JPH09267079A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 同一の処理槽内で異なる種類の処理液を基板
に同時に供給することができるようにする。 【解決手段】 第１水洗槽３１内に敷設される搬送方向
に対して直交した面内で水平方向に対して傾斜した搬送
ローラ５で搬送されつつある基板Ｂの主面の搬送方向に
対する上位側端縁の上手側および下手側のそれぞれに向
けて基板Ｂの搬送方向に沿うように上記第１洗浄水Ｌ１
および第２洗浄水Ｌ２を吐出する上手側処理液供給手段
６ａおよび下手側処理液供給手段６ｂと、上手側処理液
供給手段６ａと下手側処理液供給手段６ｂとの間に基板
Ｂの主面を横断するように配設された中央部仕切りロー
ラ７ａと、この中央部仕切りローラ７ａを境にして基板
Ｂ搬送路の下部で上記第１水洗槽３１を二分する仕切壁
３３とが備えられている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、フォトレジスト塗
布液、感光性ポリイミド樹脂、カラーフィルター用の染
色剤等からなる薄膜が表面に形成された液晶用のガラス
基板、フォトマスク用のガラス基板等を対象とし、これ
ら基板の主面に所定の処理液を供給することによって処
理する基板処理装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、薬液供給処理が施された後、基板
に、洗浄水による洗浄処理を施してから後工程に搬送す
るようにした基板処理装置が知られている。かかる基板
処理装置は、薬液処理部、水洗部および乾燥部が直列に
配設されて形成されている。これら薬液処理部、水洗部
および乾燥部を貫通するように基板の搬送手段が敷設さ
れ、基板はこの搬送手段によって基板処理装置内を薬液
処理部、水洗部および乾燥部の順に搬送されつつ処理さ
れる。

【０００３】そして基板は、薬液処理部においてアルカ
リ洗浄液、現像液、エッチング液あるいは剥離液等の薬
液が表面に供給されて所定の処理が施され、ついで水洗
部において水洗処理が施され、最後に乾燥部において気
体の噴射等による乾燥処理が行われるようになってい
る。

【０００４】ところで、薬液処理部で薬液による所定の
処理が施された基板は、その表面に薬液が付着した状態
になっているため、そのまま薬液処理部から水洗部に移
されると、水洗部内に薬液が持ち込まれることになり、
循環使用される洗浄水が薬液の混入によって汚染され、
洗浄性能の維持が図れなくなるという不都合が生じる。

【０００５】そこで、従来、薬液処理部と水洗部との境
界部分にエアーナイフが配設され、その気体吐出口から
基板の表面に向けてカーテン状の気体を吹き付け、基板
の表面に付着している薬液を、基板の表面が乾燥しない
程度に薬液処理部内に向けて吹き戻し、これによって薬
液の水洗部への持ち込みを防止するようにしていた。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年、
基板の大型化に伴い、基板が薬液処理部で薬液の供給を
受けつつ下流側が水洗部で洗浄水の供給を受けるという
工程の重複が生じるようになり、たとえ薬液処理部と水
洗部との境界部分でエアーナイフから基板の表面に向け
て気体を噴射しても、基板の上流側の表面には薬液が、
下流側の表面には洗浄水が同時に供給された状態になる
ため、基板の表面を通って薬液が洗浄部に入り込んだ
り、逆に洗浄水が薬液処理部に移動したりすることがあ
り、境界部分で液の確実な置換が行われなくなるという
問題が発生するようになった。

【０００７】かかる問題を解消するために、薬液処理部
および水洗部の処理槽の長さを長くし、基板が薬液処理
部と水洗部との境界部分に差し掛かった状態では、薬液
および洗浄水のいずれもが基板に供給されないようにす
ることが考えられるが、このようにすると処理槽を大型
化しなければならず、設備コストが嵩むという新たな問
題点が発生する。

【０００８】本発明は、上記のような問題を解決するた
めのものであり、同一の処理槽内で異なる種類の処理液
を基板に同時に供給することができ、これによって設備
の小型化と、処理効率の向上との双方を達成し得る基板
処理装置を提供することを目的としている。

【０００９】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
処理槽内の所定位置に配設された基板搬送路上を搬送方
向に搬送される基板の主面に処理液を供給して所定の処
理を施す基板処理装置において、上記基板搬送路の搬送
方向の上手側および下手側に設けられ、かつ、基板の搬
送方向に沿って処理液を吐出する上手側処理液供給手段
および下手側処理液供給手段と、上手側処理液供給手段
と下手側処理液供給手段との間で基板搬送路に交差した
仕切りローラとを備えたことを特徴とするものである。

【００１０】この発明によれば、処理槽内において上手
側処理液供給手段および下手側処理液供給手段からそれ
ぞれ処理液を吐出させつつ基板搬送路に沿って基板を搬
送することにより、基板が上手側処理液供給手段に差し
掛かったときに基板の主面に上手側処理液供給手段から
の処理液が供給されて処理され、ついで、下手側処理液
供給手段差し掛かったときに、すでに上手側処理液供給
手段からの処理液によって処理された部分が下手側処理
液供給手段からの処理液によって処理され、基板の下流
端が下手側処理液供給手段から外れた時点で、基板の主
面は上手側処理液供給手段および下手側処理液供給手段
からの二種類の処理液による処理が完了した状態にな
る。

【００１１】そして、上手側処理液供給手段と、下手側
処理液供給手段との間には、仕切りローラが設けられて
いるため、この仕切りローラに遮られ、搬送中の基板上
で上手側処理液供給手段からの処理液と、下手側処理液
供給手段からの処理液とが混ざり合うことはなく、各処
理液の処理性能が確保される。

【００１２】請求項２記載の発明は、請求項１記載の発
明において、上記処理槽は、上記仕切りローラの真下に
この仕切りローラと平行な仕切壁を有していることを特
徴とするものである。

【００１３】この発明によれば、上手側処理液供給手段
から吐出された処理液と、下手側処理液供給手段から吐
出された処理液とは、仕切りローラによって基板主面上
での混合が防止された状態で各処理液は基板の幅方向の
側端縁から流下し、仕切壁によって相互に混ざり合わな
い状態で処理槽の底部に貯留される。

