KR20110080335A - 세정 장치 - Google Patents

Abstract

세정 장치가 제공된다. 본 발명의 실시예에 따른 세정 장치는 공정 챔버, 공정 챔버 내에 형성되며, 기판을 지지하며 이송하는 이송부, 기판을 향하여 세정액을 분사하는 노즐, 세정액을 저장하는 세정액 탱크 및 세정액 탱그로부터 노즐에 세정액을 공급하는 배관을 포함하는 세정 장치에 있어서, 배관 및 세정액 탱크는 SUS 재질로 형성되고 접지된다.

Description

세정 장치 {Cleaner}

본 발명은 세정 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 평판 디스플레이를 제조하는 공정 중에서 사용되는 세정 장치에 관한 것이다.

최근 들어, 정보 처리 기기는 다양한 형태의 기능과 더욱 빨라진 정보 처리 속도를 갖도록 급속하게 발전하고 있다. 이러한 정보 처리 장치는 정보를 표시하기 위해 디스플레이 장치를 가진다. 지금까지는 디스플레이 장치로 브라운관(cathode ray tube) 모니터가 주로 사용되었으나, 최근에는 반도체 기술의 급속한 발전에 따라 가볍고 공간을 작게 차지하는 평판 디스플레이 장치의 사용이 급격히 증대하고 있다. 평판 디스플레이로는 다양한 종류가 있으며, 이들 중 전력 소모와 부피가 작고 저전압 구동형인 액정 디스플레이(Liquid Crystal Display)가 널리 사용되고 있다.

이러한 액정 디스플레이를 제조하기 위해 다양한 공정들이 수행된다. 이러한 공정으로는 챔버 또는 확산로 등의 기판 처리 장치에서 진행되는 식각, 세정, 건조 또는 열처리 공정 등이 있다.

전술한 공정들은 일정 순서대로 진행이 되는데, 각 공정을 수행하는 공정 장치가 일열로 배열되어 기판에 대하여 공정 처리가 수행되는 인라인 타입의 기판 처리 장치가 널리 이용되고 있다.

전술한 기판 처지 장치 중 세정 장치에 있어서, 정전기 발생 문제가 최근 이슈가 되고 있다. 세정 과정에서 발생하는 정전기가 기판의 불량을 초래하기 때문이다.

본 발명은 상기한 문제점을 개선하기 위해 고안된 것으로, 본 발명이 이루고자 하는 목적은 평판디스플레이 장치의 세정 장치에 있어서 내부에 정전기가 발생하는 것을 방지하는 세정 장치를 제공하는 것이다.

본 발명의 목적들은 이상에서 언급한 목적들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 실시예에 따른 발명의 명칭은 공정 챔버; 상기 공정 챔버 내에 형성되며, 기판을 지지하며 이송하는 이송부; 상기 기판을 향하여 세정액을 분사하는 노즐; 상기 세정액을 저장하는 세정액 탱크; 및 상기 세정액 탱그로부터 상기 노즐에 세정액을 공급하는 배관을 포함하는 세정 장치에 있어서, 상기 배관 및 상기 세정액 탱크는 SUS 재질로 형성된다.

상기한 바와 같은 본 발명의 세정 장치에 따르면 노즐에 연결되는 배관, 세정액 탱크, 액절 나이프의 재질을 SUS로 구성하고 접지시킴으로써 세정 장치의 내부 구조에 의해 정전기가 발생하는 것을 방지할 수가 있다는 장점이 있다.

도 1은 인라인 형태의 평판 디스플레이 제조용 장비의 개략적인 구성을 도시한 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 세정 장치를 도시한 도면이다.

실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다

이하, 본 발명의 실시예들에 의하여 세정 장치를 설명하기 위한 도면들을 참고하여 본 발명에 대해 설명하도록 한다.

도 1은 인라인 형태의 평판 디스플레이 제조용 장비의 개략적인 구성을 도시한 도면이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 세정 장치를 도시한 도면이다.

도 1을 참조하면, 평판 디스플레이 제조용 장비는 로딩부(100), 버퍼부(200), 식각부(300), 세정부(400), 건조부(500) 및 언로딩부(600)를 포함한다.

구체적으로 설명하면, 로딩부(100)는 기판(S)을 반송하기 위하여 대기하는 공간으로 기판(S)을 이송하기 위한 반송 롤러가 형성된다.

버퍼부(200)는 로딩부(100)와 식각부(300) 사이에 형성되며, 식각 공정의 안정성을 위한 공간이다.

버퍼부(200)와 세정부(400) 사이에 형성된 식각부(300)는 패턴을 형성하기 위하여 기판(S) 상의 노출된 증착막을 식각한다. 여기서는 패턴 형성을 위한 식각 공정을 예로 들었으나 이에 제한되는 것은 아니다. 포토레지스트를 제거하기 위한 스트립 공정일 수도 있다. 식각부(300)에서는 증착막이 형성된 기판(S)을 식각액에 딥핑(dipping)시키거나 또는 기판(S) 상에 식각액을 분사시켜 식각 공정을 진행할 수 있다.

식각부(300)와 건조부(500) 사이에 형성된 세정부(400)는 기판(S)으로부터 식각액을 제거하기 위해 기판(S)을 세정시킨다. 즉, 식각부(300)에서 식각된 기판(S)이 세정부(400)로 이송되면 세정부(400)는 식각된 기판(S)에 잔류하는 식각액을 제거하기 위하여 초순수(De-Ionized Water)를 분사한다. 그러므로, 세정부(400)에는 초순수를 분사하는 수단의 노즐이 형성될 수 있다.

