JPH05277450A - 電子部品又は精密部品類の洗浄方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 電子部品又は精密部品類の洗浄において、効
率よく液切りを行って洗浄剤の使用量を低減し、さらに
系外への洗浄剤の持ち出し量を低減することを可能にす
る洗浄方法、即ち、排水負荷が低く且つ排水処理性のよ
い電子部品又は精密部品類等の洗浄方法の提供。 【構成】 本発明の電子部品又は精密部品類の洗浄方法
は、洗浄剤による一回以上の洗浄工程及びすすぎ液によ
る一回以上のすすぎ工程を有する電子部品又は精密部品
類の洗浄方法において、上記各工程の全ての工程間又は
一部の工程間における、被洗浄物の液切り時又は搬送時
に、該被洗浄物を傾斜させて保持することを特徴とす
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、電子部品又は精密部品
類の洗浄方法、詳しくは、油脂、機械油、切削油、グリ
ース、液晶及びフラックス等の汚染物質が付着した電子
部品又は精密部品類の洗浄方法に関する。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
精密部品又は治工具類等の固体表面に存在する、油脂、
機械油、切削油、グリース、液晶及びフラックス等の有
機物を主体とする汚れの除去には、ケロシン、ベンゼ
ン、キシレン等の炭化水素系溶剤；トリクロロエチレ
ン、テトラクロロエチレン等の塩素系溶剤；トリクロロ
トリフルオロエタン等のフロン系溶剤；界面活性剤やビ
ルダーを配合した水系の洗浄剤等が使用されている。特
に、電子、電気、機械等の部品には、その高洗浄性、難
燃性という特性を生かしてフロン系溶剤又は塩素系溶剤
が使用されてきた。しかしながら、上記塩素系溶剤及び
フロン系溶剤を用いる洗浄剤は、安全性、毒性、環境汚
染性等に大きな問題を有していることが明らかにされ、
国際レベルでその廃止が進められている。

【０００３】この様な背景から塩素系溶剤やフロン系溶
剤に替わる洗浄剤として、テルペン系溶剤、炭化水素系
溶剤、アルコール系溶剤等の溶剤系代替洗浄剤や界面活
性剤等を含有する水系の洗浄剤が開発され、これらの洗
浄剤を用いた洗浄方法は、通常、被洗浄物を洗浄剤中に
浸漬すること又はシャワーノズルを用いて洗浄剤を被洗
浄物に噴射すること等による洗浄工程、及び水等のすす
ぎ液に浸漬すること又は該すすぎ液をシャワーノズルを
用いて被洗浄物に噴射すること等によるすすぎ工程を有
する。この様な洗浄工程やすすぎ工程においては、各工
程終了後、被洗浄物に付着した液をできるだけ低減させ
ることが、洗浄剤の使用量及び排水処理性等の面から好
ましい。

【０００４】上記洗浄工程やすすぎ工程において、被洗
浄物に付着した洗浄剤やすすぎ液を低減させる方法とし
ては、洗浄やすすぎの後の液切り時間（保持時間）を長
くする方法、あるいは空気等の気体を被洗浄物に吹き付
けて液切りを促進する方法等がある。しかし、保持時間
を長くする方法は、生産性が低下するという問題があ
り、また、気体を被洗浄物に吹き付ける方法は、気体を
噴射するためのノズルの形状、取付位置、角度及び個数
等を被洗浄物の形状や大きさにより最適化する必要があ
り、また、被洗浄物が液晶パネル等の矩形板状の形態の
場合は、治具に０．５〜数ｍｍの間隔で数十枚セットさ
れた状態で洗浄されるので、すべてのパネルへの気体吹
き付け効果は期待できない。さらに、気体を過剰に吹き
付けた場合には、汚れを含んだ液が被洗浄物上で乾燥し
てその汚れ成分が強く付着して洗浄が困難になる場合が
あるという問題もあった。