【００１４】請求項３記載の発明は、請求項１または２
記載の発明において、上記基板搬送路は、搬送方向に直
交した面内で水平方向に対して傾斜するように形成さ
れ、上記上手側および下手側処理液供給手段は、搬送中
の基板の主面の上位側端縁に向けて処理液を吐出するよ
うに取り付け位置が設定されていることを特徴とするも
のである。

【００１５】この発明によれば上手側処理液供給手段お
よび下手側処理液供給手段からそれぞれ吐出された処理
液は、傾斜姿勢で搬送されつつある基板の傾斜に沿って
流下するため、基板主面上での液切れが良好になる。

【００１６】請求項４記載の発明は、請求項１または２
記載の発明において、上記基板搬送路は水平に形成さ
れ、上記上手側および下手側処理液供給手段は、搬送中
の基板の主面の幅方向の中央部における上手側および下
手側のそれぞれに向けて処理液を吐出するように取り付
け位置が設定され、基板搬送路における上手側処理液供
給手段の上手側、および基板搬送路における下手側処理
液供給手段の基板搬送路における下手側で、搬送中の基
板の主面を幅方向に横断する上手側仕切りローラ、およ
び下手側仕切りローラが設けられていることを特徴とす
るものである。

【００１７】この発明によれば、少なくとも下手側処理
液供給手段の下流側の基板主面上は、下手側仕切りロー
ラによって仕切られているため、下手側処理液供給手段
から吐出された処理液は基板主面上を下流側に液流状態
で移行せず、処理液の次工程への持ち出し量が少なくな
る。

【００１８】また、上手側処理液供給手段の上流側にも
上手側仕切りローラを設けることにより、上手側処理液
供給手段から吐出された処理液が基板主面上でこの上手
側仕切りローラに遮られて基板主面上を上流側に移行す
ることはなく、処理液の上流側工程への流入が阻止され
る。

【００１９】請求項５記載の発明は、請求項１乃至４の
いずれかに記載の発明において、上記仕切りローラは、
基板の端縁部に当接する両側部が中央部に比して大径で
あることを特徴とするものである。

【００２０】この発明によれば、搬送中の基板は、その
幅方向の側端縁が大径部の外周面に当接した状態で中央
部の有効部分が小径部に対向した状態になり、小径部は
上記有効部分に当接しないため、当接した場合に起こる
基板の有効部分の損傷が回避される。

【００２１】請求項６記載の発明は、請求項１乃至５の
いずれかに記載の発明において、上手側処理液供給手段
の処理液吐出域および下手側処理液供給手段の処理液吐
出域の内の少なくとも一方であって、搬送方向と交差す
る基板の幅方向に亘って処理液を供給する第２の処理液
供給手段が設けられていることを特徴とするものであ
る。

【００２２】この発明によれば、上手側あるいは下手側
処理液供給手段から吐出される処理液に加え、第２の処
理液給手段からの処理液も基板の主面に供給されるた
め、基板の主面上での処理液の流れに乱流が生じ、乱流
による混合で処理液と基板主面との接触状態が均一にな
り、処理液による基板主面の処理効率が向上する。ま
た、第２の処理液供給手段を洗浄部に設けると、基板表
面における処理液の衝突効果により、基板に付着したパ
ーティクル等の余剰物がより効率よく除去される。

【００２３】

【発明の実施の形態】図１は、本発明に係る基板処理装
置の第１実施形態が適用された基板処理装置群の一実施
形態を示す説明図である。基板処理装置群１は、基板の
主面に所定の薬液を供給して処理する薬液処理部２、こ
の薬液処理部２で薬液処理の施された基板Ｂを水洗する
水洗部３、およびこの水洗部３で水洗処理の施された基
板Ｂを乾燥する乾燥部４が直列に上流側から順次配設さ
れて形成されている。

【００２４】薬液処理部２および乾燥部４は、それぞれ
箱型の薬液処理槽２１および乾燥槽４１を備えて形成さ
れている。また、水洗部３は、上流側の第１水洗槽３１
と下流側の第２水洗槽３２とを備えて形成されている。
第１水洗槽３１内には前洗浄用の第１洗浄水Ｌ１を用い
て基板Ｂを洗浄する第１洗浄空間Ｓ１と、第１洗浄水Ｌ
１によって洗浄された基板Ｂに第２洗浄水Ｌ２を用いた
中間洗浄を施す第２洗浄空間Ｓ２とが形成されている。
また、第２水洗槽３２において基板Ｂに純水による仕上
げ洗浄が施されるようになっている。また上記薬液処理
部２では処理液（薬液）として洗剤の混入された洗浄液
が用いられ、乾燥槽４１では乾燥用の窒素またはドライ
エア等の気流が用いられている。

【００２５】各槽２１，３１，３２，４１の上流壁およ
び下流壁には水平方向で互いに対向した基板通過口１１
が開口され、この基板通過口１１を通して基板Ｂが各槽
２１，３１，３２，４１に入出されるようになってい
る。

【００２６】基板Ｂを各槽２１，３１，３２，４１内で
搬送する搬送手段としてはローラコンベアが適用されて
いる。このローラコンベアは、基板Ｂの搬送方向に直交
する面内で水平方向に対して傾斜した支持軸を有する搬
送ローラ５が搬送方向にほぼ等ピッチで並設されて形成
され、図略の駆動手段の駆動により同一方向に同期回転
されるようになっている。従って、基板Ｂの各槽２１，
３１，３２，４１内における搬送路は、搬送方向に対し
て全体的に幅方向に傾斜しており、基板Ｂはこの傾斜搬
送路に沿って傾斜姿勢で搬送されつつ、各槽２１，３
１，３２，４１内で所定の処理が施される。本実施形態
においては、基板Ｂの水平面に対する傾斜角度α（図
３）は略５°に設定されている。

