JPH08917B2

JPH08917B2 - 洗浄剤組成物

Info

Publication number: JPH08917B2
Application number: JP2168897A
Authority: JP
Inventors: 宏造北澤; 栄二樫原
Original assignee: Kao Corp
Current assignee: Kao Corp
Priority date: 1990-06-27
Filing date: 1990-06-27
Publication date: 1996-01-10
Anticipated expiration: 2011-01-10
Also published as: JPH0457897A

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は洗浄剤組成物、更に詳しくは精密部品又はそ
の組立加工工程に使用される治工具類の固体表面に存在
する、油脂、機械油、切削油、グリース、液晶、ロジン
系フラックス等の汚れの除去性に優れ、かつすすぎ性に
優れた洗浄剤組成物に関する。

〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕

従来、精密部品、治工具類等の固体表面に存在する油
脂等の有機物を主体とする汚れの除去には、ケロシン、
ベンゼン、キシレン等の炭化水素系溶剤；トリクロロエ
チレン、テトラクロロエチレン等の塩素系溶剤；トリク
ロロトリフルオロエタン等のフロン系溶剤；オルソケイ
酸ソーダや苛性ソーダに界面活性剤やビルダーを配合し
た水系の洗浄剤等が使用されている。特に電子、電気、
機械等の部品にはその高洗浄性、難燃性という特性を生
かしてフロン系溶剤又は塩素系溶剤が使用されている。

しかしながら、塩素系及びフロン系の溶剤を用いる洗
浄剤は、安全性、毒性、環境汚染性等に大きな問題を有
している。また、炭化水素系溶剤、特にベンゼン、キシ
レン等は毒性が高く、労働安全衛生法上の有害物に指定
されている化合物であって、これを取り扱う作業の危険
性及び煩雑さを考慮すると、洗浄剤として用いることは
好ましくない。一方、水系洗浄剤は、溶剤系洗浄剤に比
較して危険性と毒性が低い点では好ましいが、洗浄力に
おいて数段劣っている。

そこで、近年、環境汚染が少なくかつ安全性の高い洗
浄剤として、米国特許第4,511,488号明細書、同第4,64
0,719号明細書、同第4,740,247号明細書等に見られるよ
うなリモネン、ピネン、ジペンテン等のテルペン類が提
案されている。これらリモネンに代表されるテルペン類
は、安全性と洗浄性を両立させ得る化合物であるが、引
火点が低く、使用時の設備が大がかりとなる。又、天然
物由来のために安定品質の物が得難く、供給量に限界が
あり、工業用洗浄剤として実際的ではない。

一方、洗浄後、洗浄剤が残留するとプラスチック部品
等に悪影響を与えることがああるため、洗浄後のすすぎ
性も問題となっている。

本発明の目的は、上述のような従来洗浄剤のもつ欠点
を改良した、洗浄性、安全性に優れ、かつ環境汚染がな
く、すすぎ性に優れている、精密部品又はその組立加工
工程に用いられる治工具類の固体表面に存在する油脂、
機械油、切削油、グリース、液晶、ロジン系フラックス
等の汚れ成分を除去するための洗浄剤組成物を提供する
ことにある。

〔課題を解決するための手段〕

斯かる実情において本発明者らは上記課題を解決すべ
く鋭意研究を行った結果、特定のアルキレンオキサイド
化合物にアミン系化合物と特定量の水を配合すれば前記
の条件を具備した洗浄剤組成物が得られることを見出
し、本発明を完成した。

すなわち、本発明は、次の成分（Ａ）、（Ｂ）及び
（Ｄ）（Ａ）次の一般式（Ｉ）、（II）及び（III） R¹−Ｏ−（R²O）_ｍ−（R³O）_ｎ−Ｙ（Ｉ） R¹−COO−（R²O）_ｍ−（R³O）_ｎ−Ｙ（II）〔式中、R¹は炭素数１〜22の炭化水素残基を示し、R²
及びR³はそれぞれ炭素数２〜４のアルキレン基を示し、
Ｙは水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基若しくはア
シル基を示し、ｍは１〜15の整数を、ｎ、ｌ及びｐはそ
れぞれ０〜15の整数を示す〕で表わされる化合物からなる群より選ばれるアルキレン
オキサイド化合物 50重量％以上（Ｂ）窒素原子数が１〜５で分子量が50〜300の範囲
である（Ａ）成分の（III）式の化合物以外のアミン系
化合物 0.05〜５重量％（Ｄ）水５〜45重量％を含有する精密部品又はこれに使用する治工具類用洗
浄剤組成物を提供するものである。