【０００５】従って、本発明の目的は、電子部品又は精
密部品類の洗浄において、効率よく液切りを行って洗浄
剤の使用量を低減し、さらに系外への洗浄剤の持ち出し
量を低減することを可能にする洗浄方法、即ち、排水負
荷が低く且つ排水処理性のよい電子部品又は精密部品類
等の洗浄方法を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成すべく鋭意研究した結果、電子部品又は精密部品
類の洗浄において、洗浄工程やすすぎ工程の後に、被洗
浄物を治具に多数枚セットした状態において、該被洗浄
物（治具）を傾斜させて保持することにより効率よく液
切りができることを知見した。本発明は、上記知見に基
づいてなされたもので、洗浄剤による一回以上の洗浄工
程及びすすぎ液による一回以上のすすぎ工程を有する電
子部品又は精密部品類の洗浄方法において、上記各工程
の全ての工程間又は一部の工程間における、被洗浄物の
液切り時又は搬送時に、該被洗浄物を傾斜させて保持す
ることを特徴とする電子部品又は精密部品類の洗浄方法
を提供するものである。

【０００７】以下、本発明の洗浄方法について詳細に説
明する。本発明の洗浄方法における洗浄工程は、洗浄剤
により洗浄を行う工程である。上記洗浄工程における洗
浄方法としては、特に限定はなく、例えば、シャワーノ
ズルを用いて洗浄剤を被洗浄物に噴射する方法（シャワ
ー法）、被洗浄物を洗浄剤槽に浸漬させる方法（浸漬
法）、被洗浄物を洗浄槽に浸漬した状態で行う超音波洗
浄法、揺動法及び液中シャワー法等が挙げられ、該洗浄
工程は、適宜これらを組み合わせて実施される。

【０００８】本発明の洗浄方法におけるすすぎ工程は、
すすぎ液により、被洗浄物表面に残留する洗浄剤や汚染
物質等をすすぎ落とす工程である。上記すすぎ工程にお
けるすすぎ方法としては、特に限定はなく、上記洗浄工
程における洗浄方法と同様に、例えば、シャワー法、浸
漬法、被洗浄物を洗浄槽に浸漬した状態で行う超音波洗
浄法、揺動法及び液中シャワー法等が挙げられ、上記す
すぎ工程は、適宜これらを組み合わせて実施される。

【０００９】本発明の洗浄方法においては、被洗浄物
を、上記各工程の全ての工程間又は一部の工程間におけ
る、被洗浄物の液切り時又は搬送時に、傾斜させて保持
する。被洗浄物の傾斜・保持態様は、被洗浄物の形状に
応じて選択すれば良く、例えば、手動で行っても、機械
を用いて行っても良い。また、洗浄工程やすすぎ工程の
後に傾斜させてもよいが、被洗浄物を、あらかじめ傾斜
させたまま洗浄やすすぎを行った後、そのまま保持して
もよい。

【００１０】本発明の洗浄方法における被洗浄物の液切
り時間は、該被洗浄物の形状及び量、洗浄剤の種類等に
より異なるが、通常、５秒〜５分程度が一般的である。
また、被洗浄物から液切りされた液は、その工程の液槽
（例えば、洗浄工程であれば洗浄剤槽）に戻すのが効率
的であり、好ましい。

【００１１】本発明の洗浄方法に使用される洗浄剤とし
ては、特に限定はないが、動植物から得られるｄ−リモ
ネン等のテルペン類を有効成分とするテルペン系溶剤、
ケロシン、ベンゼン、キシレン等の炭化水素を有効成分
とする炭化水素系溶剤、イソプロピルアルコール、エチ
ルアルコール、メチルアルコール等の低級アルコールを
有効成分とするアルコール系溶剤等の溶剤系代替洗浄
剤、界面活性剤、及び水酸化ナトリウム、オルソケイ酸
ナトリウム等のアルカリ剤を含有する水系代替洗浄剤あ
るいはこれらの希釈液があげられる。

【００１２】上記界面活性剤としては、アニオン性、カ
チオン性、両イオン性、非イオン性界面活性剤等が用い
られるが電子部品等の部材への影響を考慮すると非イオ
ン性界面活性剤が好ましく、例えばアルキルエーテル
型、アルキルアリルエーテル型、アルキルチオエーテル
型等のエーテル型；アルキルエステル型、ソルビタンア
ルキルエステル型等のエステル型；ポリオキシアルキレ
ンアルキルアミン等のアミンとの縮合型；ポリオキシア
ルキレンアルキルアマイド等のアミドとの縮合型；ポリ
オキシエチレンとポリオキシプロピレンをランダム又は
ブロック縮合させたプルロニック又はテトロニック型；
ポリエチレンイミン系等の界面活性剤が挙げられる。こ
れらのうち、特に炭素数４〜２２の炭化水素基を有する
ものが好ましい。