【００２７】基板Ｂは、前工程から図略の上流側引継ぎ
手段を介して傾斜姿勢に姿勢変更された後、薬液処理槽
２１の直上流側に配設された搬送ローラ５に移載され、
ついで搬送ローラ５の駆動によって基板処理装置群１内
に導入され、ここで搬送ローラ５によって搬送方向（図
１の右方）に向けて搬送されつつ薬液処理槽２１内にお
いて散液配管や処理液供給手段等の散液手段２２からの
薬液の供給による所定の薬液処理が主面に施され、つい
で第１水洗槽３１内の第１洗浄空間Ｓ１において処理液
供給手段６（上手側処理液供給手段６ａ）からの第１洗
浄水Ｌ１の供給を受けて前洗浄が施され、第２洗浄空間
Ｓ２において処理液供給手段６（下手側処理液供給手段
６ｂ）からの第２洗浄水Ｌ２の供給を受けて中間洗浄処
理が施され、第２水洗槽３２において純水供給ノズル３
４からの純水の供給を受けて仕上げ洗浄され、最後の乾
燥槽４１においてエアナイフ４２からの窒素またはドラ
イエア等の気体の噴射供給による乾燥処理が施された
後、乾燥槽４１の直ぐ下流側に配設された図略の下流側
引継ぎ手段を介して元の水平姿勢に戻され、次工程に向
けて導出されるようになっている。

【００２８】本発明に係る基板処理装置１０は、本実施
形態においては上記第１水洗槽３１に適用されている。
以下本発明に係る基板処理装置１０につき、第１水洗槽
３１に適用された場合を例に挙げて説明する。図２は、
第１水洗槽（基板処理装置）３１の第１実施形態を示す
一部切欠き斜視図である。この図に示すように、第１水
洗槽３１内には、上流側および下流側の基板通過口１１
間に、同一高されべルで搬送方向（右方）に向かって５
本の搬送ローラ５が配設され、図略の駆動手段による各
搬送ローラ５の同一方向の同期回転によって、上流側の
基板通過口１１から第１水洗槽３１内に導入された基板
Ｂは、下流側の基板通過口１１に向けて第１水洗槽３１
内を搬送されるようになっている。

【００２９】上記搬送ローラ５は、第１水洗槽３１内の
側壁間に自軸心回りに回転可能に架橋されたローラ軸５
１と、このローラ軸５１の左右両側部にローラ軸５１と
共回り可能に設けられた左右一対の側部ローラ５２と、
ローラ軸５１の中央部に設けられた中央ローラ５３とか
ら形成された、いわゆる部分支持型ローラが採用されて
いる。かかる部分支持型ローラを適用することにより、
搬送ローラ５と基板Ｂ裏面との接触域を少なくし、基板
Ｂの裏面への洗浄水や気体の供給を良好に行い得るとと
もに、洗浄過程や乾燥工程での搬送ローラ５との接触に
よる基板Ｂの裏面の汚染を最小限に抑えることが可能に
なる。

【００３０】上記左右の側部ローラ５２は、各々その外
方側部に側部ローラ５２と一体の鍔部５２ａを有してお
り、この鍔部５２ａによって各ローラ５２，５３上に載
置されて搬送される基板Ｂの横ずれを防止するととも
に、特に下位側の鍔部５２ａによって基板Ｂが搬送路の
傾斜面に沿って滑落するのを防止している。また、各ロ
ーラ５２，５３にはゴム等の柔軟性材料からなる緩衝材
としてのＯリング５４が外嵌されており、このＯリング
５４の滑り止め作用によって基板Ｂの搬送を確実に行い
得るようにしている。

【００３１】第１水洗槽３１内には、搬送方向の略中央
部であって、搬送ローラ５の上位側の内壁面に搬送方向
に延びた支持枠体１２が設けられ、この支持枠体１２
に、下方に向いたスリット状の吐出口を搬送方向に沿わ
せるようにして配置された前後方向一対の処理液供給手
段６（上手側処理液供給手段６ａおよび下手側処理液供
給手段６ｂ）が固定されている。各処理液供給手段６
ａ，６ｂの前後方向の長さ寸法は、基板Ｂの長さ寸法
（搬送方向に延びる寸法）の略１／４に設定されてい
る。

【００３２】また、図２に示すように、基板Ｂ上の上手
側処理液供給手段６ａに対向する部分から下位側の側端
縁に亘る部分に、上手側処理液供給手段６ａからの第１
洗浄水Ｌ１の流下による第１洗浄域Ａ１が形成されてい
るとともに、下手側処理液供給手段６ｂに対向する部分
から下位側の側端縁に亘る部分に第２洗浄域Ａ２が形成
されている。

【００３３】そして、第１洗浄域Ａ１と第２洗浄域Ａ２
との境界部分には、基板Ｂの幅方向の全長に亘る長さ寸
法を備えた仕切りローラ７（中央部仕切りローラ７ａ）
が設けられ、この中央部仕切りローラ７ａの仕切り作用
によって基板Ｂ上の第１洗浄域Ａ１を流下する第１洗浄
水Ｌ１と、第２洗浄域Ａ２を流下する第２洗浄水Ｌ２と
が相互に混合し合わないようにしている。

【００３４】かかる中央部仕切りローラ７ａは、第１水
洗槽３１内に配設された５本の搬送ローラ５の中央のも
のに対向してその上方に設けられている。そして第１水
洗槽３１内に搬送された基板Ｂは、中央部の搬送ローラ
５と中央部仕切りローラ７ａとに挾持された状態にな
り、これによって中央部仕切りローラ７ａの仕切り作用
が確実になるようにしている。

【００３５】また、中央部に配設された搬送ローラ５の
下方には、仕切壁３３が設けられ、この仕切壁３３によ
って第１水洗槽３１の底部に上手側貯留部３３ａと、下
手側貯留部３３ｂとが形成されている。従って、上手側
処理液供給手段６ａから吐出され、基板Ｂ上の第１洗浄
域Ａ１を流下した第１洗浄水Ｌ１は、上手側貯留部３３
ａに一時貯留されるとともに、下手側処理液供給手段６
ｂから吐出され、基板Ｂ上の第２洗浄域Ａ２を流下した
第２洗浄水Ｌ２は、下手側貯留部３３ｂに一時貯留され
るようになっている。

