JPH1174247A

JPH1174247A - 基板処理装置

Info

Publication number: JPH1174247A
Application number: JP23243497A
Authority: JP
Inventors: Satoshi Suzuki; 聡鈴木
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1997-08-28
Filing date: 1997-08-28
Publication date: 1999-03-16
Anticipated expiration: 2017-08-28
Also published as: JP3535706B2

Abstract

(57)【要約】【課題】基板表面全体をより均一に処理する。【解決手段】搬送機構１６の搬送ローラ１８により基
板Ｗを水平面に対して傾けた状態で支持し、基板Ｗの傾
斜方向における上位側の端部上方に設けたスリットノズ
ル３０により基板表面にエッチング液を供給するととも
に、スリットノズル３０の下位側に配置されたサージタ
ンク３６の多数のシャワーノズル４０により基板表面に
エッチング液を吹き付けるようにエッチング装置１０を
構成した。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置用ガ
ラス基板、プラズマディスプレイ用ガラス基板、プリン
ト基板、半導体ウエハ等の基板にエッチング液やネガレ
ジスト用現像液等の処理液を供給して所定の処理を行う
基板処理装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来から、上記のような液晶表示装置用
ガラス基板等の基板に対する処理工程の一つとして、現
像処理が施された後の基板の表面に酸性のエッチング液
を供給して基板表面に形成された金属膜を溶解し、これ
により所望のパターンを基板表面に形成する、いわゆる
エッチング処理の工程がある。

【０００３】この処理を行う装置（エッチング装置）と
しては、ローラコンベアによって基板を水平姿勢で搬送
しながら、基板表面にエッチング液を吹き付けるように
したものが一般的である。

【０００４】しかし、この装置では、基板が大型化する
と基板表面でエッチング液が淀み（滞留し）易く、エッ
チング処理の均一性を確保する、つまり、基板全体に均
一にエッチング処理を施すのが難しいという問題があ
り、近年では、傾斜姿勢に保持した基板の表面にエッチ
ング液を供給して流下させ、これによりエッチング液を
基板に作用させつつ速やかに基板外に流出させることが
考えられている。このようにすれば、基板に対するエッ
チング液の置換性が効果的に向上するため、大型基板に
おいてもエッチング処理の均一性を高めることが可能と
なる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
に傾斜姿勢に保持した基板に対してエッチング液を供給
する場合、基板の傾斜方向における上位側の端部に、基
板の傾斜方向と基板面上で直交する方向に延びるスリッ
トノズルを配置し、このスリットノズルから基板上にエ
ッチング液を流下させて供給する方法と、エッチング液
を噴出するシャワーノズルを基板に対向して複数配置
し、これらのシャワーノズルにより基板にエッチング液
を吹き付けて供給する方法とが考えられる。

【０００６】ここで、スリットノズルを用いたエッチン
グ液の供給方法によれば、基板に沿ったエッチング液の
流れにより基板全体に均一にエッチング液を供給するこ
とができるという特徴がある。しかし、基板に沿ってそ
の上位側からエッチング液を流下させるので、基板の上
位側のエッチング液に比べて下位側のエッチング液の活
性度が低い、つまり、基板の下位側ほどエッチング液が
劣化していて、基板Ｗの上位側に比べて下位側の処理の
進行が遅いという問題点がある。

【０００７】一方、シャワーノズルを用いたエッチング
液の供給方法によれば、各ノズルから直接基板にエッチ
ング液を吹き付けるため、上述のようにエッチング液の
劣化が問題となることはないが、各ノズルのエッチング
液の吹き付け領域の境目部分に処理ムラが生じ易いとい
う問題がある。

【０００８】上記の各問題は、いずれもエッチング処理
の均一性を高める上でのマイナス要素となるため、傾斜
姿勢に保持した基板に対してエッチング液を供給する場
合には、これらの問題を解決する必要がある。なお、こ
のような問題は、エッチング処理に限らず、例えばネガ
レジスト現像等の現像処理において基板を傾斜姿勢に保
持して処理する場合にも同様に解決する必要がある。