그리고, 세정부(400)와 언로딩부(600) 사이에 형성된 건조부(500)는 세정된 기판(S)을 건조시킨다. 건조부(500)에도 세정된 기판(S)에 에어를 공급하여 건조시킬 수 있는 건조 수단이 형성된다. 건조 수단은 에어 나이프일 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다.

건조부(500) 옆에 위치한 언로딩부(600)는 식각이 완료된 기판(S)을 후속 공정으로 이송하는 공간이다.

본 발명의 일 실시예에서는 평판 디스플레이 제조용 장비를 전술한 바와 같이 예로 들었으나 이에 제한되는 것은 아니다. 장비의 구성에 따라 추가되는 공정 챔버가 있을 수 있고 또는 그 반대의 경우도 있을 수 있다. 또는, 언급한 공정 챔버가 아닌 다른 공정을 수행하는 공정 챔버가 있을 수도 있다.

도 2는 도 1과 같은 인라인 타입의 평판 디스플레이 제조 장비에 있어서 세정 장치를 도시한다.

본 발명의 일 실시예에 따른 세정 장치는 공정 챔버(410), 이송부(420), 노즐(430), 세정액 탱크(440), 및 배관(450)을 포함하여 구성할 수가 있다. 또한, 액절 나이프(460)를 더 포함할 수가 있다.

공정 챔버(410)는 세정 공정이 이루어지는 공간을 제공한다. 인라인 타입의 장비는 기판(S)이 일렬로 이송되면서 공정이 이루어지기 때문에, 공정 챔버(410)의 일측과 타측에는 각각 기판(S)이 유입되고 유출되는 입구(412)와 출구(414)가 형성될 수가 있다.

이송부(420)는 공정 챔버(410)의 내부에서 기판(S)을 지지하며 이송시킬 수가 있다. 이송부(420)는 샤프트 및 이송 롤러를 포함하여 구성될 수가 있는데, 기판(S)의 이송 방향을 따라 일정한 간격으로 복수의 샤프트가 형성되고, 복수의 샤프트 각각에 복수의 이송 롤러가 형성될 수가 있다. 이송 롤러에 기판(S)은 지지되고, 이송 롤러의 회전에 의해 일방향으로 기판(S)을 이송시킬 수가 있다. 이송 롤러는 기판(S)의 상부에도 형성될 수 있는데 상하부에서 기판(S)이 이송 롤러에 지지되도록 하여 기판(S)의 이탈을 방지하도록 할 수 있다.

노즐(430)은 기판(S)을 향하여 세정액을 분사한다. 노즐(430)은 도시되어 있는 것과 같이 기판(S)의 상하부로 세정액을 분사시킬 수가 있도록 기판(S)의 상부 및 기판(S)의 하부에 각각 형성될 수가 있다.

세정액 탱크(440)는 세정액인 초순수를 저장하는 탱크이다.

배관(450)은 세정액 탱크(440)와 노즐(430) 사이에 세정책 탱크(440)에 저장된 약액을 노즐(430)에 공급하도록 하는 연결 부재이다.

본 발명의 일 실시예에 따른 세정 장치에 있어서, 배관(450)과 세정액 탱크(440)는 SUS 재질로 구성될 수가 있고, 각각은 접지되도록 할 수가 있다.

종래에 고압, 이류체 노즐에 연결되는 배관은 PFA 배관을 사용하였는데, 본 발명에서는 배관(450)의 재질을 SUS로 구성하고 접지시킴으로써 세정 공정 중에 배관(450)을 통해 정전기가 발생하는 것을 방지할 수가 있다.

또한, 종래의 세정액 탱크에는 정전기를 방지하는 별도의 구조가 형성되어 있지 않았다. 본 발명의 일 실시예에 따른 세정 장치는 세정액 탱크(440)를 SUS 재질로 구성하고 접지시킴으로써 정전기가 발생하는 것을 방지할 수가 있다.

본 발명의 일 실시예에 따른 세정 장치는 액절 나이프(460)를 더 포함할 수가 있다. 액절 나이프(460)는 에어를 분사시키며 이웃하는 공정 챔버(410) 사이에 약액이 유입되는 것을 방지하는 역할을 한다. 도 1과 같이 세정부(400)와 식각부(300)가 이웃하는 경우 식각부(300)에 사용되는 식각액이 세정부(400)로 유입되는 것을 방지하고, 또한 세정부(400)에서 사용되는 세정액이 식각부(300)로 유입되는 것을 방지하는 역할을 한다.

본 발명에서 액절 나이프(460)도 SUS 재질로 형성되고 접지될 수가 있다. 종래의 액절 나이프는 PVC를 사용하였는데, 본 발명에서와 같이 SUS 재질로 구성하고 접지시킴으로써 정전기가 발생하는 것을 방지할 수가 있다.

본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구의 범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구의 범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.

410: 공정 챔버
420: 이송부
430: 노즐
440: 세정액 탱크
450: 배관
460: 액절 나이프

Claims (2)

1. 공정 챔버;
   상기 공정 챔버 내에 형성되며, 기판을 지지하며 이송하는 이송부;
   상기 기판을 향하여 세정액을 분사하는 노즐;
   상기 세정액을 저장하는 세정액 탱크; 및
   상기 세정액 탱그로부터 상기 노즐에 세정액을 공급하는 배관을 포함하는 세정 장치에 있어서,
   상기 배관 및 상기 세정액 탱크는 SUS 재질로 형성되고 접지되는 세정 장치.
2. 제 1 항에 있어서,
   상기 공정 챔버에서 상기 기판이 출입하는 입구 또는 출구에 형성되어, 이웃하는 공정 챔버 사이에 약액의 유입을 방지하도록 에어를 분사하는 액절 나이프를 더 포함하는데,
   상기 액절 나이프는 SUS재질로 형성되고 접지되는 세정 장치.

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