【００３６】一方、第１水洗槽３１の近傍には上記上手
側処理液供給手段６ａに供給するための第１洗浄水Ｌ１
を貯留する第１洗浄水貯槽３５と、下手側処理液供給手
段６ｂに第２洗浄水Ｌ２を供給するための第２洗浄水貯
槽３６とが配設されている。そして、第１洗浄水貯槽３
５と上手側処理液供給手段６ａとの間に第１洗浄水管路
３５ａが配設されているとともに、上手側貯留部３３ａ
の底部と第１洗浄水貯槽３５の頂部との間には第１洗浄
水戻り管路３５ｂが配設され、これら第１洗浄水管路３
５ａおよび第１洗浄水戻り管路３５ｂによって第１洗浄
水貯槽３５内の第１洗浄水Ｌ１を上手側処理液供給手段
６ａを介して循環させる循環管路が形成されている。

【００３７】また、第２洗浄水貯槽３６と下手側処理液
供給手段６ｂとの間に第２洗浄水管路３６ａが配設され
ているとともに、下手側貯留部３３ｂの底部と第２洗浄
水貯槽３６の頂部との間には第２洗浄水戻り管路３６ｂ
が配設され、これら第２洗浄水管路３６ａおよび第２洗
浄水戻り管路３６ｂによって第２洗浄水貯槽３６内の第
２洗浄水Ｌ２を下手側処理液供給手段６ｂを介して循環
させる循環管路が形成されている。

【００３８】そして、第１洗浄水貯槽３５の直ぐ下流側
の第１洗浄水管路３５ａには第１洗浄水ポンプ３５ｃが
設けられているとともに、第１洗浄水ポンプ３５ｃの直
ぐ下流側にはフィルター３５ｄが設けられている。従っ
て、第１洗浄水ポンプ３５ｃを駆動することにより、第
１洗浄水貯槽３５内の第１洗浄水Ｌ１は、第１洗浄水管
路３５ａを通してまずフィルター３５ｄで異物が除去さ
れ、ついで上手側処理液供給手段６ａから搬送ローラ５
上の傾斜姿勢の基板Ｂ表面の上位側端縁に向けて吐出さ
れ、基板Ｂの傾斜に沿って流下しながら前洗浄を施した
後、基板Ｂの下位側端縁から上手側貯留部３３ａに落下
し、第１洗浄水戻り管路３５ｂを介して第１洗浄水貯槽
３５に戻され、以後、循環使用される。

【００３９】同様に、第２洗浄水貯槽３６の直ぐ下流側
の第２洗浄水管路３６ａには第２洗浄水ポンプ３６ｃが
設けられているとともに、第２洗浄水ポンプ３６ｃの直
ぐ下流側にはフィルター３６ｄが設けられている。従っ
て、第２洗浄水ポンプ３６ｃを駆動することにより、第
２洗浄水貯槽３６内の第２洗浄水Ｌ２は、第２洗浄水管
路３６ａを通してまずフィルター３６ｄで異物が除去さ
れ、ついで下手側処理液供給手段６ｂから搬送ローラ５
上の傾斜姿勢の基板Ｂ表面の上位側端縁に向けて吐出さ
れ、基板Ｂの傾斜に沿って流下しながら中間洗浄処理を
施した後、基板Ｂの下位側端縁から下手側貯留部３３ｂ
に落下し、第２洗浄水戻り管路３６ｂを介して第２洗浄
水貯槽３６に戻され、以後、循環使用される。

【００４０】このように、第１水洗槽３１内において、
基板Ｂに第１洗浄水Ｌ１による前洗浄処理が施された
後、第２洗浄水Ｌ２による中間洗浄処理が施され、しか
も第１洗浄水Ｌ１と第２洗浄水Ｌ２とを別系統で循環使
用するのは以下の理由による。すなわち、基板Ｂは薬液
処理部２（図１）において薬液処理され、表面に薬液が
付着した状態で第１水洗槽３１に導入されるため、この
薬液の付着した基板Ｂを洗浄する第１洗浄水Ｌ１と、中
間洗浄処理用の第２洗浄水Ｌ２とを別系統にしておかな
いと、第２洗浄水Ｌ２が薬液で汚染され、基板Ｂが段階
的に清浄化されなくなるからである。

【００４１】図３は、処理液供給手段６の一実施形態を
示す一部切欠き斜視図である。この図に示すように、処
理液供給手段６は、前後方向に延びる長尺直方体状の本
体６１と、この本体６１の下部から延設された先細りの
ノズル部６２とを備えて形成されている。上記本体６１
は、内部に前後方向に延びる処理液供給管路６３を有し
ているとともに、頂部に雄ネジの螺設された接続筒６４
を有している。この接続筒６４に洗浄水管路３５ａ，３
６ａの下流端に設けられたジョイント３７が螺着される
ことにより、洗浄水管路３５ａ，３６ａが各処理液供給
手段６ａ，６ｂの各々に接続されるようになっている。

【００４２】また、上記ノズル部６２には、処理液供給
管路６３に連通した前後方向に延びるスリット状の処理
水吐出口６５が設けられており、洗浄水管路３５ａ、３
５ｂを通して本体６１の処理液供給管路６３に供給され
た洗浄水Ｌ１，Ｌ２は、処理水吐出口６５から基板Ｂ上
に供給される。

【００４３】図４は、基板Ｂが仕切りローラ７と搬送ロ
ーラ５とに挟持された状態を示す正面図である。この図
に示すように、仕切りローラ７は、基板Ｂの幅方向に延
びる仕切りローラ軸７１と、この仕切りローラ軸７１の
両側部に設けられたフランジ部（大径部）７２と、これ
らフランジ７２に挟持され、かつ、フランジ７２より若
干小径の液切り部（小径部）７３とから構成されてい
る。上記液切り部７３は、フランジ部７２が基板Ｂの幅
方向の上面両縁部に当接するように長さ寸法が設定され
ている。従って、基板Ｂが仕切りローラ７の下部に搬送
された状態で、基板Ｂの幅方向の両側部は側部ローラ５
２の外周面とフランジ部７２の外周面とに挟持され、こ
れによって基板Ｂの表面中央部と液切り部７３の外周面
との間には距離ｄの隙間が形成された状態になってい
る。

