JP2610552B2 - 洗浄方法 - Google Patents
洗浄方法Info
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- JP2610552B2 JP2610552B2 JP3257745A JP25774591A JP2610552B2 JP 2610552 B2 JP2610552 B2 JP 2610552B2 JP 3257745 A JP3257745 A JP 3257745A JP 25774591 A JP25774591 A JP 25774591A JP 2610552 B2 JP2610552 B2 JP 2610552B2
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- rinse
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/43—Solvents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D1/00—Detergent compositions based essentially on surface-active compounds; Use of these compounds as a detergent
- C11D1/66—Non-ionic compounds
- C11D1/72—Ethers of polyoxyalkylene glycols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G5/00—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
- C23G5/06—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using emulsions
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/26—Cleaning or polishing of the conductive pattern
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- General Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、油脂、機械油、切削
油、グリース、液晶、フラックス等の汚れが付着した電
子部品、精密部品又はこれらの組立、加工に使用される
治工具類等（以下、電子部品又は精密部品類という）の
洗浄方法に関し、さらに詳細には、すすぎ工程で出るリ
ンス排液の処理性に優れた洗浄方法に関する。
油、グリース、液晶、フラックス等の汚れが付着した電
子部品、精密部品又はこれらの組立、加工に使用される
治工具類等（以下、電子部品又は精密部品類という）の
洗浄方法に関し、さらに詳細には、すすぎ工程で出るリ
ンス排液の処理性に優れた洗浄方法に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
精密部品、治工具等の固体表面に存在する油脂、機械
油、切削油、グリース、液晶、フラックス等の有機物を
主体とする汚れの除去には、ケロシン、ベンゼン、キシ
レン等の炭化水素系溶剤；トリクロロエチレン、テトラ
クロロエチレン等の塩素系溶剤；トリクロロトリフルオ
ロエタン等のフロン系溶剤；界面活性剤やビルダーを配
合した水系の洗浄剤等が使用されている。特に、電子、
電気、機械等の部品には、その高洗浄性、難燃性という
特性を生かしてフロン系溶剤又は塩素系溶剤が使用され
てきた。
精密部品、治工具等の固体表面に存在する油脂、機械
油、切削油、グリース、液晶、フラックス等の有機物を
主体とする汚れの除去には、ケロシン、ベンゼン、キシ
レン等の炭化水素系溶剤；トリクロロエチレン、テトラ
クロロエチレン等の塩素系溶剤；トリクロロトリフルオ
ロエタン等のフロン系溶剤；界面活性剤やビルダーを配
合した水系の洗浄剤等が使用されている。特に、電子、
電気、機械等の部品には、その高洗浄性、難燃性という
特性を生かしてフロン系溶剤又は塩素系溶剤が使用され
てきた。
【０００３】しかしながら、フロン系及び塩素系の溶剤
を用いる洗浄剤は、安全性、毒性、環境汚染性等に大き
な問題を有している。また、炭化水素系溶剤、特にベン
ゼン、キシレン等は毒性が高く、労働安全衛生法上の有
害物に指定されている化合物であり、これを取り扱う作
業の危険性及び煩雑さを考慮すると、洗浄剤として用い
ることは好ましくない。
を用いる洗浄剤は、安全性、毒性、環境汚染性等に大き
な問題を有している。また、炭化水素系溶剤、特にベン
ゼン、キシレン等は毒性が高く、労働安全衛生法上の有
害物に指定されている化合物であり、これを取り扱う作
業の危険性及び煩雑さを考慮すると、洗浄剤として用い
ることは好ましくない。
【０００４】一方、水系洗浄剤は、溶剤系洗浄剤に比較
して危険性や毒性が低く、界面活性剤やビルダー等の洗
浄剤構成成分を適宜選択することにより、優れた洗浄力
を併せ持たせることができる。しかし、この水系洗浄剤