【００１３】上述のような非イオン性界面活性剤を含有
する洗浄剤組成物は、これが混入したすすぎ洗い後のす
すぎ廃液が明瞭な曇点を示し、すすぎ廃液中の油状汚れ
及び洗浄剤等の有機物を容易に分離除去することができ
るので排水処理の負荷が軽減され、排水処理性が特に良
好である。

【００１４】また、上記水系代替洗浄剤としては、界面
活性剤と、炭化水素化合物、難水溶性のアルキルエステ
ル類及びアルキルケトン類から選ばれる化合物とを含有
する洗浄剤等も用いることができる。

【００１５】上記炭化水素化合物としては、例えば洗浄
又はリンス工程の温度で液状である炭素数６〜３０の直
鎖又は分岐鎖の飽和又は不飽和結合を有するパラフィン
類、オレフィン類、あるいは芳香族炭化水素、脂環式炭
化水素を含む炭化水素化合物が挙げられる。上記アルキ
ルエステル類としては、例えば、洗浄又はリンス工程の
温度で液状である炭素数６〜４０のモノエステル、ジエ
ステル、トリエステルが挙げられ、特に炭素数６〜１８
の高級脂肪酸と炭素数１〜１８のアルコールのエステ
ル；炭素数６〜１８の高級脂肪酸と炭素数２〜８のジオ
ール又はトリオールとのエステル；炭素数１〜１８のア
ルコールと炭素数２〜８のジカルボン酸又はトリカルボ
ン酸とのエステルが好ましい。また、上記アルキルケト
ン類としては、炭素数６〜４０のジアルキルケトンが好
ましい。

【００１６】本発明の洗浄方法に用いられる洗浄剤（洗
浄剤組成物）としては、上記の成分のほか、必要に応じ
てビルダー、キレート剤、防錆剤、消泡剤等を含有する
ものを使用することもでき、また、上記の様な化合物を
用途に応じて任意に２種以上組み合わせて使用してもよ
い。

【００１７】また、本発明の洗浄方法に使用されるすす
ぎ液は、被洗浄物上の汚れ及び／又は洗浄剤組成物をす
すぎ洗うための液である。上記すすぎ液としては、特に
制限はないが、例えば、水道水、脱イオン水、純水ある
いは数％程度洗浄剤を含む液が用途に応じて用いられ
る。上記すすぎ液は、浄化処理をした後、放流又は再利
用される。上記浄化処理は、例えば凝集沈殿、加圧浮
上、活性汚泥、活性炭、イオン交換、膜処理方法等の一
般的な排水処理法を単独あるいは適宜組み合わせて行う
ことができる。

【００１８】本発明による洗浄の対象となる電子部品又
は精密部品類としては、電子部品又は精密部品類の組
立、加工又は洗浄時の保持に使用される治工具（治具）
等を包含する。

【００１９】上記電子部品としては、例えば、電算機及
びその周辺機器、家電機器、通信機器、ＯＡ機器、その
他電子応用機器等に用いられるプリント配線基板；ＩＣ
リードフレーム、抵抗器、コンデンサー、リレー等接点
部材に用いられるフープ材；ＯＡ機器、時計、電算機
器、玩具、家電機器等に用いられる液晶表示器（液晶表
示デバイス）；映像・音声記録／再生部品、その関連部
品等に用いられる磁気記録部品；シリコンやセラミック
スのウェハ等の半導体材料；水晶振動子等の電歪用部
品；ＣＤ、ＰＤ、複写機器、光記録機器等に用いられる
光電変換部品等が挙げられる。

【００２０】上記精密部品類としては、例えば、電機部
品、精密機械部品、樹脂加工部品、光学部品等が挙げら
れる。上記電機部品としては、例えば、ブラシ、ロー
タ、ステータ、ハウジング等の電動機部品；販売機や各
種機器に用いられる発券用部品；販売機、キャッシュデ
ィスペンサ等に用いられる貨幣検査用部品などが挙げら
れる。上記精密機械部品としては、例えば、精密駆動機
器、ビデオレコーダー等に用いられるベアリング；超硬
チップ等の加工用部品などが挙げられる。上記樹脂加工
部品としては、例えば、カメラ、自動車等に用いられる
精密樹脂加工部品などが挙げられる。更に、上記光学部
品としては、例えば、カメラ、眼鏡、光学機器等に用い
られるレンズ等が挙げられ、その他、上記精密部品とし
て、例えばメガネフレーム、時計ケース、時計ベルト等
が挙げられる。