本発明の洗浄剤組成物における（Ａ）成分のアルキレ
ンオキサイド化合物は前記一般式（Ｉ）、（II）又は
（III）で表わされる。

一般式（Ｉ）、（II）及び（III）中、R¹炭素数１〜2
2の炭素水素残基であることが必要であるが、特に炭素
数４〜14の炭素水素残基であることが好ましい。R¹が炭
化水素残基でなかった場合、フラックスや鉱油類等の有
機系汚れとの親和性が低下し、また、R¹の炭化水素残基
の炭素数が22を超えると洗浄液中に固形分が析出しやす
くなり、洗浄液自体の粘度も上昇するため、作業性及び
洗浄性が低下する。

また、ｍは１〜15、ｎ、ｌ及びｐはそれぞれ０〜15の
整数であることが必要である。ｍ＋ｎは１〜15の範囲で
あることが好ましく、特にｍ＋ｎ及びｌ＋ｐがそれぞれ
１〜10の範囲のものが優れた効果を示す。

斯かる（Ａ）成分のアルキレンオキサイド化合物の具
体例としては、メチルアルコール、エチルアルコール、
プロピルアルコール、ブチルアルコール、イソブチルア
ルコール、ヘキシルアルコール、オクチルアルコール、
ラウリルアルコール、オレイルアルコール、炭素数18の
ゲルベアルコール等の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を有
するアルコール類；フェノール、クレゾール、ノニルフ
ェノール、スチレン化フェノール等のフェノール類；シ
クロヘキサノール等の脂環族のアルコール類；酢酸、プ
ロピオン酸、ヘキサン酸、イソオクチル酸、ラウリン
酸、オレイン酸、ステアリン酸、炭素数22のゲルベ酸等
の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を有する脂肪酸；メタア
クリル酸、安息香酸等の有機カルボン酸；エチルアミ
ン、ジエチルアミン、ヘキシルアミン、ジブチルアミ
ン、オクチルアミン、ラウリルアミン、オレイルアミ
ン、ベンジルアミン、シクロヘキシルアミン等の直鎖、
分岐鎖、芳香族又は脂環族の炭化水素残基を有するアミ
ン類などにアルキレン（エチレン、プロピレン、ブチレ
ン）オキサイドの単独又は配合付加させたものが挙げら
れ、更に、これらのアルキレンオキサイド付加物の末端
水酸基をアルキルクロライド等によりメチル化、エチル
化又はブチル化したり、酢酸やプロピオン酸等でエステ
ル化した化合物が挙げられる。

（Ａ）成分のアルキレンオキサイド化合物は１種を単
独で又は２種以上を組み合わせて配合することができ、
洗浄性で維持し、かつその持続性を確保する目的で本発
明洗浄剤組成物中に50重量％（以下、単に「％」で示
す）以上配合される。

（Ａ）成分のアルキレンオキサイド化合物は、これの
みでもある程度の洗浄力を有するが、（Ｂ）成分のアミ
ン系化合物を併用することにより、特に水分が混入した
際でも洗浄性が良好となる。

（Ｂ）成分のアミン系化合物としては、窒素原子数が
１〜５で分子量が50〜300の範囲のものが用いられる。
分子量が50未満では得られる洗浄剤組成物の臭いが強く
なりすぎ、また、分子量が300を超えると洗浄性改善効
果が少なくなる。

斯かる（Ｂ）成分のアミン系化合物の具体例として
は、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリ
エタノールアミン、ジメチルエタノールアミン、ジブチ
ルエタノールアミン等のアルキロールアミン類；モルホ
リン、エチルモルホリン等のモルホリン類；ピペラジ
ン、トリエチルジアミン、ペンタメチルジエチレントリ
アミン、テトラメチルプロピレンジアミン等が挙げられ
る。

（Ｂ）成分のアミン系化合物は本発明洗浄剤組成物中
に0.05〜５％配合される。配合量が0.05％未満であると
洗浄性改善効果が充分ではなく、また配合量が５％を超
えると洗浄剤組成物が強アルカリ性になり過ぎるため、
アルミ等の材質に対する腐食やプラスチック等の材質に
対する物性劣化等の影響を及ぼす。