は、一般に水への溶解性が良好であるため、被洗浄材に
付着した洗浄液を水系のリンス液ですすぎ洗い（リン
ス）した後のリンス液（以下、リンス排液という）の排
水処理性が極めて悪いという欠点があった。そして、そ
の処理は、例えば凝集沈澱、加圧浮上、活性汚泥、活性
炭処理法等を用いて行うことができるが、いずれの処理
法も多大な費用及び設備が必要とされる。
して危険性や毒性が低く、界面活性剤やビルダー等の洗
浄剤構成成分を適宜選択することにより、優れた洗浄力
を併せ持たせることができる。しかし、この水系洗浄剤
は、一般に水への溶解性が良好であるため、被洗浄材に
付着した洗浄液を水系のリンス液ですすぎ洗い（リン
ス）した後のリンス液（以下、リンス排液という）の排
水処理性が極めて悪いという欠点があった。そして、そ
の処理は、例えば凝集沈澱、加圧浮上、活性汚泥、活性
炭処理法等を用いて行うことができるが、いずれの処理
法も多大な費用及び設備が必要とされる。
【０００５】従って、このような多大な処理費用、設備
を必要とせず、工業的に有利に電子部品又は精密部品等
を洗浄する方法が望まれていた。
を必要とせず、工業的に有利に電子部品又は精密部品等
を洗浄する方法が望まれていた。
【０００６】
【課題を解決するための手段】かかる実情において、本
発明者らは鋭意研究を行った結果、特定の洗浄剤を用い
て洗浄した後、５〜100 ℃の水ですすぎ、そのリンス排
液を20℃以上に保てば、リンス排液中の油状汚れ及び洗
浄剤等の有機物を容易に分離除去することができ、その
結果、排水処理性が著しく改善され、さらに分離除去さ
れた後のリンス液は再利用することができることを見出
し本発明を完成した。
発明者らは鋭意研究を行った結果、特定の洗浄剤を用い
て洗浄した後、５〜100 ℃の水ですすぎ、そのリンス排
液を20℃以上に保てば、リンス排液中の油状汚れ及び洗
浄剤等の有機物を容易に分離除去することができ、その
結果、排水処理性が著しく改善され、さらに分離除去さ
れた後のリンス液は再利用することができることを見出
し本発明を完成した。
【０００７】すなわち、本発明は、電子部品又は精密部
品類を洗浄剤で洗浄し（以下、洗浄工程という）、次い
で水を加えてすすぐこと（以下、リンス工程という）に
よる洗浄方法において、洗浄剤の活性成分として、非イ
オン性界面活性剤並びに炭化水素化合物、難水溶性のア
ルキルエステル類及びアルキルケトン類から選ばれる化
合物を含有し、かつ、その洗浄剤を水で希釈又は水を蒸
発させて活性成分の含有割合を５重量％（以下、単に％
で示す）にし、その洗浄剤水溶液を２０〜１００℃の温
度で３０分静置したとき、含有している活性成分の５０
％以上が水相から分離する性質を有する洗浄剤組成物を
用い、リンス液として５〜１００℃の水を使用し、すす
ぎ洗い後のリンス排液を２０℃以上に保って活性成分及
び有機系汚れ成分からなる有機物を分離すること（以
下、分離工程という）を特徴とする電子部品又は精密部
品類の洗浄方法を提供するものである。
品類を洗浄剤で洗浄し（以下、洗浄工程という）、次い
で水を加えてすすぐこと（以下、リンス工程という）に
よる洗浄方法において、洗浄剤の活性成分として、非イ
オン性界面活性剤並びに炭化水素化合物、難水溶性のア
ルキルエステル類及びアルキルケトン類から選ばれる化
合物を含有し、かつ、その洗浄剤を水で希釈又は水を蒸
発させて活性成分の含有割合を５重量％（以下、単に％
で示す）にし、その洗浄剤水溶液を２０〜１００℃の温
度で３０分静置したとき、含有している活性成分の５０
％以上が水相から分離する性質を有する洗浄剤組成物を
用い、リンス液として５〜１００℃の水を使用し、すす
ぎ洗い後のリンス排液を２０℃以上に保って活性成分及
び有機系汚れ成分からなる有機物を分離すること（以
下、分離工程という）を特徴とする電子部品又は精密部
品類の洗浄方法を提供するものである。
【０００８】本発明において、洗浄工程で用いられる洗
浄剤組成物は、洗浄剤の活性成分として、非イオン性界
面活性剤並びに炭化水素化合物、難水溶性のアルキルエ
ステル類及びアルキルケトン類から選ばれる化合物を含
有し、かつ、その洗浄剤を水で希釈又は水を蒸発させて
活性成分の含有割合を５％にし、その洗浄剤水溶液を２
０〜１００℃の温度で３０分静置したとき、含有してい
る活性成分の５０％以上が水相から分離するものであ
る。分離する活性成分が５０％未満のものでは、すすぎ
洗い後のリンス排液からの洗浄剤の活性成分の分離が充
分でなく、その結果、油汚れ等の有機系汚れ成分も水相
中に溶解、乳化、分散されやすく、排水処理性が充分改
善されず、また、分離処理後の水相をリンス液として再
利用しても有機物含有量が多く、リンス効果が著しく低
下する。排水処理性をより有効に改善し、リンス液の再
利用を可能にするためには、含有している有機物を７０
％以上分離する洗浄剤を用いるのが好ましい。
浄剤組成物は、洗浄剤の活性成分として、非イオン性界
面活性剤並びに炭化水素化合物、難水溶性のアルキルエ
ステル類及びアルキルケトン類から選ばれる化合物を含
有し、かつ、その洗浄剤を水で希釈又は水を蒸発させて
活性成分の含有割合を５％にし、その洗浄剤水溶液を２
０〜１００℃の温度で３０分静置したとき、含有してい
る活性成分の５０％以上が水相から分離するものであ
