分が損傷するからであり、隙間寸法ｄが１．０ｍｍを越えると、液溜りが隙間を通って外方に漏洩し良好な液切り効果が得られなくなるからである。
【００４２】
図５は、本発明の作用を説明するための液取りローラ７の部分斜視図であり、（イ）は基板Ｂの下位側下流端が上下の液取りローラ７の液切り部７３間に突入する直前の状態、（ロ）は基板Ｂの下位側端縁に形成された液溜りＬ１が除去されつつある状態、（ハ）は基板Ｂの液溜りＬ１が除去された状態をそれぞれ示している。
【００４３】
まず、搬送ローラ５の駆動により上流側（左方）の基板通過口１１を介して薬液処理槽２１内に導入されて基板処理域Ａに侵入した基板Ｂは、その下流側先端部の上位側に薬液ポンプ２３（図１、図２）の駆動で薬液管路２２ａを通して液吐出手段６の薬液吐出口６５から吐出された薬液Ｌが供給され、基板Ｂの表裏面を上位側から下位側に向けて薬液Ｌが流下し、これによって基板Ｂの表裏面が薬液処理されるとともに、処理液吐出域Ａを通過した基板Ｂの下位側端縁には、図５の（イ）に示すように、液溜りＬ１が形成された状態になっている。
【００４４】
ついで、図５の（ロ）に示すように、搬送ローラ５の駆動によって基板Ｂの下位側端縁が上下の液取りローラ７の液切り部７３間に突入した状態では、基板Ｂの端縁部分が上下のフランジ部７２によって挟持され、基板Ｂの進行に伴い上下のフランジ部７２を介して上下の液切り部７３が互いに逆方向に回転しつつ、各フランジ部７２および液切り部７３に当接した液溜りＬ１が基板Ｂの下位側端縁から順次取り除かれる。
【００４５】
そしてこの場合、上下のフランジ部７２による基板Ｂの下位側端縁の挟持によって、上下の液切り部７３の外周面と基板Ｂの表裏面との間の隙間寸法ｄ（図４）が確実に確保された状態で液溜りＬ１が除去されるため、液切り部７３の外周面が基板Ｂの有効部分に接触することがなく、基板Ｂの損傷が確実に防止される。
【００４６】
そして、基板Ｂが両液取りローラ７ａ，７ｂ間を通過した状態では、図５の（ハ）に示すように、液溜りＬ１は完全に除去され、かつ、基板Ｂの表面には極めて薄い薄膜状態の薬液Ｌが存在するのみの液切れ状態になっているため、次工程である水洗部３（図１）での水洗処理時に薬液Ｌの洗浄水への混入量を最小限に抑えることができるとともに、基板Ｂの表面が部分乾燥することによる薬液Ｌに起因したパーティクルの発生を確実に抑制することが可能になる。
【００４７】
本実施形態は、以上詳述したように、基板Ｂの搬送方向と直交する面内で水平方向に対して傾斜配置された搬送ローラ５によって薬液処理槽２１内を傾斜姿勢で搬送するに際し、基板Ｂの上位側の端縁に液吐出手段６からの薬液Ｌを帯状で供給するとともに、液吐出手段６の下流側に基板Ｂの下位側端縁を挾持するように上下一対の液取りローラ７ａ，７ｂを設け、これらの液取りローラ７ａ，７ｂによって基板Ｂの下位側端縁に残留した液溜りＬ１を取り除くものであるため、従来、除去するのが困難であった上記液溜りＬ１を確実に取り除くことができるようになる。
【００４８】
従って、従来のように、薬液処理槽２１と第１水洗槽３１との境界部分に、エアーナイフ等の液除去部材を設けることなく、基板Ｂの液切り処理が確実に行われることになり、設備コストの低減を図ることが可能になるとともに、液取りローラ７を通過した後の基板Ｂの表面には極めて薄い薬液Ｌの薄膜層が形成されているため、基板Ｂの表面が部分的に乾燥し、これによってパーティクルが発生する等の不都合が生じず、基板の汚染を有効に抑制する上での効果も大きい。
【００４９】
本発明は、上記の実施形態に限定されるものではなく、以下の内容をも包含するものである。
【００５０】
（１）上記の実施形態においては、基板処理装置１０として薬液処理槽２１が適用されているが、薬液処理槽２１に適用することに限定されるものではなく、第１水洗槽３１に適用してもよい。ただし、第１水洗槽３１に適用する場合は、薬液処理槽２１の直後で行われる第１段階の水洗処理に適用し、循環使用する洗浄水をその後の水洗処理の洗浄水とは別系統にするのが好ましい。