本発明の浄化剤組成物には更に（Ｃ）成分の界面活性
剤を配合することにより、水リンス性か向上し、更に洗
浄力が増大する。

（Ｃ）成分の界面活性剤としては、アニオン性活性
剤、カチオン性活性剤、非イオン性活性剤、両イオン性
活性剤のいずれも使用することができる。より具体的に
は、脂肪酸塩類、高級アルコール硫酸エステル塩類、液
体脂肪油硫酸エステル塩類、脂肪族アミン及び脂肪族ア
マイドの硫酸塩類、脂肪アルコールリン酸エステル塩
類、二塩基性脂肪酸エステルのスルホン塩類、脂肪酸ア
ミドスルホン酸塩類、アルキルアリルスルホン酸塩類、
ホルマリン縮合のナフタリンスルホ酸塩類等のアニオン
性活性剤；脂肪族アミン塩類、第４級アンモニウム塩
類、アルキルピリジウム塩類等のカチオン性活性剤；ポ
リオキシアルキレンアルキルエーテル類、ポリオキシア
ルキレンアルキルフェノールエーテル類、ポリオキシア
ルキレンアルキルアミン類、ポリオキシアルキレンアル
キルエステル類、ソルビタンアルキルエステル類、ポリ
オキシソルビタンアルキルエステル類等の非イオン性活
性剤；あるいはアルキルベタイン、アルキルジメチルア
ミンオキサイド、アルキルアラニン等の両イオン性活性
剤等が主だった物として上げられる。尚、ここでポリオ
キシアルキレンとはエチレンオキサイド、プロピレンオ
キサイド又はブチレンオキサイドの重合体を示す。

これら（Ｃ）成分の界面活性剤は本発明洗浄剤組成物
中に0.01〜30％、特に0.5〜10％配合されることが好ま
しい。配合量が0.01％未満では界面活性剤を加えたこと
による特別の効果は発現せず、また配合量が30％を超え
てもそれ以上添加した効果は得られにくい。

更に本発明の洗浄剤組成物は水を含有させることによ
り、有機性の汚れ以外のイオン化しやすい無機性の汚れ
等のより広範囲の汚れに対する洗浄性を示すようにな
る。

水は本発明洗浄剤組成物に５〜45％、特に10〜30％配
合されることが好ましい。配合量が５％未満では水の添
加による効果が得られにくく、また配合量が45％を超え
ると有機性の汚れに対する洗浄性が低下し好ましくな
い。

また、本発明の洗浄剤組成物には、本発明の効果を損
わない範囲で、必要に応じて更にヒドロキシエチルイミ
ノ２酢酸、エチレンジアミンテトラ酢酸等のアミノカル
ボン酸塩等のキレート力を持つ化合物や防腐剤、酸化防
止剤、防錆剤、アルコール類炭化水素系溶剤などを配合
することができる。

本発明の洗浄剤は精密部品及びその組立加工工程に使
用される治工具類の洗浄に特に優れた効果を有するが、
ここで精密部品とは、例えば電子部品、電機部品、精密
機械部品、樹脂加工部品、光学部品等をいう。ここで、
電子部品とは、例えば電算機及びその周辺機器、家電機
器、通信機器、OA機器、その他電子応用機器等に用いら
れるプリント配線基板;ICリードフレーム、抵抗器、コ
ンデンサー、リレー等接点部材に用いられるフープ材;O
A機器、時計、演算機器、玩具、家電機器等に用いられ
る液晶表示器；映像・音声記録／再生部品、その関連部
品等に用いられる磁気記録部品；シリコンやセラミック
スのウェハ等の半導体：水晶振動子等の電歪用部品;C
D、PD、複写機器、光記録機器等に用いられる光電変換
部品などをいう。電機部品とは例えばブラシ、ロータ、
ステータ、ハウジング等の電動機部品；販売機や各種機
器に用いられる発券用部品；販売機、キャッシュディス
ペンサ等に用いられる紙幣検査用部品などをいう。精密
機械部品とは、例えば精密駆動機器、ビデオレコーダー
等に用いられるベアリング；超硬チップ等の加工用部品
などをいう。樹脂加工部品とは、例えばカメラ、自動車
等に用いられる精密樹脂加工部品などをいう。更に、光
学部品としては、カメラ、眼鏡、光学機器等に用いられ
るレンズがあり、また、その他部品としてメガネフレー
ム、時計ケース、時計ベルト等が例示される。

本発明において、組立加工工程に使用される治工具類
とは、上述の各種部品例で示したような精密部品を製
造、成形、加工、組立、仕上げ等の各種工程において取
り扱う治具、工具の他、これらの精密部品を取り扱う各
種機器、この部品等をいう。