【０００９】本発明は、上記問題を解決するためになさ
れたものであり、傾斜姿勢に保持した基板に対して処理
液を供給して処理を施す装置において、基板表面全体を
より均一に処理することができる基板処理装置を提供す
ることを目的としている。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、水平面に対して所定の角度をなす傾斜姿
勢に保持された基板に対して処理液を供給して所定の処
理を施す基板処理装置において、基板の傾斜方向におけ
る上位側の端部に処理液を供給して上記基板表面上で処
理液を上記傾斜方向に流下させる第１の処理液供給手段
を備えるとともに、この第１の処理液供給手段よりも基
板の傾斜方向における下位側に配置されて、基板に処理
液を吹き付ける第２の処理液供給手段を備えているもの
である（請求項１）。

【００１１】この装置によれば、第１の処理液供給装置
から供給された処理液が基板に沿って流れつつ基板の傾
斜方向における下位側の端部から流下する。これにより
基板全体に処理液が作用しつつ速やかに基板外に流出す
ることとなる。この際、第２の処理液供給手段により処
理液が基板に吹き付けられることにより、基板の傾斜方
向における下位側での処理液の劣化（活性度の低下）が
抑えられる。

【００１２】この装置においては、第１の処理液供給手
段として、基板の傾斜方向と直交し、かつ基板表面と平
行に延びるスリット上の液供給口を有したスリットノズ
ルを設け、また、第２の処理液供給手段として、基板に
対向する多数の液供給口を有したシャワーノズルを設け
る（請求項２）のが望ましい。このようにすれば、基板
の傾斜方向における上位側の端部から均一に処理液を流
下させることができ、また、処理液の吹き付けに際し、
基板の広い範囲にわたって適切に処理液を吹き付けるこ
とが可能となる。

【００１３】また、請求項１又は２の装置において、第
１の処理液供給手段による処理液の供給方向を基板の傾
斜方向に可変とする第１の可変手段を設けるようにすれ
ば（請求項３）、第１の処理液供給手段から基板の特定
部分に活性度の高い処理液が継続して供給されることに
起因する処理ムラ、つまり当該特定部分での処理が他の
部分に比べて異常に速く進行する現象を効果的に抑える
ことが可能となる。

【００１４】さらに、請求項１乃至３のいずれかの装置
において、上記第２の処理液供給手段による処理液の供
給方向を可変とする第２の可変手段を設けるようにすれ
ば（請求項４）、合理的な構成で基板のより広範囲にわ
たって処理液を吹き付けることが可能となる。

【００１５】なお、請求項１乃至４のいずれかの装置
は、各処理液供給手段が基板に対してエッチング液又は
ネガレジスト用現像液を供給するようにした（請求項
５）エッチング装置又はネガレジスト現像装置として特
に有用である。

【００１６】

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態について図面
を用いて説明する。

【００１７】図１は、本発明に係る基板処理装置である
エッチング装置を示す斜視図である。この図に示すよう
に、エッチング装置１０は、箱型の処理槽１２を有して
おり、この処理槽１２の内部に、角形の基板Ｗを搬送す
るための搬送機構１６と、基板表面にエッチング液を供
給するためのエッチング液供給手段とを備えている。

【００１８】上記処理槽１２には、その側面に基板導入
口１４が設けられるとともに、これに対向する側面に基
板導出口１５が設けられている。すなわち、基板導入口
１４を介して基板Ｗが処理槽１２に導入されてエッチン
グ処理が施された後、処理後の基板Ｗが基板導出口１５
を介して次工程に導出されるようになっている。

