KR100767440B1 - 평판 디스플레이 제조용 장비 - Google Patents

평판 디스플레이 제조용 장비 Download PDF

Info

Publication number
KR100767440B1
KR100767440B1 KR1020060080238A KR20060080238A KR100767440B1 KR 100767440 B1 KR100767440 B1 KR 100767440B1 KR 1020060080238 A KR1020060080238 A KR 1020060080238A KR 20060080238 A KR20060080238 A KR 20060080238A KR 100767440 B1 KR100767440 B1 KR 100767440B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
substrate processing
processing liquid
pipe
processing tank
Prior art date
Application number
KR1020060080238A
Other languages
English (en)
Inventor
소병렬
Original Assignee
세메스 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 세메스 주식회사 filed Critical 세메스 주식회사
Priority to KR1020060080238A priority Critical patent/KR100767440B1/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100767440B1 publication Critical patent/KR100767440B1/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/10Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
    • B08B3/102Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration with means for agitating the liquid

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

본 발명은 평판 디스플레이 제조용 장비가 제공된다. 평판 디스플레이 제조용 장비는 기판 처리액이 저수되어 기판을 수평 상태로 침강시키는 기판 처리조, 기판 처리조 및 기판의 배치 방향과 평행한 방향으로 구비되어 기판 처리액을 기판의 배치 방향과 평행한 방향으로 분출시키는 공급부를 포함한다.
기판 처리조, 공급부, 이탈

