JPH0394082A

JPH0394082A - 洗浄剤組成物

Info

Publication number: JPH0394082A
Application number: JP18244089A
Authority: JP
Inventors: Kozo Kitazawa; 北澤　宏造; Yoshiaki Fujikura; 藤倉　芳明
Original assignee: Kao Corp
Current assignee: Kao Corp
Priority date: 1989-06-12
Filing date: 1989-07-17
Publication date: 1991-04-18
Anticipated expiration: 2013-10-30
Also published as: JP2819156B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、精密部品又はその組立加工工程に使用される
治工具類用の洗浄剤組成物に関し、更に詳しくはそれら
の固体表面に存在する油脂、機械油、切削油、グリース
、ロジン系フラックス等の汚れ或分の除去性に優れ、こ
れらの汚れによる劣化が少なく、かつ毒性の低い洗浄剤
組成物に関する。

〔従来の技術〕

従来、精密部品、治工具等の固体表面に存在する油等の
有機物を主体とする汚れの除去には、ケロシン、ベンゼ
ン、キシレン等の炭化水素系溶剤；トリクロロエチレン
、テトラクロロエチレン等の塩素系溶剤；トリクロロト
リフルオ口エタン等のフロン系溶剤；オルソケイ酸ソー
ダや苛性ソーダに界面活性剤やビルグーを配合した水系
の洗浄剤等が使用されている。特に電子、電気、機械等
の部品にはその高洗浄性、難燃性という特性を生かして
フロン系溶剤又は塩素系溶剤が使用されている。

また、近年、環境汚染が少なくかつ安全性の高い洗浄剤
として、米国特許第４，　５１１，　４８８号明細書、
同第４，　６４０，　７１９号明細書、同第４，　７４
０，　２４７号明細書等に見られるようなリモネン、ビ
ネン、ジペンテン等のテルペン類も提案されている。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかし、これらの洗浄剤はいずれを取っても、汚れ除去
性、耐劣化性及び低毒性という、洗浄剤組戒物に要求さ
れる条件のすべてを満たすようなものではなかった。す
なわち、塩素系及びフロン系の溶剤を用いる洗浄剤は、
安全性、毒性、環境汚染性等に大きな問題を有している
。また、炭化水素系溶剤、特にベンゼン、キシレン等は
毒性が高く、労働安全衛生法上の有害物に指定されてい
る化合物であって、これを取り扱う作業の危険性及び煩
雑さを考慮すると、洗浄剤として用いることは好ましく
ない。一方、水系洗浄剤は、溶剤系洗浄剤に比較して危
険性と毒性が低い点では好ましいが、洗浄力において数
段劣っている。また、リモネンに代表されるテルペン類
は、安全性と洗浄性を両立させ得る化合物であるが、使
用時に劣化しやすく耐久性が問題であるばかりでなく、
天然物由来のために安定品質の物が得難く、高価でかつ
供給量に限界があり、工業用洗浄剤として実際的ではな
い。

本発明の目的は、上述のような従来技術のもつ欠点を改
良し、洗浄性、耐劣化性及び安全性に優れかつ環境汚染
のない、精密部品又はその組立加工工程に用いられる治
工具類の固体表面に存在する油脂、機械油、切削油、グ
リース、ロジン系ブラックス等の汚れ戒分を除去するた
めの洗浄剤組成物を提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

かかる実情において、本発明者らは上記問題点を解決す
べく鋭意研究を行った結果、特定炭素数範囲の飽和アル
キルベンゼンが前記条件を満足する洗浄剤組成物として
使用し得るものであることを見いだし、本発明を完或す
るに至った。

すなわち本発明は、炭素数９〜ｌ５の飽和アルキルベン
ゼンを７０重量％以上含有する洗浄剤組成物を提供する
ものである。

本発明において使用されるアルキルベンゼンは飽和のア
ルキル基を持つことが必須である。不飽和アルキル基で
置換されたベンゼン誘導体の場合、洗浄性は悪くはない
が使用時の劣化が激しく、本発明の目的に照らし不適当
である。また、その全炭素数については９〜１５の範囲
にあることが脂３一肪族性／芳香族性のバランスから見て必須の要件である
。この範囲の中では、汚れ或分の油の極性が大きい場合
も小さい場合も同じように安定した良好な洗浄性を得る
ことができる。その中でも特に、全炭素数９〜１２のも
のが好ましい。このような飽和アルキルベンゼンとして
は、例えば、シメン、キュメン、デュレン、ｔ−ブチル
トルエン、メシチレン、ジイソブロビルベンゼン、ｔ−
ブチルベンゼン等が挙げられる。これらの内特にシメン
、ジイソプロビルベンゼン等が特に優れている。