【００１９】上記搬送機構１６は、ローラコンベアであ
って、搬送方向に並列に軸支される搬送ローラ１８…
と、モータを駆動源としてこれらの搬送ローラ１８…を
同期して回転させる図外の駆動機構とを備えており、上
記基板導入口１４を介して導入される基板Ｗを受取り、
この基板Ｗを搬送ローラ１８…で支持しながら搬送する
ように構成されている。

【００２０】上記搬送ローラ１８は、図２に示すよう
に、水平面に対して角度θだけ傾斜した状態で処理槽１
２の側壁間に回転自在に支持されるローラ軸２０を有し
ており、このローラ軸２０の中央部に中央ローラ２２を
備えるともに、両端部分に一対の側部ローラ２４をそれ
ぞれ備えた部分支持型のローラ構造を有している。各ロ
ーラ２２，２４には、ゴム等の柔軟性材料からなる緩衝
材としてのＯリング２６がそれぞれ外嵌装着されるとと
もに、各側部ローラ２４には、その外方側部にそれぞれ
鍔部２４ａが一体に形成されている。そして、基板Ｗの
搬送の際には、各ローラ２２，２４によって基板Ｗを裏
面から支持するとともに、搬送ローラ１８の傾斜方向に
おける下位側（図２では左側）の鍔部２４ａにより基板
Ｗの滑落を阻止しながら基板Ｗを傾斜姿勢で搬送するよ
うになっている。

【００２１】なお、基板Ｗの傾斜角度、つまり上記ロー
ラ軸２０の傾斜角度θは、当実施形態では、エッチング
処理の均一性が良好となる一態様として、５°〜２０°
の範囲内で設定されている。

【００２２】上記エッチング液供給手段としては、後述
の基板処理位置に位置決めされた基板Ｗの傾斜方向にお
ける上位側の端部上方に配置されるスリットノズル３０
（第１の処理液供給手段）と、このスリットノズル３０
よりも下位側において基板Ｗに対向配置される多数のシ
ャワーノズル４０（第２の処理液供給手段）とが配設さ
れている。

【００２３】上記スリットノズル３０は、フレーム３２
を介して処理槽１２の側壁に固定されているとともに、
液供給管３４を介して図外のエッチング液貯留用のタン
クに接続されている。このスリットノズル３０には、基
板Ｗの搬送方向（以下、単に搬送方向という）に延びる
スリット状の吐出口３０ａが形成されており、上記液供
給管３４に介設された例えばバルブ手段の操作に応じて
この吐出口３０ａからエッチング液を吐出して基板表面
に供給するようになっている。なお、ノズル３０の吐出
口３０ａは、基板処理位置に基板Ｗが位置決めされた状
態で、基板Ｗの傾斜方向における上位側の端部の全体に
わたってエッチング液を供給し得るように形成されてい
る。

【００２４】一方、シャワーノズル４０は、図１に示す
ように、搬送機構１６の上方に配設されたサージタンク
３６に設けられており、図示の例では２つのサージタン
ク３６が配設され、これらサージタンク３６にそれぞれ
複数のシャワーノズル４０が設けられている。

【００２５】各サージタンク３６は、搬送方向に延びる
円筒状のタンクで、図２に示すように、基板Ｗの傾斜方
向に一定の間隔で、かつ、搬送機構１６に支持された基
板Ｗに対して一定の距離を有して互いに平行な状態で並
べて配置され、それぞれ支持軸３８を介して処理槽１２
の側板間に支持されている。各サージタンク３６には、
それぞれ液供給管４２が接続されており、この液供給管
４２を介して各サージタンク３６が図外のエッチング液
貯留用のタンクに接続されている。

【００２６】上記シャワーノズル４０は、多数の液吐出
孔を備え、円錐状にエッチング液を噴出する、いわゆる
円錐状のシャワーノズルで、基板Ｗに対向して搬送方向
に一定の間隔で並べて設けられている。そして、液供給
管４２に介設された例えばバルブ手段の操作に応じてエ
ッチング液を噴出し、これにより基板Ｗにエッチング液
を吹き付けるようになっている。