【００４４】上記隙間の距離ｄは、基板Ｂ上の中央部仕
切りローラ７ａを挟んだ第１洗浄域Ａ１および第２洗浄
域Ａ２に吐出された第１洗浄水Ｌ１および第２洗浄水Ｌ
２が表面張力によって相互に混ざり合わない寸法に設定
されている。本実施例では、上記隙間ｄは０．１〜１．
０ｍｍに設定され、これによって、基板Ｂの表面中央部
に形成された有効エリアが仕切りローラ７との接触によ
る損傷を受けないようにしているとともに、第１および
第２洗浄域Ａ１，Ａ２のそれぞれに上手側および下手側
処理液供給手段６ａ，６ｂから吐出された第１および第
２洗浄水Ｌ１，Ｌ２の混合が防止されるようにしてい
る。

【００４５】また、仕切りローラ７は、上記搬送ローラ
５に対向して設けられ、これによって仕切りローラ７に
到達した基板Ｂは、搬送ローラ５上にあって、かつ、幅
方向の端縁が搬送ローラ５の側部ローラ５２と、仕切り
ローラ７のフランジ部７２とに挾持された安定した状態
になり、これによって基板Ｂの撓みが抑制され、隙間ｄ
の一定化を確保した状態で液切り部７３による液切りが
確実に行われるようにしている。

【００４６】図５は、本発明の作用を説明するための説
明図であり、（イ）は基板Ｂの搬送方向前端が第１洗浄
域Ａ１に侵入した直後の状態、（ロ）は基板Ｂの後端側
が第１洗浄域Ａ１に位置しているとともに、前端側が第
２洗浄域Ａ２に位置している状態、（ハ）は基板Ｂが第
２洗浄域Ａ２から導出された状態をそれぞれ示してい
る。

【００４７】まず、図５の（イ）に示すように、搬送ロ
ーラ５の駆動により上流側（左方）の基板通過口１１を
介して第１水洗槽３１内に導入されて第１洗浄域Ａ１に
侵入した基板Ｂは、その搬送方向前端部の上位側に上手
側処理液供給手段６ａから吐出された第１洗浄水Ｌ１が
供給され、基板Ｂの前端側の表面を上位側から下位側に
向けて第１洗浄水Ｌ１が流下し、これによって基板Ｂの
表面に第１洗浄水Ｌ１による前洗浄処理が施される。前
洗浄処理後の第１洗浄水Ｌ１は基板Ｂの下位側端縁を通
って第１水洗槽３３ａの底部に落下する。そして、第１
洗浄水Ｌ１は基板Ｂの傾斜に沿って流下するため、第１
洗浄水Ｌ１が基板Ｂの表面を伝って基板Ｂの後端縁から
第１水洗槽３３ａ外に漏れ出るという不都合は回避され
る。

【００４８】ついで、図５の（ロ）に示すように、搬送
ローラ５の駆動によって基板Ｂの前端側が第２洗浄域Ａ
２に進入し、かつ、基板Ｂの後端側が第１洗浄域Ａ１に
残っている状態になると、上手側処理液供給手段６ａか
ら吐出された第１洗浄水Ｌ１が基板Ｂ中央部の上位側端
縁に供給され、これによって基板Ｂの第１洗浄域Ａ１に
ある部分が第１洗浄水Ｌ１によって水洗されるととも
に、下手側処理液供給手段６ｂから吐出された第２洗浄
水Ｌ２が基板Ｂの第２洗浄域Ａ２にある部分を洗浄処理
する。

【００４９】そして、第１洗浄域Ａ１と第２洗浄域Ａ２
との間には中央部仕切りローラ７ａが設けられているた
め、この中央部仕切りローラ７ａによって第１洗浄水Ｌ
１と第２洗浄水Ｌ２とは相互に混ざり合うことなく、そ
れぞれが仕切壁３３によって仕切られた上手側貯留部３
３ａと下手側貯留部３３ｂとに流下する。そして、第２
洗浄水Ｌ２は基板Ｂの傾斜に沿って勢いよく流下し、下
流側には液流となって向かわないため、下手側処理液供
給手段６ｂを通過した基板Ｂの表面は、第２洗浄水Ｌ２
が極めて薄い薄膜状態で残留した状態になっている。

【００５０】さらに、図５の（ハ）に示すように、搬送
ローラ５の駆動で基板Ｂが完全に第２洗浄域Ａ２から外
れた状態になると、基板Ｂの表面はすでに第１洗浄水Ｌ
１および第２洗浄水Ｌ２による水洗処理が完了し、か
つ、基板Ｂの表面には極めて薄い薄膜状態の第２洗浄水
Ｌ２が存在するのみの液切れ状態になっているため、次
工程である第２水洗槽３２（図１）への第２洗浄水Ｌ２
の持込み量を最小限に抑えることができるとともに、基
板Ｂの表面が部分乾燥することに起因したパーティクル
の発生を確実に抑制することが可能になる。

【００５１】図６は、第１水洗槽（基板処理装置）３１
０の第２実施形態を示す一部切欠き斜視図である。この
図に示すように、第２実施形態の第１水洗槽３１０は、
上手側処理液供給手段６ａの上流側に、基板Ｂを幅方向
に横断するように上手側仕切りローラ７ｂが設けられて
いるとともに、下手側処理液供給手段６ｂの下流側に基
板Ｂを幅方向に横断するように下手側仕切りローラ７ｃ
が設けられている。これらの仕切りローラ７は、上記中
央部仕切りローラ７ａと同様に構成されている。その他
の構成は第１実施形態と同一である。

【００５２】かかる第２実施形態の第１水洗槽３１０に
よれば、基板Ｂ上の第１洗浄域Ａ１に上手側処理液供給
手段６ａから吐出された第１洗浄水Ｌ１は、上手側仕切
りローラ７ｂの仕切り作用によって基板Ｂ上を上流側に
漏出しないため、第１洗浄水Ｌ１の薬液処理槽２１内へ
の混入が確実に防止されるとともに、下手側仕切りロー
ラ７ｃの液切り作用によって、下手側仕切りローラ７ｃ
の下流側における基板Ｂ表面の残留洗浄水量を少なく抑
えることが可能になり、第２水洗槽３２への第２洗浄水
Ｌ２の持込み量を最小限度に抑えることが可能になる。