これらの飽和アルキルベンゼンは、洗浄性を維持し、持
続性を確保するために本発明洗浄剤組成物中に７０重量
％以上含有することが必要である。

本発明の洗浄剤組成物は、更に界面活性剤及び／または
アルコールを配合することにより、より強力な洗浄力を
発揮する。

界面活性剤としてはアニオン性活性剤、カチオン性活性
剤、両イオン性活性剤等いずれも使用することができる
が、洗浄面への影響が少ないという点で非イオン系界面
活性剤が最もよい。例えば４ボリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシア
ルキレンアルキルフェノールエーテル、ポリオキシアル
キレンアルキル脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレン
アリルフェノールエーテル、ポリオキシアルキレンソル
ビタン脂肪酸エステル、ボリ才キシアルキレンアルキル
アミン、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキ
レン等が好ましく、そのなかでも平均ＨＬＢ　４〜ｌ５
の非イオン性界面活性剤が特に優れた効果を発現する。

ここで、ポリオキシアルキレンとは、エチレンオキサイ
ド、プロピレンオキサイド又はプチレンオキサイドの重
合体のことをいう。

アルコールとしては、炭素数６〜１８のものが好ましく
、例えばオクチルアルコール、ラウリルアルコール、オ
レイルアルコール、ゲルベアルコール等の天然及び合或
アルコールが挙げられる。

界面活性剤及び／またはアルコールの添加量としては合
計０．０１〜３０重量％程度、特に３〜１０重量％が望
ましい。０．Ｏｌ重量％未満では界面活性剤及び／また
はアルコールを加えたことによる特別の効果は発現せず
、一方３０重量％を越えると界面活性剤が洗浄表面に残
留して、洗浄された部品の特性に影響を及ばずことがあ
る。

また、本発明洗浄剤組成物には、その効果を損なわない
範囲で、必要に応じて更にエタノール、グリコール等の
各種アルコール、クエン酸、酒石酸、フタル酸等の有機
酸などを配合してもよい。

本発明の洗浄剤は、精密部品及びその組立加工工程に使
用される治工具類の洗浄に特に優れた効果を有する。

本発明において、精密部品とは、例えば電子部品、電機
部品、精密機械部品、樹脂加工部品、光学部品等をいう
。ここで、電子部品とは、例えば電算機及びその周辺機
器、家電機器、通信機器、ＯＡ機器、その他電子応用機
器等に用いられるプリント配線基板；■Ｃリードフレー
ム、抵抗器、コンデンサー　リレー等接点部材に用いら
れるフープ材；０Δ機器、時計、電算機器、玩具、家電
機器等に用いられる液晶表示器；映像・音声記録／再生
部品、その関連部品等に用いられる磁気記緑部品；シリ
コンやセラミックのウェハ等の半導体材料；水晶振動子
等の電歪用部品；ｃＩ），ｐＩ），複写機器、光記録機
器等に用いられる光電変換部品などをいう。電機部品と
は例えばブラシ、ロー夕、ステータ、ハウジング等の電
動機部品；販売機や各種機器に用いられる発券用部品；
販売機、キャッシュディスペンサ等に用いられる貨幣検
査用部品などをいう。精密機械部品とは、例えば精密駆
動機器、ビデオレコーダー等に用いられるベアリング；
超硬チップ等の加工用部品などをいう。

樹脂加工部品とは、例えばカメラ、自動車等に用いられ
る精密樹脂加工部品などをいう。更に、光学部品として
は、カメラ、眼鏡、光学機器等に用いられるレンズがあ
り、また、その他部品としてメガネフレーム、時計ケー
ス、時計ベルト等が例示される。

本発明において、組立加工工程に使用される治工具類と
は、上述の各種部品例で示したような精密部品を製造、
或形、加工、組立、仕上げ等の各種工程において取り扱
う治具、工具の他、これら７の精密部品を取り扱う各種機器、その部品等をいう。