【００２７】なお、各シャワーノズル４０は、図３に示
すように、基板Ｗに下ろした垂線ｇの方向に向かって指
向しており、基板Ｗの所定の領域にエッチング液を吹き
付けるようになっている。当実施形態では、エッチング
処理の均一性が良好となる一態様として、基板Ｗの傾斜
方向における上位側の端部から３０％〜４０％の位置、
すなわち基板Ｗの幅方向寸法（図２で左右方向寸法）の
うち基板Ｗの傾斜方向における上位側（図２では左側）
から３０％〜４０％の位置よりも下位側の部分に各シャ
ワーノズル４０によりエッチング液を吹き付けるように
なっている。

【００２８】以上のように構成されたエッチング装置１
０においては、まず、前工程での処理を終えた基板Ｗが
基板導入口１４を介して処理槽１２内に導入されつつ搬
送機構１６によって搬送される。そして、基板Ｗの先端
が所定の位置に達すると搬送機構１６が停止され、これ
により基板Ｗが処理槽１２内の所定の基板処理位置に位
置決めされる。

【００２９】基板Ｗが位置決めされると、液供給管３
４，４２の各バルブ手段が開かれることにより各３０，
４０から基板Ｗの表面にエッチング液の供給が開始され
る。この際、スリットノズル３０から基板Ｗにエッチン
グ液が供給されると、上述のように基板Ｗが傾斜姿勢に
保持されているため、エッチング液は基板Ｗの傾斜方向
における上位側の端部から基板Ｗに沿って流れて下位側
の端部から基板外に流下する。そして、このようにエッ
チング液が基板Ｗに沿って流れる最中にエッチング液が
基板表面に作用して基板Ｗにエッチング処理が施され、
処理に供されたエッチング液とこれによる溶解物質とが
一体に基板外に流下することとなる。

【００３０】こうして所定の時間だけエッチング液が供
給されると、液供給管３４，４２の各バルブ手段が閉じ
られてエッチング液の供給が停止される。そして、上記
搬送機構１６が再度駆動されて処理後の基板Ｗが上記基
板導出口１５を介して次工程、当実施形態では純水によ
る水洗工程へと搬出される。

【００３１】以上のようなエッチング装置１０によれ
ば、傾斜姿勢に保持した基板Ｗに沿ってエッチング液を
流下させながらエッチング処理を行うため、エッチング
液が基板上で滞留することが一切なく、エッチング液の
置換性が著しく向上する。従って、基板表面全体に対し
て均一にエッチング液を作用させつつ速やかに基板外に
エッチング液を流出させることができ、これにより基板
表面全体に均一にエッチング処理を施すことができる。

【００３２】しかも、スリットノズル３０から基板上に
供給したエッチング液を基板Ｗの傾斜方向における上位
側の端部から流下させるだけでなく、スリットノズル３
０の下位側にシャワーノズル４０を配置してエッチング
液を基板Ｗに吹き付けるようにしているため、エッチン
グ処理の均一性をより高いレベルで達成することができ
るという特徴がある。すなわち、従来技術でも説明した
ように、基板Ｗに沿ってエッチング液を流下させるだけ
では、基板Ｗの上位側のエッチング液に比べて下位側の
エッチング液の活性度が低くなる、つまり、基板Ｗの下
位側ほどエッチング液が劣化するため、基板Ｗの上位側
に比べて下位側の処理の進行が遅くなる。そのため、こ
れがエッチング処理の均一性を高める上でのマイナス要
素となる。しかし、上記エッチング装置１０のように、
スリットノズル３０の下位側においてシャワーノズル４
０によって基板Ｗにエッチング液を吹き付けるようにす
れば、基板Ｗに沿って流下する劣化したエッチング液に
活性度の高いエッチング液が供給されることとなり、基
板Ｗの下位側での処理液の劣化が効果的に抑えられる。
従って、エッチング処理が基板全体でより均一に進行す
ることとなり、これによりエッチング処理をより均一に
行うことができる。