Description

평판 디스플레이 제조용 장비{Apparatus for manufacturing flat panel display}
도 1은 평판 디스플레이 제조용 장비의 개략적인 사시도이다.
도 2a는 도 1에 따른 본 발명의 일 실시예에 따른 공급부의 사시도이다.
도 2b는 도 2a에 따른 공급부가 놓인 기판 처리조의 평면도이다.
도 3은 도 1의 A-A’에 평판 디스플레이 제조용 장비의 단면도이다.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*
100: 기판 처리조 110: 롤러
200: 공급부 202: 파이프
204: 유로
본 발명은 평판 디스플레이 제조용 장비에 관한 것으로 더욱 상세하게는, 기판 처리액 공급시 기판 이탈을 방지하는 평판 디스플레이 제조용 장비에 관한 것이다.
최근 들어, 정보 처리 기기는 다양한 형태의 기능과 더욱 빨라진 정보 처리 속도를 갖도록 급속하게 발전하고 있다. 이러한 정보 처리 장치는 정보를 표시하기 위해 디스플레이 장치를 가진다. 지금까지는 디스플레이 장치로 브라운관(cathode ray tube) 모니터가 주로 사용되었으나, 최근에는 반도체 기술의 급속한 발전에 따라 가볍고 공간을 작게 차지하는 평판 디스플레이 장치의 사용이 급격히 증대하고 있다. 평판 디스플레이로는 다양한 종류가 있으며, 이들 중 전력 소모와 부피가 작고 저전압 구동형인 액정 디스플레이(Liquid Crystal Display)가 널리 사용되고 있다.
이러한 액정 디스플레이를 제조하기 위해 다양한 공정들이 수행된다. 이러한 공정으로는 기판 처리조, 챔버 또는 확산로 등의 기판 처리 장치에서 진행되는 식각, 수세, 건조 또는 열처리 공정 등이 있다. 이 같은 공정들은 기체를 이용하는 건식공정과 액체를 이용하는 습식공정으로 구분되며, 습식공정은 다시 기판에 액체를 분사하는 스프레이 방식과 기판을 용액에 침강시키는 침강 방식으로 구분된다. 이때, 습식공정에 사용되는 액체, 즉 기판 처리액은 화학약품이나 탈이온수 또는 순수 등이 사용된다.
이러한 공정 중 침강 방식의 습식 식각을 하는 공정을 설명하면, 기판 처리조에 기판 처리액을 저수시키면서 기판을 침강시킨다. 여기서, 통상적인 기판 처리액을 공급하는 구조는 기판 처리조의 하부로부터 기판의 수직방향으로 공급되는 구조이다. 즉, 기판 처리조의 소정 영역은 기판 처리조 외부의 공급관과 연결되어 기판 처리액을 공급시 소정 영역의 커버(cover)가 열리면서 공급된다. 하지만, 하부로부터 공급되는 기판 처리액은 대형 기판에 대하여 항력(抗力)을 발생시킨다. 따 라서, 대형 기판의 중심부가 휘어지거나 기판이 정위치로부터 이탈될 수 있다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 기판 처리액 공급시 기판 이탈을 방지하는 평판 디스플레이 제조용 장비를 제공하는데 있다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 과제에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위하여 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 디스플레이 제조용 장비는 기판 처리액이 저수되어 기판을 수평 상태로 침강시키는 기판 처리조, 기판 처리조 및 기판의 배치 방향과 평행한 방향으로 구비되어 기판 처리액을 기판의 배치 방향과 평행한 방향으로 분출시키는 공급부를 포함한다.
기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다. 본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 첨부된 도면을 참조하여 보다 상세히 설명한다.
도 1은 평판 디스플레이 제조용 장비의 개략적인 사시도이다.
도 1을 참조하면, 평판 디스플레이 제조용 장비는 기판 처리조(100), 롤러(110) 및 공급부(200)를 포함한다.
보다 구체적으로 설명하면, 기판 처리조(100)는 기판처리액을 저수하는 공간이다.
기판 처리조(100)는 스테인레스 스틸(SUS) 계열의 강철이나 폴리비닐클로라이드와 같이 화학약품에 대해 내구성을 갖는 재질로 구성할 수 있다. 기판 처리조(100)는 기판 처리액의 저수가 가능하도록 도시된 바와 같이 수조 형상으로 형성된다. 도시하지 않았으나 기판 처리조(100)의 일측에는 저수된 기판 처리액을 배수하는 드레인부가 마련된다. 따라서, 저수된 기판 처리액은 드레인부를 통해 배수된다. 이러한 드레인부는 도면에 도시하지 않아도 당업자가 용이하게 이해할 수 있으므로, 그 자세한 설명은 생략한다.
기판 처리조(100)의 내부에는 기판이 기판 처리조(100)의 저면과 수평상태로 투입된다. 이때, 기판 처리조(100)의 내부에는 기판을 지지하면서 이송하는 롤러(110)를 갖는 이송 부재가 구비된다. 즉, 기판은 이송 부재에 의해 수평 상태로 기판 처리조(100)에 투입된다. 설명의 편의상 본 발명의 일 실시예에서는 기판을 용이하게 이송시킬 수 있도록 전술한 바와 같이 다수의 롤러(110)를 갖는 이송부재로 예를 들기로 한다. 이에 제한되는 것은 아니며 기판 처리액에 침강 가능하며 기 판을 이송시킬 수 있는 구성이면 가능하다. 롤러(110)는 다수가 연설되어 있으며, 기판 처리조(100) 외부의 구동부(미도시)에 연결된다. 따라서, 구동부(미도시)에 의해 롤러(110)가 회전하면서 기판을 이송시킬 수 있다.
공급부(200)는 기판 처리액을 기판 처리조(100)내에 공급한다.
공급부(200)는 도시된 바와 같이 기판 처리조(100)의 저면과 평행하도록 기판 처리조(100)의 하부에 설치된다. 그리고, 기판 처리액을 기판 처리조(100)의 저면과 평행한 방향으로 분출한다. 도시하지 않았으나 공급부(200)는 기판 처리조(100) 외부의 탱크에 연결되며 이러한 공급 탱크에 저장된 기판 처리액을 탱크에 설치된 펌프(미도시)에 의해 공급부(200)로 공급된다.