本発明の洗浄剤組成物は、特に上述のうち、フラックス
の残存したプリント配線基板に対し好適な性能を発揮す
るが、本発明の対象となる精密部品類及び治工具類は、
これらの例に限られるものではなく、組立加工工程にお
いて各種の加工池やフラックス等の後工程の妨害物質、
又は製品の特性を低下させる各種の油性汚染物質を付着
している一定形状の固体表面を持つ精密部品類及び治工
具類であれば、本発明洗浄剤組成物が適用できる。

これらの汚染物質が例えば油脂、機械油、切削油、グリ
ース、ロジン系ブラックス等の、主として有機油分の汚
れである場合、本発明の洗浄剤組成物が特に有効であり
、これに金属粉、無機物粉、水分等が混入した汚れであ
っても十分洗浄除去することができる。

本発明の洗浄剤組成物は、浸漬法、超音波洗浄法、揺動
法、スプレー法、蒸気洗浄法、手拭法、水置換乾燥法等
の各種の洗浄方法において使用で８一き、かつ好ましい結果を得ることができる。

本発明の洗浄剤を、例えばフラックスの付着したプリン
ト配線基板の洗浄工程に用いる場合、例えば、まず本発
明洗浄剤組成物をいれた超音波洗浄槽で超音波洗浄し、
次いで本発明の洗浄剤組成物を満たした液浴槽において
浸漬洗浄し、最後に本発明の洗浄剤組成物により蒸気洗
浄する等の方法を連続的に行うことにより、効率的に洗
浄することができる。

〔実施例〕

以下、実施例を挙げて更に詳細に説明するが、本発明は
これらに限定されるものではない。

実施例１〜９及び比較例１〜５７　０ｍｍＸ　１　５　０ｍｍの鋼製テストピースに５
００ｍｇ／ｍ’の割合でナフテン系鉱油（４０℃．３５
０ｃｓｔ　）を塗布する。このテストビースを、４０℃
に保った洗浄液に浸漬し、超音波で５分間洗浄した。洗
浄後、目視によりその洗浄性を評価した。

また、汚れ混入時の洗浄性を調べるため、上記ナフテン
系鉱油を２０重量％添加した洗浄液を調製し、同様の洗
浄試験を行った。

洗浄液の耐劣化性を調べるため、ジイソブ口ピルベンゼ
ン、ビニルトルエン、シメン及びリモネン各１００ｍＣ
をそれぞれ３００一のガラス容器に入れ、これに銅粉及
び鉄粉を各１０ｇ加えた後、１５０℃で３日間高温槽で
加熱した。不飽和のアルキル基を有するビニルトルエン
及びリモネンは熱劣化のため増粘したが、飽和アルキル
を有するシメン及びジイソブ口ピルベンゼンには変化が
認められなかった。

これらの結果を表１に示した。

（評価基準）洗浄性　　◎：表面極めて清浄 ○：表面に鉱油残着ほとんどなし △：表面に鉱油残着わずかにありＸ：表面に絋油残着あり耐劣化性　◎：増粘全くなし ○：増粘わずかにあり △：増粘ありＸ：増粘顕著１１実施例１０〜１９及び比較例６〜７ＩＣチップを装着したプリント配線板をフラッグス処理
し、続いてハンダ処理してテストピースとした。このテ
ストピースを８０℃に保った洗浄液に浸漬し、５分間超
音波洗浄後プリント配線板からのフラックスの除去性を
目視で評価した。結果を表２に示した。

（評価基準） ◎：フラックス残着なく、洗浄力極めて大○：フラック
ス残着がほとんどなく、洗浄力大△：フラックス残着か
わずかにあるが、洗浄力あり ×：フラックスが残着し、洗浄力に乏しい以下余白ｌ３特開平３　−　９４０８２　（７）〔発明の効果〕以上のように、本発明によれば洗浄性、耐劣化性及び安
全性に優れ、かつ環境汚染のない、精密部品又はその組
立加工工程に用いられる治工具類用の洗浄剤組成物が提
供される。

以　　上

Claims

【特許請求の範囲】

（１）　炭素数９〜１５の飽和アルキルベンゼンを７０
重量％以上含有する洗浄剤組成物。
（２）　更に界面活性剤を含有する請求項１記載の洗浄
剤組成物。
（３）　界面活性剤が平均ＨＬＢ４〜１５の非イオン性
界面活性剤である請求項２記載の洗浄剤組成物。
（４）　更に炭素数６〜１８のアルコールを含有する請
求項１または２記載の洗浄剤組成物。