【００５１】
（２）上記の実施形態においては、処理液として基板Ｂの表面を洗浄する洗剤等を含む薬液Ｌが用いられているが、かかる薬液Ｌに代えて、処理液は、現像液、エッチング液、基板Ｂから薬液Ｌや現像液やエッチング液を洗い流す洗浄水、エッチング処理された基板Ｂの表面に被着したレジスト膜を剥離する剥離液、あるいは剥離液を置換するイソプロピルアルコール等の置換液または剥離液を洗い流す純水であってもよい。
【００５２】
（３）上記の実施形態においては、基板処理域Ａに液吐出手段６から薬液Ｌを供給するようにしているが、本発明は、処理液供給手段として液吐出手段６を用いることに限定されるものではなく、スポットノズル、コーンノズル、扇状ノズル等から基板Ｂに処理液を供給するようにしてもよい。また、液吐出手段６と、スポットノズル、コーンノズル、扇状ノズル等のいずれかとを併用してもよい。
【００５３】
（４）上記の実施形態においては、液吐出手段６は上部液吐出手段６ａおよび下部液吐出手段６ｂが採用され、これら各液吐出手段６ａ，６ｂによって基板Ｂの表裏面に処理液が供給されるようにしているが、上部液吐出手段６ａおよび下部液吐出手段６ｂの内のいずれか一方のみを設け、基板Ｂの表裏面のいずれか一方のみを処理するようにしてもよい。
【００５４】
（５）上記の実施形態においては、液取りローラ７は上部液取りローラ７ａおよび下部液取りローラ７ｂが採用され、これら各液取りローラ７ａ，７ｂによって基板Ｂの表裏面に処理液が供給されるようにしているが、上部液取りローラ７ａおよび下部液取りローラ７ｂの内のいずれか一方のみを設け、基板Ｂの下位側の表裏面のいずれか一方の液溜りＬ１を除去するようにしてもよい。
【００５５】
（６）上記の実施形態においては、基板処理装置群１内において搬送ローラ５により傾斜姿勢で搬送する基板Ｂの傾斜角度は略５°に設定されているが、本発明は基板Ｂの傾斜角度を略５°に設定することに限定されるものではなく、基板Ｂの搬送速度、薬液Ｌの吐出量や粘度等の要素を考慮して３°〜４０°に設定してもよい。
【００５６】
（７）上記の実施形態においては、液除去部材として液取りローラ７が採用されているが、液取りローラ７に代えて液切り板を基板載置面を横断する方向に延びるように設け、この液切り板の先端部が搬送中の基板の下位側端縁に対し僅かな隙間で対向するように位置設定してもよい。また、液切り板に代えて液切りロッドを設けてもよい。
【００５７】
（８）上記に実施形態においては、液取りローラ７のフランジ部７２と液切り部７３とは一体に接続され、液切り部７３はフランジ部７２に共回りするようにしているが、こうする代わりに、フランジ部７２と液切り部７３とを分離し、液切り部７３を支持軸７１に遊嵌することによって支持軸７１回りに回転自在にしてもよい。こうすることによって、搬送中の基板の端縁に外周面が当接したフランジ部７２が基板の進行によって回転しても、液切り部７３を共回りしないようにすることができ、これによって、液切り部７３が基板上の処理液を基板Ｂの下流側に押し出すようには回転しなくなるため、基板下流側への処理液の漏洩がより確実に防止される。
【００５８】
（９）上記の実施形態においては、液取りローラ７は、基板Ｂの搬送方向と直交するように設けられているが、こうする代わりに、液取りローラ７を液取りローラ７に当接した液溜りＬ１が基板Ｂの下位側端縁から外れる方向に誘導するように傾斜させてもよい。
【００５９】
【発明の効果】
請求項１記載の発明によれば、処理液供給手段の下流側であって、かつ、上記基板載置面の表側および裏側の内の少なくとも一方側に、傾斜姿勢で搬送中の基板の下位側端縁との間に微小の隙間が形成されるように対向した液除去部材を設け、この液除去部材によって基板の下位側端縁に流下して形成した液溜りを除去するようにしており、上記液溜りは、基板の搬送による搬送方向への移動によって液除去部材に当接して取り除かれて下流側の工程に搬送されるため、基板に伴った処理液の下流側工程への持込み量を確実に減少させることが可能になる。