【００３３】ところで、上記のようにシャワーノズル４
０により基板Ｗにエッチング液を吹き付ける場合には、
各シャワーノズル４０によるエッチング液の吹き付け領
域の境目部分に処理ムラが生じることが懸念されるとこ
ろであるが、シャワーノズル４０からのエッチング液
は、スリットノズル３０から基板上に供給されて流下す
るエッチング液の表面に吹き付けられるため、直接基板
Ｗに吹き付けられることがない。そのため、シャワーノ
ズルのみによって基板にエッチング液を供給する場合の
ように処理ムラが生じることがない。

【００３４】従って、上記エッチング装置１０によれ
ば、従来のこの種の装置に比べると、基板Ｗに対して極
めて高いレベルでエッチング処理を均一に施すことがで
きる。

【００３５】なお、上記エッチング装置１０は、本発明
の基板処理装置に係るエッチング装置の一例であって、
その具体的な構成は、本発明の要旨を逸脱しない範囲で
適宜変更可能である。

【００３６】例えば、上記エッチング装置１０では、ス
リットノズル３０によるエッチング液の供給方向が固定
されているが、スリットノズル３０によるエッチング液
の供給方向を基板Ｗの傾斜方向に可変とする可変手段
（第１の可変手段）を設けるようにしてもよい。この場
合、例えば、支持軸を介してスリットノズル３０を揺動
可能に軸支するとともに、この支持軸を減速機を介して
駆動用のモータに連結し、このモータの正逆回転駆動に
応じてスリットノズル３０を揺動させるように上記可変
手段を構成することができる。このような可変手段を設
けて、処理中にスリットノズル３０によるエッチング液
の供給方向を変化させるようにすれば、エッチング液の
供給方向を固定的に設けることによる弊害、すなわち、
基板Ｗの特定個所に活性度の高いエッチング液が継続的
に供給されて、当該個所での処理が他の部分に比べて極
端に速く進行して処理ムラを生じさせるといった事態の
発生を効果的に緩和できる。従って、スリットノズル３
０によるエッチング液の供給方向を可変とすることでエ
ッチング処理の均一性をより高めることが可能となる。

【００３７】同様に、各シャワーノズル４０によるエッ
チング液の供給方向を基板Ｗの傾斜方向に可変とする可
変手段（第２の可変手段）を設けるようにしてもよい。
この場合、例えば、上記支持軸３８を処理槽１２に対し
て回転可能に支持し、基板Ｗの傾斜方向に延びる駆動軸
を設け、この駆動軸にウォームギア及びウォームホイー
ルを介して各支持軸４２を連結するとともに、上記駆動
軸を減速機を介して駆動用のモータに接続することによ
って上記可変手段を構成することができる。これによれ
ば、モータの正逆回転駆動に応じてサージタンク３６が
正逆回転し、その結果、シャワーノズル４０によるエッ
チング液の供給方向が変化することとなる。このような
可変手段を設けて、処理中に各シャワーノズル４０によ
るエッチング液の供給方向を変化させるようにすれば、
エッチング液の吹き付け領域を拡大することが可能とな
るため、少ない数のシャワーノズル４０でより広い領域
にエッチング液を吹き付けることが可能となる。なお、
シャワーノズル４０については、基板Ｗの傾斜方向に限
らず、基板Ｗの搬送方向等、種々の方向にエッチング液
の供給方向を変更し得るように可変手段を構成するよう
にしてもよく、また、サージタンク３６の本数も、この
実施形態では２本設けているが、基板Ｗの大きさ等に応
じてその本数を増減することもできる。また、上記第１
及び第２の各可変手段は、いずれも基板Ｗに対してノズ
ル３０，４０を揺動させるように構成しているが、例え
ば、ノズル３０，４０を固定し、基板Ｗを移動させ得る
ように可変手段を構成し、これにより基板Ｗに対するエ
ッチング液の供給方向を変化させるようにしてもよい。