【００５３】以上詳述したように、前記の実施形態は、
基板Ｂを水平姿勢あるいは傾斜姿勢で搬送するに際し、
基板Ｂの上位側の端縁に上手側処理液供給手段６ａおよ
び下手側処理液供給手段６ｂからそれぞれ異なる処理液
（本実施形態では第１洗浄水Ｌ１と第２洗浄水Ｌ２）を
第１洗浄域Ａ１および第２洗浄域Ａ２に向けてそれぞれ
吐出するようにし、しかも、基板Ｂを傾斜姿勢で搬送す
るときには少なくとも第１洗浄域Ａ１と第２洗浄域Ａ２
との境界部分に基板Ｂを横断するように中央部仕切りロ
ーラ７ａが配設される。また、基板Ｂを水平姿勢で搬送
するときには上記中央部仕切りローラ７ａに加えて第１
洗浄域Ａ１の上流側に上手側仕切りローラ７ｂを、第２
洗浄域Ａ２の下流側には下手側仕切りローラ７ｃが配設
される。

【００５４】基板Ｂの水平、傾斜の搬送姿勢に拘らず、
第１水洗槽３１の底部に仕切りローラ７を境にした仕切
壁３３を設けてなるものであるため、仕切りローラ７の
仕切り作用によって第１洗浄水Ｌ１と第２洗浄水Ｌ２と
は基板Ｂ上で互いに混ざり合うことがない状態で基板Ｂ
の幅方向の側端縁から流下し、この流下時に基板Ｂの表
面に第１洗浄水Ｌ１による前洗浄処理、引き続き第２洗
浄水Ｌ２による中間洗浄処理が施される。

【００５５】図７は、第１水洗槽（基板処理装置）３１
１の第３実施形態を示す一部切欠き斜視図である。図７
に示すように、第３実施形態においては、水平姿勢で搬
送される基板Ｂの処理を対象にしている。そして、搬送
ローラ５並びに中央部仕切りローラ７ａ、上手側仕切り
ローラ７ｂおよび下手側仕切りローラ７ｃはそれぞれ第
１水洗槽３１１の幅方向の側壁間に水平に架橋されてい
るとともに、これに応じて基板通過口１１も水平方向に
延びるように開口されている。

【００５６】そして基板Ｂは、この水平姿勢の搬送ロー
ラ５によって搬送されつつ仕切りローラ７によって仕切
られた第１洗浄域Ａ１および第２洗浄域Ａ２に供給され
る第１洗浄水Ｌ１および第２洗浄水Ｌ２によって処理さ
れるようになっている。

【００５７】また、第３実施形態においては、支持枠体
１２０は、搬送ローラ５の上方において第１水洗槽３１
１の幅方向の側壁間に差し渡された前後方向一対の側壁
間梁材１２１と、各側壁間梁材１２１の幅方向の中央部
に平行に架橋された一対のノズル支持梁材１２２とを備
えて形成され、上記上手側処理液供給手段６ａおよび下
手側処理液供給手段６ｂは、各ノズル支持梁材１２２間
に挟持され、かつ、搬送方向に延びた状態で支持枠体１
２０に固定されている。これによって上手側処理液供給
手段６ａおよび下手側処理液供給手段６ｂから吐出され
た第１洗浄水Ｌ１および第２洗浄水Ｌ２は、基板Ｂ上の
第１洗浄域Ａ１および第２洗浄域Ａ２の幅方向の中央部
に吐出されることになる。その他は先の第２実施形態の
ものと同様に構成されている。

【００５８】第３実施形態の構成によれば、各処理液供
給手段６ａ，６ｂからの各洗浄水Ｌ１，Ｌ２は、搬送ロ
ーラ５によって搬送されつつある基板Ｂ上の第１洗浄域
Ａ１および第２洗浄域Ａ２の幅方向の中央部に吐出さ
れ、各洗浄域Ａ１，Ａ２に吐出された各洗浄水Ｌ１，Ｌ
２は、上手側仕切りローラ７ｂおよび中央部仕切りロー
ラ７ａ、並びに中央部仕切りローラ７ａおよび下手側仕
切りローラ７ｃによって各洗浄域Ａ１，Ａ２外に漏出す
るのが防止された状態で幅方向に左右に分かれて流れ、
第１洗浄水Ｌ１は上手側貯留部３３ａに第２洗浄水Ｌ２
は下手側貯留部３３ｂに流下する。

【００５９】図８は、第１水洗槽（基板処理装置）３１
２の第４実施形態を示す一部切欠き斜視図である。この
実施形態においては、図２に示す第１実施形態の第１水
洗槽３１がベースとして採用され、その中央部仕切りロ
ーラ７ａの上手側および下手側に、搬送中の基板を横断
するように上手側散水配管（第２の処理液供給手段）６
０ａおよび下手側散水配管（第２の処理液供給手段）６
０ｂがそれぞれ設けられることにより第１水洗槽３１２
が形成されている。各散水配管６０ａ，６０ｂは、下面
部に長手方向に亘って配列された複数の散水ノズル６０
１を有している。これらの散水ノズル６０１としては、
コーンノズルや扇形ノズル等の通常のスプレーノズルが
採用されている。

【００６０】そして、上手側散水配管６０ａからは、散
水ノズル６０１を介して第１洗浄域Ａ１の基板搬送方向
の中央部に向けて第１洗浄水貯槽３５からの第１洗浄水
Ｌ１が供給されるとともに、下手側散水配管６０ｂから
は、第２洗浄域Ａ２の基板搬送方向の中央部に向けて第
２洗浄水貯槽３６からの第２洗浄水Ｌ２が供給されるよ
うになっている。第４実施形態の第１水洗槽３１２は、
内部に上記のような散水配管６０ａ，６０ｂが設けられ
ている以外は、第１実施形態の第１水洗槽３１と同一構
成である。

【００６１】第４実施形態の上記構成によれば、各処理
液供給手段６ａ，６ｂから吐出される処理液Ｌ１，Ｌ２
に加え、各散水配管６０ａ，６０ｂからも処理液Ｌ１，
Ｌ２が基板Ｂ主面の各洗浄域Ａ１，Ａ２にそれぞれ供給
されるため、基板Ｂの主面上での処理液Ｌ１，Ｌ２の流
れに乱流が生じ、乱流による混合で処理液Ｌ１，Ｌ２と
基板Ｂ主面との接触状態が均一になり、基板Ｂ主面の処
理効率を向上させることができる。また処理液Ｌ１，Ｌ
２の衝撃効果により、基板Ｂ主面に付着ているパーティ
クル等の余剰物をより効果的に洗浄することができる。

