JP5908078B2 - 薬液処理装置 - Google Patents
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Description
被処理体が搬入される薬液処理槽と、
添加液を貯留する添加液タンクと、
上記薬液処理槽の内部に設けられ、上記添加液の成分を含む薬液を放出して該薬液を上記被処理体の表面に上方から供給する薬液供給手段と、
上記薬液供給手段の下方に設けられ、上記薬液供給手段から被処理体に供給された薬液を貯留する薬液タンクと、
上記薬液タンクと上記薬液供給手段とを接続して上記薬液タンクの薬液を上記薬液供給手段に送る第1配管と、
上記添加液タンクと上記第1配管とを接続して上記添加液タンクの添加液を上記第1配管に流れる薬液に補給する第2配管と、
上記薬液供給手段により薬液が放出される範囲で上記被処理体の存在を検知する検知手段とを備え、
上記検知手段によって上記被処理体の存在が検出されないときに上記第1配管に流れる薬液に上記添加液を補給し、上記検知手段によって上記被処理体の存在が検出されたときに上記第1配管を流れる薬液に上記添加液を補給することを停止する
ことを特徴とする。
洗浄液を貯留する洗浄液タンクをさらに備え、
上記洗浄液タンクは、上記第2配管に接続されて上記第1配管に上記洗浄液を送る
ことを特徴とする。
この参考例では、薬液処理装置の一例として、エッチング処理装置Sについて説明する。
図1は、エッチング処理装置Sの概略構成を示す模式図である。
次に、上記エッチング処理装置Sを用いてアクティブマトリクス基板を作製する際のエッチング処理方法について説明する。
この参考例によると、薬液タンク12からシャワー配管16を介してシャワーノズル14にエッチング液Lを送る過程でシャワー配管16を流れるエッチング液Lに添加液L2を補給するので、エッチング液L中に添加液L2を素早く且つ十分に混合させることができる。これにより、簡単な装置構成で、エッチング処理による不良発生を抑制すると共に、同処理の処理効率を改善することができる。その結果、被処理基板Wの仕損を低減して、当該基板Wが構成する表示パネルの低コスト化を図ると共に歩留りを向上させることができる。
図5は、この実施形態1に係るエッチング処理槽10内部の構成を示す模式図である。なお、以降の各実施形態では、一部の構成が上記参考例と異なる他はエッチング処理装置Sについて上記参考例と同様に構成されているので、構成の異なる部分についてのみ説明し、同一の構成箇所は図1〜図4に基づく上記参考例の説明に譲ることにして、その詳細な説明を省略する。
この実施形態1によると、エッチング処理槽10に被処理基板Wが存在しない場合にだけ選択的にシャワー配管16に添加液L2を送ってエッチング液Lに添加液Lを補給するので、添加液L2が補給されてすぐの薬液Lは、被処理基板Wの表面に供給されることがなく、一旦は薬液タンクLに回収された後に、再びシャワー配管16を介して各シャワーノズル14に送られ、その過程で、エッチング液Lとこれに補給された添加液L2とが十分に混合される。したがって、エッチング液Lと添加液L2とが混合されにくいものであっても、エッチング処理による不良発生を抑制することができる。
この実施形態2に係るエッチング処理装置Sは、上記参考例の構成に加えて、洗浄液を貯留する洗浄液タンク(不図示)をさらに備えている。この洗浄液タンクは、添加液タンク25に代えて、又は添加液配管26に接続可能に構成されている。洗浄液としては、例えば、純水やイオン水、洗剤を含む溶液、エッチング液L成分の結晶を溶解する酸系の溶解液などが用いられる。
この実施形態2によると、添加液配管26が洗浄液タンクから洗浄液をシャワー配管16に送る配管も兼ねるので、エッチング処理装置Sの洗浄を行うための構成を簡略化することができる。
L エッチング液(薬液)
L1 主液
L2 添加液
W 被処理基板(被処理体)
10 エッチング処理槽(薬液処理槽)
10a 搬入口
10b 搬出口
11 貯留槽
11a 連通路
12 薬液タンク
13 エッチングシャワー
14 シャワーノズル(薬液供給手段)
16 シャワー配管(第1配管)
16a 主管
16b 分岐管
17,22,27 送液ポンプ
18,23,28 流量調節バルブ
19,24,29 流量計
20 主液タンク
21 主液配管
25 添加液タンク
26 添加液配管(第2配管)
30 洗浄槽
35 乾燥槽
40 搬送ライン
41 回転軸
42 搬送コロ
43 コロユニット
50 搬入検知センサ(検知手段)
52 搬出検知センサ(検知手段)
100 基板搬送方向
Claims (2)
- 被処理体が搬入される薬液処理槽と、
添加液を貯留する添加液タンクと、
上記薬液処理槽の内部に設けられ、上記添加液の成分を含む薬液を放出して該薬液を上記被処理体の表面に上方から供給する薬液供給手段と、
上記薬液供給手段の下方に設けられ、上記薬液供給手段から被処理体に供給された薬液を貯留する薬液タンクと、
上記薬液タンクと上記薬液供給手段とを接続して上記薬液タンクの薬液を上記薬液供給手段に送る第1配管と、
上記添加液タンクと上記第1配管とを接続して上記添加液タンクの添加液を上記第1配管に流れる薬液に補給する第2配管と、
上記薬液供給手段により薬液が放出される範囲で上記被処理体の存在を検知する検知手段とを備え、
上記検知手段によって上記被処理体の存在が検出されないときに上記第1配管に流れる薬液に上記添加液を補給し、上記検知手段によって上記被処理体の存在が検出されたときに上記第1配管を流れる薬液に上記添加液を補給することを停止する
ことを特徴とする薬液処理装置。 - 請求項1に記載の薬液処理装置において、
洗浄液を貯留する洗浄液タンクをさらに備え、
上記洗浄液タンクは、上記第2配管に接続されて上記第1配管に上記洗浄液を送る
ことを特徴とする薬液処理装置。
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