【００３８】さらに、上記の実施形態では、基板Ｗの傾
斜角度θを５°〜２０°の範囲内で設定するようにして
いるが、基板Ｗの具体的な傾斜角度θは、この角度に拘
らず基板Ｗの大きさやエッチング液の性状等の種々の条
件を考慮して、基板Ｗのエッチング処理がより均一に行
えるように適宜設定するようにすればよい。また、シャ
ワーノズル４０によるエッチング液の供給方向も、上記
実施形態のように基板Ｗへの垂線方向である必要はな
く、基板Ｗのエッチング処理がより均一に行えるように
適宜設定するようにすればよい。但し、シャワーノズル
４０によるエッチング液の供給方向が基板Ｗの垂線方向
よりも基板Ｗの傾斜方向における上位側に指向する場合
には、スリットノズル３０から供給されて基板Ｗに沿っ
て流下するエッチング液が、シャワーノズル４０からの
エッチング液の液圧により基板Ｗの上位側に向かって押
し上げられる、いわゆる突き上げ現象が発生し、その結
果、エッチング液の速やかな流下が妨げられてエッチン
グ液の置換性が阻害される場合がある。従って、シャワ
ーノズル４０によるエッチング液の供給方向は、基板Ｗ
への垂線方向又は垂線方向よりも基板Ｗの下位側に向け
てエッチング液を吹き付けるようにシャワーノズル４０
を設ける（例えば、図３の破線に示す）のが望ましい。

【００３９】さらに、上記実施形態では、基板Ｗの傾斜
方向における上位側の端部から３０％〜４０％の位置よ
りも下位側の部分にシャワーノズル４０によってエッチ
ング液を吹き付けるようにしているが、シャワーノズル
４０によるエッチング液の吹き付け領域も、基板Ｗの具
体的な傾斜角度θやエッチング液の性状等を考慮して基
板Ｗのエッチング処理がより均一に行えるように適宜設
定するようにすればよい。

【００４０】また、上記エッチング装置１０による処理
時に、２つのサージタンク３６のうち下位側のサージタ
ンク３６の各シャワーノズル４０によって基板Ｗに吹き
付けるエッチング液の量が上位側のサージタンク３６の
各シャワーノズル４０による吹き付け量よりも多くなる
ように、単位時間当たりのエッチング液の吹き付け量を
制御するようにしてもよい。基板Ｗに沿って流下する処
理液が下位側程、劣化する傾向にあることを考慮すれ
ば、このようにエッチング液の吹き付け量を制御するこ
とにより、基板Ｗのエッチング処理をより均一に行うこ
とが可能となる。

【００４１】なお、上記実施形態では説明を省略してい
るが、基板Ｗは、基板製造の全工程において傾斜姿勢に
保持する必要はなく、少なくともエッチング工程におい
て基板Ｗを傾斜姿勢に保持するようにすればよい。従っ
て、エッチング処理以外の処理工程において基板Ｗを水
平姿勢で処理する場合には、エッチング装置１０への導
入直前に基板Ｗを傾けてエッチング装置１０に導入し、
エッチング装置１０からの導出直後に基板Ｗを水平姿勢
に戻すようにすればよい。また、上記実施形態では、基
板Ｗを基板処理位置に固定した状態でエッチング液を供
給するようにしているが、例えば、基板Ｗを次工程に搬
送しながらエッチング液を供給するようにしてもよい。

【００４２】また、上記実施形態は、本願発明をエッチ
ング装置１０に適用した例であるが、本願発明は、この
ようなエッチング装置以外にも、例えば、ネガレジスト
現像等の現像処理の装置にも適用することができる。