통상적으로 기판 처리조(100) 하부로부터 기판의 배치 방향과 수직 방향으로 기판 처리액이 공급되면, 유체 상태의 기판 처리액으로부터 정지한 기판에 대항하여 수직 항력(抗力)이 발생할 수 있다. 자세히 설명하면, 기판이 롤러(110) 위에 안착되어 있을 때, 기판 처리액이 기판 처리조(100) 하부로부터 공급되어 수직으로 분출될 경우, 기판 처리액의 분출 방향은 기판 배치 방향과 수직의 방향이 된다. 그리하여, 기판의 배치 방향에 대하여 유체의 분출 방향인 수직 방향으로 수직 항력이 발생하게 된다. 수직 항력으로 인하여 기판이 부상(浮上)함으로써 기판의 중앙 부분에 휨(bent) 현상이 발생한다. 기판의 휨 현상이 발생하면 공정 진행시 공정 불량이 발생할 수 있다.
하지만 본 발명의 일 실시예에 의한 공급부(200)는 기판의 배치 방향과 평행한 방향으로 기판 처리액을 분출하도록 구비됨으로써 이러한 기판의 휨 현상을 방 지할 수 있으며, 또한 기판의 이탈을 방지할 수 있다. 본 발명의 일 실시예의 공급부(200)를 도 2a 및 도 2b를 참조하여 보다 자세히 설명하기로 한다.
도 2a는 본 발명의 일 실시예의 공급부(200)의 사시도이다. 도 2b는 공급부(200)가 기판 처리조(100)에 구비된 평면도이다.
도 2a를 참조하면, 공급부(200)는 바(bar) 형상의 파이프(202) 및 파이프(202) 양측의 다수의 유로(204)를 포함한다.
파이프(202)는 기판 처리조(100) 외부에서 기판 처리액을 공급받아 유로(204)로 분출시키는 공급 통로이다. 이러한 파이프(202)는 기판 처리조(100)의 외부에 있는 기판 처리액 탱크(미도시)와 연결된다.
유로(204)는 파이프(202)의 양측에 규칙적인 배열로 형성된 것을 예로 들었으나, 이에 제한되지 않는다. 유로(204)의 배열이 지그재그 (zigzag)형일 수도 있다. 파이프(202)로부터 공급되는 기판 처리액을 다수의 분로(分路) 형태로 분출하는 형태이면 가능하다.
여기서, 본 발명의 일 실시예에서는 공급부(200)의 파이프(202) 직경보다 유로(204)의 직경이 더 작다. 이는 공급 통로인 파이프(202)의 직경보다 분로인 유로(204)의 직경이 작아짐으로써, 일정한 단면적을 흐르던 유체가 단면적이 작은 유로(204)를 통해 분출시 유속이 증가하게 만드는 것이다. 즉, 직경이 큰 파이프(202)에는 유체를 일정한 유속으로 흐르게 하려는 힘이 작용하므로 직경이 상대적으로 작은 유로(204) 통과시는 유속이 증가하게 된다. 이처럼 유속이 증가하는 유로(204)에는 부압이 발생한다. 이와 같이 단면적이 작아지는 곳에서의 속도가 증 가함으로써 저압이 발생되는 효과를 벤투리(Venturi) 효과라고 한다. 이러한 벤투리 효과로써 유로(204)의 압력이 낮아짐으로써, 주변 압력과의 압력차가 발생하게 된다. 따라서, 이처럼 발생된 압력차로 기판은 보다 안정되게 안착할 수 있다.
도 2b는 도 2a가 기판 처리조(100)의 저면에 구비된 평면도이다. 이해의 편의상 이송 롤러(110)는 도시하지 않았다.
기판 처리조(100)의 저면과 평행하며, 기판 처리조(100)의 길이 방향으로 공급부(200)가 형성된다. 따라서, 공급부(200)에서 공급되는 기판 처리액은 기판 처리조(100)의 저면 또는 기판의 배치 방향과 평행한 방향으로 분출될 수 있다. 따라서, 이후 이송될 기판에 수직 항력을 발생시키지 않을 수 있다. 또한, 전술한 바와 같이 유속을 증가시켜 압력차를 발생시키는 분기관 형상의 공급부(200)를 구비함으로써 기판의 이탈을 방지할 수 있다.
도 1 내지 도 3을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 디스플레이 제조용 장비의 동작을 설명하기로 한다.
도 3은 도 1의 A-A’에 따른 단면도이다.
우선 기판(G)이 롤러(110)상에 안착된다. 그리고, 기판 처리조(100)의 저면에 구비된 공급부(200)에 의해 기판 처리액이 공급된다.
공급부(200)의 파이프(202)에 공급된 기판 처리액을 다수의 유로(204)를 통하여 기판(G)의 방향과 평행한 방향으로 공급한다.
자세히 설명하면, 파이프(202) 내 일정한 유속으로 흐르던 기판 처리액은 유로(204)를 통하여 분산 분출됨으로써 유속이 증가된다. 그리하여 유속이 증가되는 곳, 즉 유로(204)의 압력은 낮아지므로 주변과의 압력차가 발생한다. 이로써, 기판(G)을 롤러(110) 상에 보다 안정되게 안착시킬 수 있다. 그리하여 기판(G)의 이탈을 방지할 수 있다. 또한, 기판(G)의 배치 방향과 평행 방향으로 기판 처리액을 분출함으로써, 기판(G)에 대해 발생할 수 있는 항력을 방지할 수 있다.
계속해서, 기판 처리액은 기판(G)이 침강되도록 기판(G)의 위치보다 높이 기판 처리조(100)에 저수된다. 그리하여, 기판(G)의 표면에 존재하는 박막 혹은 포토 레지스트 등은 기판 처리액에 의해 세정, 박리, 현상 또는 식각된다.
본 발명의 일 실시예에서는 설명의 편의상, 하나의 공급부(200)를 도시하여 설명하였으나 물론 이에 제한되는 것은 아니다. 더욱 효과적인 기판 처리액의 공급을 위하여 복수개의 공급부(200)가 기판 처리조(100)의 하부에 구비될 수 있음은 물론이다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지로 치환, 변형 및 변경이 가능하므로 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
상기한 바와 같이 본 발명의 평판 디스플레이 제조용 장비에 따르면 다음과 같은 효과가 하나 혹은 그 이상 있다.
첫째, 기판의 배치 방향과 평행한 방향으로 기판 처리액을 공급하므로 기판에 대한 항력을 방지할 수 있다.
둘째, 기판의 항력을 방지함으로써 기판의 중앙 휨 현상을 방지할 수 있다.
셋째, 또한, 공급부의 유로관을 통하여 낮은 압력을 발생시킴으로써 기판의 이탈을 방지할 수 있다.
넷째, 기판의 이탈을 방지함으로써 기판을 보다 안정되게 안착시킬 수 있다.