【００２１】また、上記治工具類としては、上述の各種
部品例で示したような電子部品又は精密部品類の製造、
成形、加工、組立、仕上げ等を行う各種工程において取
り扱う治具、工具の他、これらの電子部品又は精密部品
類を取り扱う各種機器、その部品等が挙げられる。

【００２２】本発明の洗浄方法は、上述の電子部品又は
精密部品類の中で、特に、フラックスの残存したプリン
ト配線基板やガラス基板に付着した液晶等の洗浄時に好
適な性能を発揮する。尚、本発明の対象となる電子部品
又は精密部品類は、これらの例に限定されるものではな
く、組立加工工程において各種の加工油やフラックス等
の後の工程の妨害物質、又は製品の特性を低下させる各
種の油性汚染物質が付着している電子部品又は精密部品
類であれば、本発明の洗浄方法を適用することができ
る。

【００２３】更に、本発明の洗浄方法は、上記汚染物質
が、例えば、油脂、機械油、切削油、グリース、液晶、
ロジン系フラックス等の、主として有機成分の汚れであ
る場合、本発明の洗浄方法の特徴が特に発揮され、これ
らに金属粉、無機物粉等が混入した汚染物質であっても
有効である。

【００２４】本発明の洗浄方法は、空気等の気体を被洗
浄物に吹き付ける方法等の、周知の液切り促進方法を併
用することができる。

【００２５】本発明の洗浄方法は、上述のように該洗浄
物の形状には制限されないが、プリント配線基板や液晶
表示デバイス等のような矩形板状体の洗浄方法として特
に有効であるので、以下に、被洗浄物が、上記矩形板状
体である場合の洗浄方法の一実施態様について説明す
る。

【００２６】洗浄工程又はすすぎ工程において、多数個
の矩形板状体を、該矩形板状体の表面が鉛直面内に位置
するように治具によりセットして保持して、かかる状態
で、洗浄工程又はすすぎ工程を実施する。そして、上記
各工程の全ての工程間又は一部の工程間において、上記
矩形板状体の液切り時又は搬送時に、上記矩形板状体
を、その底縁を水平面に対して５°〜８５°、好ましく
は１０°〜８０°傾斜させて上記鉛直面内で保持して、
かかる状態で液切り又は搬送を実施する。上記傾斜角度
が５°未満であると、効率の良い液切りが行われ難く、
８５°超であると、上記矩形板状体の側縁と水平面との
なす角度が、５°未満となり、上記傾斜角度が５°未満
の場合と同じく効率のよい液切りが行われ難い。尚、上
記矩形板状体は、上記洗浄工程やすすぎ工程の後に傾斜
させてもよいが、あらかじめ傾斜させたまま洗浄やすす
ぎを行ったのち、そのまま保持してもよい。また、上記
の傾斜角度は、矩形板状体以外の被洗浄物を洗浄する場
合にも適用される。

【００２７】上述のように本発明の洗浄方法により洗浄
を行うことにより、効率よく液切りを行って洗浄剤の使
用量を低減し、さらに系外への洗浄剤の持ち出し量を低
減することが可能になる。

【００２８】

【作用】本発明の洗浄方法によれば、被洗浄物上に残留
した洗浄剤や汚染物質等は、該被洗浄物の傾斜した縁に
沿って流失する。

【００２９】

【実施例】次に、実施例及び比較例を挙げて、本発明の
洗浄方法を更に詳細に説明するが、本発明は、これらの
実施例に限定されるものではない。

【００３０】実施例１〜４ 下記〔表１〕に示す組成の洗浄剤（１）〜（４）を調製
した。大きさ３００ｍｍ×１２５ｍｍ、厚さ１．１ｍｍ
のガラス板を２枚張り合わせた液晶表示デバイスを、そ
の長辺を上下にして、表示面が鉛直面内に位置するよう
に、治具に３．７ｍｍ間隔で４０枚セットして上記洗浄
剤（１）〜（４）に浸漬（４５℃、１分間）して洗浄を
行い、その後、上記洗浄剤より上記治具を引き上げ、表
示面を鉛直面内に位置させ、上記長辺が、鉛直面内で水
平面に対して１０°傾斜するように保持して液切りを行
った。液切り時間３０秒後及び６０秒後の液付着量を、
下記〔表２〕に示す。上記液付着量は、上記枚数の液晶
表示デバイスをセットして上記治具及び上記液晶表示デ
バイスの合計の乾燥重量と、上記の液切り操作後の上記
治具及び上記液晶表示デバイスの合計重量との差より求
めた。