【００６２】本発明は、以上詳述したように、第１水洗
槽３１内を搬送ローラ５によって搬送される基板Ｂの主
面に対向して上手側処理液供給手段６ａおよび下手側処
理液供給手段６ｂを設け、これら各処理液供給手段６
ａ，６ｂから吐出された第１洗浄水Ｌ１と第２洗浄水Ｌ
２とが相互に混ざり合わないように仕切りローラ７が基
板Ｂを横断するように設け、しかも、仕切壁３３で仕切
られた各貯留部３３ａ，３３ｂにおいて各洗浄水Ｌ１，
Ｌ２をそれぞれ回収するものであるため、第１洗浄水Ｌ
１による第１洗浄空間Ｓ１、および第２洗浄水Ｌ２によ
る第２洗浄空間Ｓ２（図１）を、従来のようにそれぞれ
別の処理槽で形成する必要はなく、１槽で賄うことが可
能になり、その分、設備コストの削減に寄与し得るとと
もに、基板の処理時間の短縮も実現し、処理効率を向上
させる上での効果も大きい。

【００６３】また本発明は、上記の実施形態に限定され
るものではなく、以下の内容をも包含するものである。

【００６４】（１）上記の実施形態においては、異なる
種類の処理液として第１洗浄水Ｌ１および第２洗浄水Ｌ
２を用い、上手側処理液供給手段６ａから第１洗浄水Ｌ
１を吐出し、下手側処理液供給手段６ｂから第２洗浄水
Ｌ２を吐出することによって、前洗浄処理と、中間洗浄
処理とを略同時に行うようにしているが、上手側処理液
供給手段６ａに薬剤を供給し、下手側処理液供給手段６
ｂに洗浄水を供給するなど、まったく性状の異なる二種
類の処理液を同一処理槽内で使用するようにしてもよ
い。

【００６５】（２）上記の第２実施形態においては、第
１水洗槽３１内の中央部仕切りローラ７ａの上流側に上
手側仕切りローラ７ｂ、下流側に下手側仕切りローラ７
ｃが設けているが、状況に応じて上手側仕切りローラ７
ｂおよび下手側仕切りローラ７ｃの内のいずれか一方の
みを採用するようにしてもよい。

【００６６】（３）上記の第４実施形態においては、散
水配管６０ａ，６０ｂは、第１実施形態の第１水洗槽３
１に適用されているが、本発明は、散水配管６０ａ，６
０ｂが第１実施形態の第１水洗槽３１に適用されること
に限定されるものではなく、第２および第３実施形態の
第１水洗層３１０，３１１にも適用可能である。

【００６７】（４）上記の実施形態においては、処理液
供給手段６から吐出される各洗浄水Ｌ１，Ｌ２によって
基板Ｂの表面のみが処理されるようになっているが、本
発明は、基板Ｂの表面のみを処理することに限定される
ものではなく、搬送中の基板Ｂの裏面上位側に各洗浄水
Ｌ１，Ｌ２を吐出する処理液供給手段を設け、この処理
液供給手段からの洗浄水Ｌ１，Ｌ２の吐出によって基板
Ｂの裏面をも処理するようにしてもよい。こうすること
によって基板Ｂの裏面の上位側に吐出された各洗浄水Ｌ
１，Ｌ２は、基板Ｂの傾斜に沿って流下するため、支障
なく基板Ｂの裏面が洗浄処理される。

【００６８】（５）上記の実施形態においては、各洗浄
水Ｌ１，Ｌ２を帯状で処理液供給手段６から吐出するよ
うにしているが、本発明は、このような処理液供給手段
６を採用することに限定されるものではなく、通常のコ
ーンノズル、扇型ノズル等から基板Ｂの上位側側縁部に
向けて各洗浄水Ｌ１，Ｌ２を吐出するようにしてもよ
い。

【００６９】

【発明の効果】請求項１記載の発明によれば、搬送中の
基板の上手側および下手側の主面に向けて基板の搬送方
向に沿うように処理液を吐出する上手側処理液供給手段
および下手側処理液供給手段が設けられ、上手側処理液
供給手段と下手側処理液供給手段との間に搬送中の基板
の主面を横断するように設けられた仕切りローラが設け
られているため、処理槽内において上手側処理液供給手
段および下手側処理液供給手段からそれぞれ処理液を吐
出させつつ基板搬送路に沿って基板を搬送することによ
り、基板の主面には、仕切りローラによって互いに分離
された状態で上手側処理液供給手段からの処理液と、下
手側処理液供給手段からの処理液とが順次供給され、異
なった二種類の処理液による処理が施される。

【００７０】従って、異なった二種類の処理液で基板を
順次処理するに際し、従来のように、二種類の処理液が
混ざり合うのを防止すべく処理液毎に処理槽を設ける必
要はなく、一つの基板上に異なった種類の処理液を同時
に供給することが可能になり、設備の簡素化および処理
効率の向上を果たす上での効果が大きい。

【００７１】請求項２記載の発明によれば、処理槽内の
基板搬送路の下部に、上記仕切りローラを境にしてその
真下に仕切壁が備えられ、これによって上手側処理液供
給手段から吐出された処理液と、下手側処理液供給手段
から吐出された処理液とは、仕切りローラによって基板
主面上での混合が防止された状態で基板幅方向の側端縁
から槽内に流下し、仕切壁によって相互に混ざり合わな
い状態で処理槽の底部に貯留されるため、処理槽の底部
に溜った各処理液の処理性能が確保される。従って、各
処理液を循環使用することができるようになる。

【００７２】請求項３記載の発明によれば、基板搬送路
は、搬送方向に直交した面内で水平方向に対して傾斜す
るように形成されているため、基板は傾斜姿勢で搬送さ
れることになる。そして、上手側および下手側処理液供
給手段は、搬送中の基板の主面の上位側端縁に向けて処
理液を吐出するように取り付け位置が設定され、上手側
処理液供給手段および下手側処理液供給手段からそれぞ
れ吐出された処理液は、基板の傾斜に沿って流下するた
め、基板主面上での処理液の液切れが良好になり、各処
理液は混合されにくくなるとともに、下流側への処理液
の持出し量を少なくすることが可能になる。