【００４３】

【発明の効果】上記課題を解決するために、本発明は、
傾斜姿勢に保持された基板に対して処理液を供給して所
定の処理を施す基板処理装置において、基板の傾斜方向
における上位側の端部に処理液を供給して上記基板表面
上で処理液を上記傾斜方向に流下させる第１の処理液供
給手段を設けるとともに、この第１の処理液供給手段よ
りも下位側に、基板に処理液を吹き付ける第２の処理液
供給手段を設け、これにより基板全体に処理液を作用さ
せつつ速やかに基板外に流出させるようにするととも
に、基板の傾斜方向における下位側での処理液の劣化
（活性度の低下）を効果的に抑えるようにしたので、従
来のこの種の装置と比較すると、基板に対してより均一
に処理を施すことができる。

【００４４】この装置において、第１の処理液供給手段
として、基板の傾斜方向と直交し、かつ基板表面と平行
に延びるスリット上の液供給口を有したスリットノズル
を設け、また、第２の処理液供給手段として、基板に対
向する多数の液供給口を有したシャワーノズルを設ける
ようにすれば、基板の傾斜方向における上位側の端部か
ら均一に処理液を流下させることができ、また、処理液
の吹き付けに際し、基板の広い範囲にわたって適切に処
理液を吹き付けることが可能となる。

【００４５】また、上記第１の処理液供給手段による処
理液の供給方向を基板の傾斜方向に可変とする第１の可
変手段を設けるようにすれば、第１の処理液供給手段か
ら基板の特定部分に活性度の高い処理液が継続して供給
されることに起因する処理ムラの発生を効果的に抑える
ことができる。

【００４６】さらに、上記第２の処理液供給手段による
処理液の供給方向を可変とする第２の可変手段を設ける
ようにすれば、合理的な構成で基板のより広範囲にわた
って処理液を吹き付けることができる。

【００４７】なお、上記基板処理装置は、基板に対して
エッチング液又はネガレジスト用現像液を供給するよう
に構成したエッチング装置又はネガレジスト現像装置と
して適用すると良好な処理を実現でき、特に有用であ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る基板処理装置であるエッチング装
置を示す斜視図である。

【図２】エッチング装置の内部構造を示す側面図であ
る。

【図３】シャワーノズルによるエッチング液の吹き付け
方向を説明する図である。

【符号の説明】

１０エッチング装置１２処理槽１４基板導入口１５基板導出口１６搬送機構１８搬送ローラ２２中央ローラ２４側部ローラ３４，４２液供給管３０スリットノズル３０ａ吐出口３６サージタンク４０シャワーノズルＷ基板

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】水平面に対して所定の角度をなす傾斜姿
勢に保持された基板に対して処理液を供給して所定の処
理を施す基板処理装置において、基板の傾斜方向におけ
る上位側の端部に処理液を供給して上記基板表面上で処
理液を上記傾斜方向に流下させる第１の処理液供給手段
を備えるとともに、この第１の処理液供給手段よりも基
板の傾斜方向における下位側に配置されて、基板に処理
液を吹き付ける第２の処理液供給手段を備えていること
を特徴とする基板処理装置。
【請求項２】上記第１の処理液供給手段として、基板
の傾斜方向と直交し、かつ基板表面と平行に延びるスリ
ット状の液供給口を有したスリットノズルを備える一
方、上記第２の処理液供給手段として、基板に対向する
多数の液供給口を有したシャワーノズルを備えているこ
とを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】上記第１の処理液供給手段による処理液
の供給方向を基板の傾斜方向に可変とする第１の可変手
段を備えていることを特徴とする請求項１又は２記載の
基板処理装置。
【請求項４】上記第２の処理液供給手段による処理液
の供給方向を可変とする第２の可変手段を備えているこ
とを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の基板
処理装置。
【請求項５】上記各処理液供給手段は、基板に対して
エッチング液又はネガレジスト用現像液を供給するもの
であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記
載の基板処理装置。