【００３１】比較例１〜４ 実施例１〜４で使用したものと同じ液晶表示デバイスに
ついて、実施例１〜４と同じ条件で洗浄を行い、洗浄剤
から引き上げた後、表示面を鉛直面内に位置させ、傾け
ずに長辺を上下に保持して液切りを行った。液切り時間
３０秒後及び６０秒後の液付着量を下記〔表２〕に示
す。尚、上記液付着量は、実施例１〜４と同じ方法で求
めた。

【００３２】比較例５〜８ 実施例１〜４で使用したものと同じ液晶表示デバイスに
ついて実施例１〜４と同じ条件で洗浄を行い、洗浄剤か
ら引き上げた後、表示面を鉛直面内に位置させ、傾けず
に長辺を上下に保持して液切りを行った。この際、同時
に空気を液晶表示デバイスに吹き付けた（エアーブロ
ー）。このエアーブローは、エアーノズル（３０リット
ル／ｍｉｎ，１Ｋｇ／ｃｍ² ）３個をセットしたエアー
ブロー用のヘッダーを用い、治具の上方２０ｃｍから１
０秒間行った。液切り時間３０秒後及び６０秒後の液付
着量を下記〔表２〕に示す。ただし、この場合の液切り
時間は、エアーブロー時間を含んだ時間である。尚、上
記液付着量は実施例１〜４と同じ方法で求めた。

【００３３】

【表１】

【００３４】

【表２】

【００３５】実施例５〜８ 実施例１〜４で使用したものと同じ液晶表示デバイス
を、その長辺を上下にして、表示面が鉛直面内に位置す
るように、治具に３．７ｍｍ間隔で４０枚セットしてす
すぎ液に浸漬（６０℃、１分間）してすすぎを行い、そ
の後、すすぎ液より上記治具を引き上げ、表示面を鉛直
面内に位置させ、上記長辺が、鉛直面内で水平面に対し
て５°、１０°、２０°及び７０°傾斜するように保持
して液切りを行った。液切り時間６０秒後の液の付着量
を下記〔表３〕に示す。尚、上記液付着量は実施例１〜
４と同じ方法で求めた。

【００３６】

【表３】 上記〔表２〕及び〔表３〕に示した結果から明らかなよ
うに、本発明の洗浄方法によれば、効率よく液切りを行
うことができる。

【００３７】

【発明の効果】本発明の電子部品又は精密部品類の洗浄
方法によれば、被洗浄物に付着した洗浄液やすすぎ液
を、短時間で、簡便に且つ効率よく液切りすることがで
き、系外への洗浄剤の持ち出し量を低減できる。そのた
め、洗浄工程では洗浄剤のすすぎ工程への持ち出し量の
低減ができ、洗浄剤の使用量を削減することができ、ま
た、すすぎ工程から排出される排水の洗浄剤成分や汚れ
成分の濃度も低下し、排水負荷が低く、且つ排水処理性
の良い洗浄システムを構築することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０５Ｋ 3/34 Ｖ 9154−4Ｅ

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 洗浄剤による一回以上の洗浄工程及びす
   すぎ液による一回以上のすすぎ工程を有する電子部品又
   は精密部品類の洗浄方法において、上記各工程の全ての
   工程間又は一部の工程間における、被洗浄物の液切り時
   又は搬送時に、該被洗浄物を傾斜させて保持することを
   特徴とする電子部品又は精密部品類の洗浄方法。
2. 【請求項２】 被洗浄物が、プリント配線基板あるいは
   液晶表示デバイス等の矩形板状体である請求項１記載の
   電子部品又は精密部品類の洗浄方法。
3. 【請求項３】 傾斜角度が５°〜８５°である請求項１
   又は２記載の電子部品又は精密部品類の洗浄方法。
4. 【請求項４】 洗浄工程及びすすぎ工程において、矩形
   板状体を、その表面が鉛直面内に位置するように保持
   し、且つ液切り時又は搬送時に、該矩形板状体を、その
   底縁を水平面に対して５°〜８５°傾斜させて上記鉛直
   面内で保持することを特徴とする請求項２記載の電子部
   品又は精密部品類の洗浄方法。