【００７３】請求項４記載の発明によれば、基板搬送路
は水平に形成されているため基板は水平姿勢で搬送され
るが、少なくとも下手側処理液供給手段の基板搬送方向
の下流側に、搬送中の基板の主面を幅方向に横断するよ
うに下手側仕切りローラが設けられているため、下手側
処理液供給手段から基板の幅方向の中央部に吐出された
処理液は、下手側仕切りローラによって遮られ、基板主
面上を下流側に液流状態で移行することはなく、従っ
て、処理液の次工程への持出し量を少なくした状態で基
板の主面を処理することができる。

【００７４】また、上手側処理液供給手段の上流側にも
上手側仕切りローラを設けることにより、上手側処理液
供給手段から吐出された処理液が基板主面上でこの上手
側仕切りローラに遮られて基板主面上を上流側に移行す
ることはなく、処理液の上流側工程への流入を阻止する
ことができる。

【００７５】請求項５記載の発明によれば、仕切りロー
ラは、基板の端縁部に当接する両側部が中央部に比して
大径にしてあるため、搬送中の基板は、その幅方向の側
端縁が大径部の外周面に当接した状態で中央部の有効部
分が小径部に対向した状態になり、小径部は上記有効部
分に当接しないため、当接した場合に起こる基板の有効
部分の損傷を確実に防止することができる。

【００７６】請求項６記載の発明によれば、上手側ある
いは下手側処理液供給手段から吐出される処理液に加
え、第２の処理液給手段からの処理液も基板の主面に供
給されるため、基板の主面上での処理液の流れに乱流が
生じ、乱流による混合で処理液と基板主面との接触状態
が均一になり、処理液による基板主面の処理効率を向上
させることができる。また、第２の処理液供給手段を洗
浄部に設けると、基板表面における処理液の衝突効果に
より、基板に付着したパーティクル等の余剰物がより効
率よく除去される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る基板処理装置の第１実施形態が適
用された基板処理装置群の一実施形態を示す説明図であ
る。

【図２】第１水洗槽（基板処理装置）の第１実施形態を
示す一部切欠き斜視図である。

【図３】処理液供給手段の一実施形態を示す一部切欠き
斜視図である。

【図４】基板が仕切りローラと搬送ローラとに挟持され
た状態を示す正面図である。

【図５】本発明の作用を説明するための説明図であり、
（イ）は基板の搬送方向前端が第１洗浄域に侵入した直
後の状態、（ロ）は基板の後端側が第１洗浄域に位置し
ているとともに、前端側が第２洗浄域に位置している状
態、（ハ）は基板が第２洗浄域から導出された状態をそ
れぞれ示している。

【図６】第１水洗槽（基板処理装置）の第２実施形態を
示す一部切欠き斜視図である。

【図７】第１水洗槽（基板処理装置）の第３実施形態を
示す一部切欠き斜視図である。

【図８】第１水洗槽（基板処理装置）の第４実施形態を
示す一部切欠き斜視図である。

【符号の説明】

１ 基板処理装置群 １０ 基板処理装置 ２ 薬液処理部 ３ 水洗部 ３１，３１０，３１１ 第１水洗槽 ３３ 仕切壁 ３３ａ 上手側貯留部 ３３ｂ 下手側貯留部 ４ 乾燥部 ５ 搬送ローラ ６ 処理液供給手段 ６ａ 上手側処理液供給手段 ６ｂ 下手側処理液供給手段 ７ 仕切りローラ ７ａ 中央部仕切りローラ ７ｂ 上手側仕切りローラ ７ｃ 下手側仕切りローラ Ｂ 基板 Ａ１ 第１洗浄域 Ａ２ 第２洗浄域 Ｌ１ 第１洗浄水 Ｌ２ 第２洗浄水

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５６４Ｄ ５６４Ｃ

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 処理槽内の所定位置に配設された基板搬
   送路上を搬送方向に搬送される基板の主面に処理液を供
   給して所定の処理を施す基板処理装置において、 上記基板搬送路の搬送方向の上手側および下手側に設け
   られ、かつ、基板の搬送方向に沿って処理液を吐出する
   上手側処理液供給手段および下手側処理液供給手段と、
   上手側処理液供給手段と下手側処理液供給手段との間で
   基板搬送路に交差した仕切りローラとを備えたことを特
   徴とする基板処理装置。
2. 【請求項２】 請求項１記載の基板処理装置において、 上記処理槽は、上記仕切りローラの真下にこの仕切りロ
   ーラと平行な仕切壁を有していることを特徴とする請求
   項１記載の基板処理装置。
3. 【請求項３】 上記基板搬送路は、搬送方向に直交した
   面内で水平方向に対して傾斜するように形成され、上記
   上手側および下手側処理液供給手段は、搬送中の基板の
   主面の上位側端縁に向けて処理液を吐出するように取り
   付け位置が設定されていることを特徴とする請求項１ま
   たは２記載の基板処理装置。
4. 【請求項４】 請求項１または２記載の基板搬送装置に
   おいて、 上記基板搬送路は水平に形成され、上記上手側および下
   手側処理液供給手段は、搬送中の基板の主面の幅方向の
   中央部における上手側および下手側のそれぞれに向けて
   処理液を吐出するように取り付け位置が設定され、基板
   搬送路における上手側処理液供給手段の上手側、および
   基板搬送路における下手側処理液供給手段の基板搬送路
   における下手側で、搬送中の基板の主面を幅方向に横断
   する上手側仕切りローラ、および下手側仕切りローラが
   設けられていることを特徴とする基板処理装置。
5. 【請求項５】 上記仕切りローラは、基板の端縁部に当
   接する両側部が中央部に比して大径であることを特徴と
   する請求項１乃至４のいずれかに記載の基板処理装置。
6. 【請求項６】 請求項１乃至５のいずれかに記載の基板
   搬送装置において、上手側処理液供給手段の処理液吐出
   域および下手側処理液供給手段の処理液吐出域の内の少
   なくとも一方であって、搬送方向と交差する基板の幅方
   向に亘って処理液を供給する第２の処理液供給手段が設
   けられていることを特徴とする基板処理装置。