る。分離する活性成分が５０％未満のものでは、すすぎ
洗い後のリンス排液からの洗浄剤の活性成分の分離が充
分でなく、その結果、油汚れ等の有機系汚れ成分も水相
中に溶解、乳化、分散されやすく、排水処理性が充分改
善されず、また、分離処理後の水相をリンス液として再
利用しても有機物含有量が多く、リンス効果が著しく低
下する。排水処理性をより有効に改善し、リンス液の再
利用を可能にするためには、含有している有機物を７０
％以上分離する洗浄剤を用いるのが好ましい。
【０００９】ここで用いられる洗浄剤組成物としては、
以上のような特性を有し、かつ満足できる洗浄性を有し
ている物であれば特に限定されないが、例えば曇点が１
００℃以下を示す非イオン性界面活性剤並びに油性の汚
れに対する洗浄性を改良するために使用される炭化水素
化合物、難水溶性のアルキルエステル類及びアルキルケ
トン類から選ばれる化合物を、洗浄剤の活性成分の５０
％以上含有する洗浄剤が挙げられる。これらのうち、特
にリンス性を上げるため、これら成分を洗浄剤の活性成
分の７０％以上含有するものがより好ましい。なお、こ
こで曇点とは、イオン交換水で２０倍に希釈した洗浄剤
組成物１０〜３０ｍｌを試験管にとり、１℃／分の昇温
速度で温度を上げていったとき、液がにごり出す温度を
いい、この温度以上の温度に保持すると、水溶液中の非
イオン性界面活性剤は水相から徐々に分離する。
以上のような特性を有し、かつ満足できる洗浄性を有し
ている物であれば特に限定されないが、例えば曇点が１
００℃以下を示す非イオン性界面活性剤並びに油性の汚
れに対する洗浄性を改良するために使用される炭化水素
化合物、難水溶性のアルキルエステル類及びアルキルケ
トン類から選ばれる化合物を、洗浄剤の活性成分の５０
％以上含有する洗浄剤が挙げられる。これらのうち、特
にリンス性を上げるため、これら成分を洗浄剤の活性成
分の７０％以上含有するものがより好ましい。なお、こ
こで曇点とは、イオン交換水で２０倍に希釈した洗浄剤
組成物１０〜３０ｍｌを試験管にとり、１℃／分の昇温
速度で温度を上げていったとき、液がにごり出す温度を
いい、この温度以上の温度に保持すると、水溶液中の非
イオン性界面活性剤は水相から徐々に分離する。
【００１０】非イオン性界面活性剤としては、例えばア
ルキルエーテル型、アルキルアリルエーテル型、アルキ
ルチオエーテル型等のエーテル型；アルキルエステル
型、ソルビタンアルキルエステル型等のエステル型；ポ
リオキシアルキレンアルキルアミン等のアミンとの縮合
型；ポリオキシアルキレンアルキルアマイド等のアミド
との縮合型；ポリオキシエチレンとポリオキシプロピレ
ンをランダム又はブロック縮合させたプルロニック又は
テトロニック型；ポリエチレンイミン系等の界面活性剤
が挙げられる。これらのうち、特に炭素数４〜22の炭化
水素基を有するものが好ましく、このような非イオン性
界面活性剤を含有する洗浄剤組成物は、油性汚れに対す
る親和性が増大して洗浄力が向上するとともに、これが
混入したすすぎ洗い後のリンス排液は明瞭な曇点を示
し、排水処理性が特に良好である。
ルキルエーテル型、アルキルアリルエーテル型、アルキ
ルチオエーテル型等のエーテル型；アルキルエステル
型、ソルビタンアルキルエステル型等のエステル型；ポ
リオキシアルキレンアルキルアミン等のアミンとの縮合
型；ポリオキシアルキレンアルキルアマイド等のアミド
との縮合型；ポリオキシエチレンとポリオキシプロピレ
ンをランダム又はブロック縮合させたプルロニック又は
テトロニック型；ポリエチレンイミン系等の界面活性剤
が挙げられる。これらのうち、特に炭素数４〜22の炭化
水素基を有するものが好ましく、このような非イオン性
界面活性剤を含有する洗浄剤組成物は、油性汚れに対す
る親和性が増大して洗浄力が向上するとともに、これが
混入したすすぎ洗い後のリンス排液は明瞭な曇点を示
し、排水処理性が特に良好である。
【００１１】また、炭化水素化合物としては、例えば洗
浄又はリンス工程の温度で液状である炭素数６〜30の直
鎖又は分岐鎖の飽和又は不飽和結合を有するパラフィン
類、オレフィン類、あるいは芳香族、脂環族を含む炭化
水素化合物が挙げられる。さらに、アルキルエステル類
としては、例えば洗浄又はリンス工程の温度で液状であ
る炭素数６〜40のモノエステル、ジエステル、トリエス
テルが挙げられ、特に炭素数６〜18の高級脂肪酸と炭素
数１〜18の高級アルコールのエステル；炭素数６〜18の
高級脂肪酸と炭素数２〜８のジオール又はトリオールと
のエステル；炭素数１〜18の高級アルコールと炭素数２
〜８のジカルボン酸又はトリカルボン酸とのエステルが
好ましい。アルキルケトン類としては、炭素数６〜40の
ジアルキルケトンが好ましい。洗浄剤組成物としては、
これら成分のほか、必要に応じて陰イオン性等の界面活
性剤、ビルダー、キレート剤、防錆剤、消泡剤等を含有
するものを使用することもできる。
浄又はリンス工程の温度で液状である炭素数６〜30の直
鎖又は分岐鎖の飽和又は不飽和結合を有するパラフィン
類、オレフィン類、あるいは芳香族、脂環族を含む炭化
水素化合物が挙げられる。さらに、アルキルエステル類
としては、例えば洗浄又はリンス工程の温度で液状であ
る炭素数６〜40のモノエステル、ジエステル、トリエス