【００６０】
従って、従来のように下流側の処理装置との間にエアーナイフ等の液除去部材を設ける必要はなくなり、その分、設備コストの低減を図ることができるとともに、基板の主面に薄膜状態で処理液が残留することにより基板主面の乾燥が抑制され、基板主面が部分的に乾燥することによるパーティクルの発生を確実に防止することができ、その結果パーティクルに起因した基板の再汚染を確実に防止することができる。
【００６１】
請求項２記載の発明によれば、液除去部材として支持軸回りに回転自在に軸支された液取りローラを用いているため、液取りローラは支持軸回りに回転し、液取りローラと基板主面とが摺接状態にはならず、従って、両者がこすれ合うことによる基板主面の損傷を防止することができる。
【００６２】
請求項３記載の発明によれば、液取りローラは、基板の下位側端縁の非有効部に当接するフランジ部を有しているため、液取りローラのフランジ部を、搬送中の基板の下位側端縁部に当接させることにより、液切り部と基板主面の有効部分との隙間寸法が一定寸法に維持され、液取りローラの外周面が基板の有効部分に接触することはなく、基板の損傷を確実に防止する上での効果は大きい。
【００６３】
請求項４記載の発明によれば、液除去部材は、搬送中の基板を挟むように対向配置されているため、搬送中の基板の下位側端縁に形成された液溜りが、上記対向配置された液除去部材によって基板の表裏で取り除かれ、処理液の次工程への持込み量をさらに少なくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る基板処理装置が適用された基板処理装置群の一実施形態を示す説明図である。
【図２】薬液処理槽の一実施形態を示す一部切欠き斜視図である。
【図３】液取りローラの一実施形態を示す一部切欠き斜視図である。
【図４】図３における液取りローラのＸ線矢視図である。
【図５】（イ）〜（ハ）は、本発明の作用を説明するための液取りローラの部分斜視図である。
【符号の説明】
１ 基板処理装置群
１０ 基板処理装置
１１ 基板通過口
２ 薬液処理部
２１ 薬液処理槽
２２ 薬液貯留槽
２２ａ 薬液管路
２２ｂ 薬液戻り管路
２３ 薬液ポンプ
２４ フィルター
３ 水洗部
３ａ 第１水洗部
３ｂ 第２水洗部
３１ 第１水洗槽
３２ 第２水洗槽
３３ 純水供給ノズル
４ 乾燥部
４１ 乾燥槽
４２ エアーナイフ
５ 搬送ローラ
５１ ローラ軸
５２ 側部ローラ
５２ａ 鍔部
５３ 中央ローラ
５４ Ｏリング
６ 液吐出手段（処理液供給手段）
６ａ 上部液吐出手段
６ｂ 下部液吐出手段
７ 液取りローラ
７ａ 上部液取りローラ
７ｂ 下部液取りローラ
７１ 支持軸
７２ フランジ部
７３ 液切り部
Ａ 処理液吐出域
Ｂ 基板

Claims (4)

1. 搬送方向と直交する面内で水平方向に対して傾斜した基板載置面上を搬送される基板の主面に、処理液供給手段から供給される処理液によって処理を施す基板処理装置において、
   上記処理液供給手段の下流側であって、かつ、上記基板載置面の表側および裏側の内の少なくとも一方側に、搬送中の基板の下位側端縁との間に微小の隙間が形成されるように配設された液除去部材を設けたことを特徴とする基板処理装置。
2. 上記液除去部材は、上記基板載置面を搬送方向と直交する横断方向に設けられた支持軸に回転自在に軸支された液取りローラであることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
3. 上記液取りローラは、基板の下位側端縁の非有効部に当接するフランジ部を有していることを特徴とする請求項２記載の基板処理装置。
4. 上記液除去部材は、搬送中の基板を挟むように対向配置されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の基板処理装置。

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