本発明の洗浄剤組成物は、特に上述のうち、フラック
スの残存したプリント配線基板に対し好適な性能を発揮
するが、本発明の対象となる精密部品及び治工具類は、
これらの例に限られるものではなく、組立加工工程にお
いて各種の加工油やフラックス等の後工程の妨害物質、
又は製品の特性を低下させる各種の油性汚染物質を付着
している一定形状の固定表面を持つ精密部品類及び治工
具であれば、本発明洗浄剤組成物が適用できる。

これらの汚染物質が例ば油脂、機械油、切削油、グリ
ース、液晶、ロジン系フラックス等の、主として有機油
分の汚れである場合、本発明の洗浄剤組成物が特に有効
であり、これに金属粉、無機物粉、水分等が混入した汚
れも充分洗浄除去することができる。

本発明の洗浄剤組成物は、浸漬法、超音波洗浄法、揺
動法、スプレー法、蒸気洗浄法、手拭法、水置換乾燥法
等の各種の洗浄方法において使用でき、かつ好ましい結
果を得ることができる。

本発明の洗浄剤を、例えばフラックスの付着したプリ
ント配線基板の洗浄工程に用いる場合、例えば、本発明
洗浄剤組成物をいれた超音波洗浄槽を用いて超音波洗浄
を行えばよい。

洗浄後は、水等により簡単に本発明洗浄剤組成物を除
去することができる。

〔実施例〕

以下、実施例を挙げて更に詳細に説明するが、本発明
はこれらに限定されるものではない。

実施例１〜７及び比較例１〜６表１に示す組成の洗浄剤組成物を調製し、その洗浄性
及びフラックス除去性を評価した。結果を表１に示す。

（１）洗浄性試験 70mm×150mmの調製テストピースに500mg/m²の割合で
ナフテン系鉱油（40℃,350cst）を塗布する。このテス
トピースを、40℃に保った洗浄液に浸漬し、超音波で５
分間洗浄した。次いで30℃のイオン交換水に10秒浸漬
し、乾燥後、目視によりその洗浄性を評価した。

（評価基準）洗浄性 ◎：表面極めて清浄 ○：表面に鉱油残着ほとんどなし △：表面に鉱油残着わずかにあり ×：表面に鉱油残着あり（２）フラックス除去性試験 ICチップを装着したプリンド配線板をフラックス処理
し、続いてハンダ処理してテストピースとした。このテ
ストピースを50℃に保った洗浄液に浸漬し、３分間超音
波洗浄後、30℃のイオン交換水でリンスし、乾燥後、プ
リント配線板からのフラックスの除去性を目視で評価す
ると共に、MIL−Ｐ−28809法でプリント配線板上に残存
したイオン性汚れの除去性を評価した。

（評価基準）目視評価 ◎：フラックス残着なく、洗浄力極めて大 ○：フラックス残着がほとんどなく、洗浄力大 △：フラックス残着がわずかにあるが、洗浄力あり ×：フラックズ残着し、洗浄力に乏しい MIL−Ｐ−28809法数値の大きい程洗浄力が大きいことを示し、２メグオ
ーム以上であれば合格である。

〔発明の効果〕叙上の如く、本発明の洗浄剤組成物は、優れた洗浄
性、耐劣化性を有すると共に安全性がよく環境汚染の心
配もないので、精密部品又はその組立加工工程に用いら
れる治工具類用の洗浄剤として有利に使用できるもので
ある。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｈ０５Ｋ 3/26 7511−4Ｅ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】次の成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｄ）（Ａ）次の一般式（Ｉ）、（II）及び（III） R¹−Ｏ−（R²O）_ｍ−（R³O）_ｎ−Ｙ（Ｉ） R¹−COO−（R²O）_ｍ−（R³O）_ｎ−Ｙ（II）〔式中、R¹は炭素数１〜22の炭化水素残基を示し、R²及
びR³はそれぞれ炭素数２〜４のアルキレン基を示し、Ｙ
は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基若しくはアシ
ル基を示し、ｍは１〜15の整数を、ｎ、ｌ及びｐはそれ
ぞれ０〜15の整数を示す〕で表わされる化合物からなる群より選ばれるアルキレン
オキサイド化合物 50重量％以上（Ｂ）窒素原子数が１〜５で分子量が50〜300の範囲
である（Ａ）成分の（III）式の化合物以外のアミン系
化合物 0.05〜５重量％（Ｄ）水５〜45重量％を含有する精密部品又はこれに使用する治工具類用洗浄
剤組成物。
【請求項２】更に、次の成分（Ｃ）（Ｃ）界面活性剤 0.01〜30重量％を含有する請求項１記載の洗浄剤組成物。