テルが挙げられ、特に炭素数６〜18の高級脂肪酸と炭素
数１〜18の高級アルコールのエステル；炭素数６〜18の
高級脂肪酸と炭素数２〜８のジオール又はトリオールと
のエステル；炭素数１〜18の高級アルコールと炭素数２
〜８のジカルボン酸又はトリカルボン酸とのエステルが
好ましい。アルキルケトン類としては、炭素数６〜40の
ジアルキルケトンが好ましい。洗浄剤組成物としては、
これら成分のほか、必要に応じて陰イオン性等の界面活
性剤、ビルダー、キレート剤、防錆剤、消泡剤等を含有
するものを使用することもできる。
【００１２】洗浄工程は特に限定されないが、例えば浸
漬法、超音波洗浄法、揺動法、スプレー法等を単独又は
組み合わせて行うことができる。
漬法、超音波洗浄法、揺動法、スプレー法等を単独又は
組み合わせて行うことができる。
【００１３】リンス工程に用いられるリンス液とは、被
洗浄材上で汚れ及び／又は洗浄剤組成物を含む洗浄液を
すすぎ洗いするための液であり、具体的には洗浄性の面
から純水が好ましいが、排水処理性の面からは、リンス
排液から有機物を分離、除去した後の液を循環使用する
ことが好ましい。
洗浄材上で汚れ及び／又は洗浄剤組成物を含む洗浄液を
すすぎ洗いするための液であり、具体的には洗浄性の面
から純水が好ましいが、排水処理性の面からは、リンス
排液から有機物を分離、除去した後の液を循環使用する
ことが好ましい。
【００１４】すすぎ洗いは、５〜100 ℃のリンス液を用
い、例えば浸漬法、超音波洗浄法、揺動法、スプレー法
等のリンス方法で行われる。リンス液の温度は５〜100
℃、好ましくは20〜70℃である。この範囲外の温度で
は、リンス液の加熱、冷却等に必要なコスト、設備等が
増大するので好ましくない。
い、例えば浸漬法、超音波洗浄法、揺動法、スプレー法
等のリンス方法で行われる。リンス液の温度は５〜100
℃、好ましくは20〜70℃である。この範囲外の温度で
は、リンス液の加熱、冷却等に必要なコスト、設備等が
増大するので好ましくない。
【００１５】分離工程においては、すすぎ洗い後のリン
ス排液を、２０〜１００℃、好ましくは２０〜７０℃に
加熱又は冷却し、有機物を分離除去する。リンス排液を
１００℃以上に加熱するには加圧等の設備が必要となる
ため、実用上有益でなく、また、２０℃未満にするには
夏場等において冷却設備等を設置しなければならず、実
用上有効ではない。特に非イオン性界面活性剤の曇点以
上の温度に加温すると、より有効に分離が行われるので
好ましい。すなわち、曇点以上の温度になると、非イオ
ン性界面活性剤は水溶性を失い、この結果、リンス液中
に可溶化又は乳化していた油性汚れを水中に保持するこ
とができず、油性汚れはその比重の大小により水に浮い
たり沈んだりして分離する。また、非イオン性界面活性
剤自身も水溶性を失って水中から分離する。
ス排液を、２０〜１００℃、好ましくは２０〜７０℃に
加熱又は冷却し、有機物を分離除去する。リンス排液を
１００℃以上に加熱するには加圧等の設備が必要となる
ため、実用上有益でなく、また、２０℃未満にするには
夏場等において冷却設備等を設置しなければならず、実
用上有効ではない。特に非イオン性界面活性剤の曇点以
上の温度に加温すると、より有効に分離が行われるので
好ましい。すなわち、曇点以上の温度になると、非イオ
ン性界面活性剤は水溶性を失い、この結果、リンス液中
に可溶化又は乳化していた油性汚れを水中に保持するこ
とができず、油性汚れはその比重の大小により水に浮い
たり沈んだりして分離する。また、非イオン性界面活性
剤自身も水溶性を失って水中から分離する。
【００１６】このようにして分離された有機物、例えば
非イオン性界面活性剤、炭化水素化合物、油性の汚れ成
分等の除去は、リンス排液の受槽又は分離のための専用
槽で、槽の上部又は下部に集まった有機物をすくい取る
方法、連続的に抜き取る方法、分離膜等の補助設備を利
用する方法等を用いて行うことができる。これらの分離
を効率良く行うことにより、リンス排液は清浄化され、
再びリンス液として再使用、すなわち循環使用すること
ができる。循環使用にあたっては、必要により、リンス
液中の水溶性イオンや界面活性剤等の有機物の除去のた
め、イオン交換処理や活性炭による吸着処理又は膜分離
等の処理を行ってもよい。
非イオン性界面活性剤、炭化水素化合物、油性の汚れ成
分等の除去は、リンス排液の受槽又は分離のための専用
槽で、槽の上部又は下部に集まった有機物をすくい取る
方法、連続的に抜き取る方法、分離膜等の補助設備を利
用する方法等を用いて行うことができる。これらの分離
を効率良く行うことにより、リンス排液は清浄化され、
再びリンス液として再使用、すなわち循環使用すること
ができる。循環使用にあたっては、必要により、リンス
液中の水溶性イオンや界面活性剤等の有機物の除去のた
め、イオン交換処理や活性炭による吸着処理又は膜分離
等の処理を行ってもよい。
【００１７】本発明の洗浄方法は、精密部品及びその組
立加工工程に使用される治工具類等の洗浄時に特に優れ
た効果を有するが、ここで精密部品とは、例えば電子部
品、電機部品、精密機械部品、樹脂加工部品、光学部品
等をいう。電子部品とは、例えば電算機及びその周辺機
器、家電機器、通信機器、ＯＡ機器、その他電子応用機
器等に用いられるプリント配線基板；ＩＣリードフレー
ム、抵抗器、コンデンサー、リレー等接点部材に用いら
れるフープ材；ＯＡ機器、時計、電算機器、玩具、家電
機器等に用いられる液晶表示器；映像・音声記録／再生
部品、その関連部品等に用いられる磁気記録部品；シリ
コンやセラミックスのウェハ等の半導体材料；水晶振動
子等の電歪用部品；ＣＤ、ＰＤ、複写機器、光記録機器
等に用いられる光電変換部品などをいう。電機部品と
は、例えばブラシ、ロータ、ステータ、ハウジング等の
電動機部品；販売機や各種機器に用いられる発券用部
品；販売機、キャッシュディスペンサ等に用いられる貨
幣検査用部品などをいう。精密機器部品とは、例えば精
密駆動機器、ビデオレコーダー等に用いられるベアリン
グ；超硬チップ等の加工用部品などをいう。樹脂加工部
品とは、例えばカメラ、自動車等に用いられる精密樹脂
加工部品などをいう。さらに、光学部品とは、例えばカ
メラ、眼鏡、光学機器等に用いられるレンズなどをい
い、その他の部品として、例えばメガネフレーム、時計
ケース、時計ベルト等が挙げられる。また、組立加工工
程に使用される治工具類とは、上述の各種部品例で示し
たような精密部品を製造、成形、加工、組立、仕上げ等
の各種工程において取り扱う治具、工具の他、これらの
精密部品を取り扱う各種機器、その部品等をいう。
立加工工程に使用される治工具類等の洗浄時に特に優れ
た効果を有するが、ここで精密部品とは、例えば電子部
品、電機部品、精密機械部品、樹脂加工部品、光学部品
等をいう。電子部品とは、例えば電算機及びその周辺機
器、家電機器、通信機器、ＯＡ機器、その他電子応用機
器等に用いられるプリント配線基板；ＩＣリードフレー
ム、抵抗器、コンデンサー、リレー等接点部材に用いら
れるフープ材；ＯＡ機器、時計、電算機器、玩具、家電
機器等に用いられる液晶表示器；映像・音声記録／再生
部品、その関連部品等に用いられる磁気記録部品；シリ
コンやセラミックスのウェハ等の半導体材料；水晶振動
子等の電歪用部品；ＣＤ、ＰＤ、複写機器、光記録機器
等に用いられる光電変換部品などをいう。電機部品と
は、例えばブラシ、ロータ、ステータ、ハウジング等の
電動機部品；販売機や各種機器に用いられる発券用部
品；販売機、キャッシュディスペンサ等に用いられる貨
幣検査用部品などをいう。精密機器部品とは、例えば精
密駆動機器、ビデオレコーダー等に用いられるベアリン
グ；超硬チップ等の加工用部品などをいう。樹脂加工部
品とは、例えばカメラ、自動車等に用いられる精密樹脂
加工部品などをいう。さらに、光学部品とは、例えばカ
メラ、眼鏡、光学機器等に用いられるレンズなどをい
い、その他の部品として、例えばメガネフレーム、時計
ケース、時計ベルト等が挙げられる。また、組立加工工
程に使用される治工具類とは、上述の各種部品例で示し
たような精密部品を製造、成形、加工、組立、仕上げ等
の各種工程において取り扱う治具、工具の他、これらの
精密部品を取り扱う各種機器、その部品等をいう。
【００１８】本発明の洗浄方法は、特に上述のうち、フ
ラックスの残存したプリント配線基板やガラス基板に付
着した液晶等の洗浄時に好適な性能を発揮するが、本発
明の対象となる精密部品類及び治工具類は、これらの例
に限定されるものではなく、組立加工工程において各種
の加工油やフラックス等の後工程の妨害物質、又は製品
の特性を低下させる各種の油性汚染物質が付着している
一定形状の固体表面を有する精密部品類及び治工具類で
あれば、本発明の洗浄方法を適用することができる。こ
れらの汚染物質が、例えば油脂、機械油、切削油、グリ
ース、液晶、ロジン系フラックス等の、主として有機油
分の汚れである場合、本発明の洗浄方法の特徴が特に発
揮される。さらに、これらに金属粉、無機物粉等が混入
した汚れであっても有効である。
ラックスの残存したプリント配線基板やガラス基板に付
着した液晶等の洗浄時に好適な性能を発揮するが、本発
明の対象となる精密部品類及び治工具類は、これらの例
に限定されるものではなく、組立加工工程において各種
の加工油やフラックス等の後工程の妨害物質、又は製品
の特性を低下させる各種の油性汚染物質が付着している
一定形状の固体表面を有する精密部品類及び治工具類で
あれば、本発明の洗浄方法を適用することができる。こ
れらの汚染物質が、例えば油脂、機械油、切削油、グリ
ース、液晶、ロジン系フラックス等の、主として有機油
分の汚れである場合、本発明の洗浄方法の特徴が特に発
揮される。さらに、これらに金属粉、無機物粉等が混入
した汚れであっても有効である。
【００１９】
【実施例】次に、実施例を挙げて、本発明を更に詳細に
説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるもので
はない。 実施例１〜４ 表１に示す組成の洗浄剤組成物を調製し、これらをイオ
ン交換水で活性成分含有量が５％になるよう希釈し、そ
の洗浄剤水溶液を２０〜１００℃の温度で３０分静置し
た。実施例１〜４はいずれも、含有している活性成分の
５０％以上が水相から分離することが確認された。また
比較例１〜３の活性成分の分離率は５％以下であった。
次いで、表１に示す洗浄剤組成物を用い、ロジン系のフ
ラックスで処理したプリント基板（１０ｃｍ×１５ｃ
ｍ）〔テスト材１〕、ナフテン系鉱油（４０℃、３５０
ｃＳｔ）を塗布（１ｇ／ｍ２）した鋼製テストピース
（１０ｃｍ×１５ｃｍ）〔テスト材２〕及び液晶を塗布
（５ｇ／ｍ２）したガラス基板（１０ｃｍ×１０ｃｍ）
〔テスト材３〕を洗浄した。洗浄は４０℃、３分間の超
音波洗浄とした。洗浄後の各被洗浄板（テスト材１〜
３）の各々を４０℃のイオン交換水に浸漬し、１分間超
音波をあてながらすすぎ洗い（リンス）した。リンス後
の被洗浄板（テスト材１〜３）の外観はいずれも良好で
あった。次いで、使用後のリンス排液を５０℃で３０分
間静置した。このとき、実施例においては有機物が上層
又は下層に分離した。この水層をサンプリングしてその
ＣＯＤ（化学的酸素要求量）を測定し（Ａ値）、前記処
理前のリンス液のＣＯＤ（Ｂ値）と比較し、有機物分離
率〔（Ｂ値−Ａ値）÷（Ｂ値）〕×１００を算定した。
結果を表１に示す。また、比較例の有機物分離率は表１
に示すとおりである。
説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるもので
はない。 実施例１〜４ 表１に示す組成の洗浄剤組成物を調製し、これらをイオ
ン交換水で活性成分含有量が５％になるよう希釈し、そ
の洗浄剤水溶液を２０〜１００℃の温度で３０分静置し
た。実施例１〜４はいずれも、含有している活性成分の
５０％以上が水相から分離することが確認された。また
比較例１〜３の活性成分の分離率は５％以下であった。
次いで、表１に示す洗浄剤組成物を用い、ロジン系のフ
ラックスで処理したプリント基板（１０ｃｍ×１５ｃ
ｍ）〔テスト材１〕、ナフテン系鉱油（４０℃、３５０
ｃＳｔ）を塗布（１ｇ／ｍ２）した鋼製テストピース
（１０ｃｍ×１５ｃｍ）〔テスト材２〕及び液晶を塗布
（５ｇ／ｍ２）したガラス基板（１０ｃｍ×１０ｃｍ）
〔テスト材３〕を洗浄した。洗浄は４０℃、３分間の超
音波洗浄とした。洗浄後の各被洗浄板（テスト材１〜
３）の各々を４０℃のイオン交換水に浸漬し、１分間超
音波をあてながらすすぎ洗い（リンス）した。リンス後
の被洗浄板（テスト材１〜３）の外観はいずれも良好で
あった。次いで、使用後のリンス排液を５０℃で３０分
間静置した。このとき、実施例においては有機物が上層
又は下層に分離した。この水層をサンプリングしてその
ＣＯＤ（化学的酸素要求量）を測定し（Ａ値）、前記処
理前のリンス液のＣＯＤ（Ｂ値）と比較し、有機物分離
率〔（Ｂ値−Ａ値）÷（Ｂ値）〕×１００を算定した。
結果を表１に示す。また、比較例の有機物分離率は表１
に示すとおりである。
【００２０】
【表１】
【００２１】表１の結果から明らかなように、実施例１
〜４では、有機物の分離率が高く、また、分離して得ら
れたリンス液はＣＯＤが低いことから、有機物が少ない
ことが認められた。なお、分離率50％以上のもの（実施
例のすべて）は、その水層をリンス液として再使用して
も良好なリンス性を示し、特に分離率70％以上のものは
優秀であった。
〜４では、有機物の分離率が高く、また、分離して得ら
れたリンス液はＣＯＤが低いことから、有機物が少ない
ことが認められた。なお、分離率50％以上のもの（実施
例のすべて）は、その水層をリンス液として再使用して
も良好なリンス性を示し、特に分離率70％以上のものは
優秀であった。
【００２２】
【発明の効果】本発明によれば、リンス排液中の有機物
を効率良く高濃度に分離除去することができ、後の排水
処理工程が簡素化できるため、特に油脂、機械油、切削
油、グリース、液晶、フラックス等の汚れが付着した電
子部品又は精密部品類を工業的に有利に洗浄することが
できる。さらに、本発明により分離処理したリンス排液
は、再びリンス液として使用することができるため、リ
ンスに使用する水の量を大幅に低減することができ、経
済性にも優れている。
を効率良く高濃度に分離除去することができ、後の排水
処理工程が簡素化できるため、特に油脂、機械油、切削
油、グリース、液晶、フラックス等の汚れが付着した電
子部品又は精密部品類を工業的に有利に洗浄することが
できる。さらに、本発明により分離処理したリンス排液
は、再びリンス液として使用することができるため、リ
ンスに使用する水の量を大幅に低減することができ、経
済性にも優れている。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ１１Ｄ 7:24 7:26） (56)参考文献 特開 平４−122480（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−68097（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−63503（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−210004（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−34182（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−47104（ＪＰ，Ａ) 特開 昭52−135844（ＪＰ，Ａ) 特開 昭50−56744（ＪＰ，Ａ) 特公 昭56−15792（ＪＰ，Ｂ２)
Claims (2)
- 【請求項１】 電子部品又は精密部品類を洗浄剤で洗浄
し、次いで水を加えてすすぐことによる洗浄方法におい
て、洗浄剤の活性成分として、非イオン性界面活性剤並
びに炭化水素化合物、難水溶性のアルキルエステル類及
びアルキルケトン類から選ばれる化合物を含有し、か
つ、その洗浄剤を水で希釈又は水を蒸発させて活性成分
の含有割合を５重量％にし、その洗浄剤水溶液を２０〜
１００℃の温度で３０分静置したとき、含有している活
性成分の５０重量％以上が水相から分離する性質を有す
る洗浄剤組成物を用い、リンス液として５〜１００℃の
水を使用し、すすぎ洗い後のリンス排液を２０℃以上に
保って活性成分及び有機系汚れ成分からなる有機物を分
離することを特徴とする電子部品又は精密部品類の洗浄
方法。 - 【請求項２】 すすぎ洗い後のリンス排液から有機物を
分離除去した残りの液を、リンス液として循環使用する
ことを特徴とする請求項１記載の洗浄方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3257745A JP2610552B2 (ja) | 1991-10-04 | 1991-10-04 | 洗浄方法 |
| DE69216525T DE69216525T2 (de) | 1991-10-04 | 1992-10-02 | Reinigungsverfahren |
| EP92116881A EP0535689B1 (en) | 1991-10-04 | 1992-10-02 | Cleaning process |
| US08/334,442 US5522940A (en) | 1991-10-04 | 1994-11-04 | Process for cleaning electronic parts or precision parts |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3257745A JP2610552B2 (ja) | 1991-10-04 | 1991-10-04 | 洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0596255A JPH0596255A (ja) | 1993-04-20 |
| JP2610552B2 true JP2610552B2 (ja) | 1997-05-14 |
Family
ID=17310514
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3257745A Expired - Lifetime JP2610552B2 (ja) | 1991-10-04 | 1991-10-04 | 洗浄方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5522940A (ja) |
| EP (1) | EP0535689B1 (ja) |
| JP (1) | JP2610552B2 (ja) |
| DE (1) | DE69216525T2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2736365B2 (ja) | 1994-10-13 | 1998-04-02 | 花王株式会社 | 洗浄方法および洗浄剤 |
| JP2816928B2 (ja) | 1993-09-16 | 1998-10-27 | 花王株式会社 | 洗浄方法 |
| JP2816805B2 (ja) | 1993-12-29 | 1998-10-27 | 花王株式会社 | 洗浄方法 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0750532B1 (en) * | 1994-03-18 | 2001-05-23 | Kao Corporation | Cleaning process |
| JP2726234B2 (ja) * | 1994-04-28 | 1998-03-11 | アイシン化工株式会社 | 機械部品の洗浄装置 |
| NO180595C (no) * | 1994-09-16 | 1997-05-14 | Norsk Hydro As | Fremgangsmåte for å kontrollere overflateegenskapene til magnesiumpartikler |
| AU1829500A (en) | 1998-11-25 | 2000-06-13 | Petroferm Inc. | Aqueous cleaning |
| EP1293589A3 (en) * | 2001-09-17 | 2004-10-13 | Nissan Motor Company, Limited | Apparatus for pretreatment prior to painting |
| EP1595940A1 (en) * | 2004-05-12 | 2005-11-16 | Malaysian Palm Oil Board | High performance cleaning agent |
| JP5725721B2 (ja) * | 2010-02-22 | 2015-05-27 | 花王株式会社 | 液体洗浄剤組成物 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5056744A (ja) * | 1973-09-21 | 1975-05-17 | ||
| DE2927873A1 (de) * | 1979-07-11 | 1981-02-05 | Senkingwerk Gmbh Kg | Postenwaschmaschine |
| US4414128A (en) * | 1981-06-08 | 1983-11-08 | The Procter & Gamble Company | Liquid detergent compositions |
| US4640719A (en) * | 1985-07-01 | 1987-02-03 | Petroleum Fermentations N.V. | Method for printed circuit board and/or printed wiring board cleaning |
| US4867800B1 (en) * | 1988-07-21 | 1995-02-14 | Du Pont | Cleaning composition of terpene compound and dibasic ester |
| US4983224A (en) * | 1988-10-28 | 1991-01-08 | Rd Chemical Company | Cleaning compositions and methods for removing soldering flux |
| GB8913881D0 (en) * | 1989-06-16 | 1989-08-02 | Unilever Plc | Detergent compositions |
| CA2024589A1 (en) * | 1989-09-05 | 1991-03-06 | Masaru Sugita | Cleaning compositions and applications thereof |
| JPH0457899A (ja) * | 1990-06-27 | 1992-02-25 | Arakawa Chem Ind Co Ltd | ロジン系ハンダフラックスの洗浄剤および該洗浄剤を用いてなるロジン系ハンダフラックスの洗浄方法 |
| DE69110359T2 (de) * | 1990-07-10 | 1996-03-21 | Kao Corp | Zusammensetzung zur Reinigung von elektronischen und Präzisionsteilen und Reinigungsverfahren. |
| US5096501A (en) * | 1990-08-27 | 1992-03-17 | E. I. Du Pont De Nemours & Company | Environmentally safe cleaning process and cleaning composition useful therein |
-
1991
- 1991-10-04 JP JP3257745A patent/JP2610552B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1992
- 1992-10-02 DE DE69216525T patent/DE69216525T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-10-02 EP EP92116881A patent/EP0535689B1/en not_active Expired - Lifetime
-
1994
- 1994-11-04 US US08/334,442 patent/US5522940A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2816928B2 (ja) | 1993-09-16 | 1998-10-27 | 花王株式会社 | 洗浄方法 |
| JP2816805B2 (ja) | 1993-12-29 | 1998-10-27 | 花王株式会社 | 洗浄方法 |
| JP2736365B2 (ja) | 1994-10-13 | 1998-04-02 | 花王株式会社 | 洗浄方法および洗浄剤 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0596255A (ja) | 1993-04-20 |
| US5522940A (en) | 1996-06-04 |
| DE69216525T2 (de) | 1997-05-28 |
| DE69216525D1 (de) | 1997-02-20 |
| EP0535689B1 (en) | 1997-01-08 |
| EP0535689A2 (en) | 1993-04-07 |
| EP0535689A3 (en) | 1993-12-08 |
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