Claims (3)

  1. 기판 처리액이 저수되어 기판을 수평 상태로 침강시키는 기판 처리조; 및
    상기 기판 처리조 및 상기 기판의 배치방향과 평행한 방향으로 구비되어 상기 기판 처리액을 상기 기판의 배치방향과 평행한 방향으로 분출시키는 공급부를 포함하는 평판 디스플레이 제조용 장비.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 공급부는 바(bar) 형상의 파이프 양측에 다수의 유로를 구비하는 분기관 형상인 평판 디스플레이 제조용 장비.
  3. 제 2항에 있어서,
    상기 기판 처리액 공급 통로인 상기 파이프의 직경보다 상기 기판 처리액을 분출시키는 상기 유로의 직경이 작은 평판 디스플레이 제조용 장비.
KR1020060080238A 2006-08-24 2006-08-24 평판 디스플레이 제조용 장비 KR100767440B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060080238A KR100767440B1 (ko) 2006-08-24 2006-08-24 평판 디스플레이 제조용 장비

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060080238A KR100767440B1 (ko) 2006-08-24 2006-08-24 평판 디스플레이 제조용 장비

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR100767440B1 true KR100767440B1 (ko) 2007-10-17

Family

ID=38814878

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020060080238A KR100767440B1 (ko) 2006-08-24 2006-08-24 평판 디스플레이 제조용 장비

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100767440B1 (ko)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20060039769A (ko) * 2004-11-03 2006-05-09 삼성전자주식회사 세정 장치, 기판 세정 방법 및 이를 포함하는 식각 장치

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20060039769A (ko) * 2004-11-03 2006-05-09 삼성전자주식회사 세정 장치, 기판 세정 방법 및 이를 포함하는 식각 장치

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101505266B1 (ko) 기판 처리용 약액 생성 방법, 기판 처리용 약액 생성 유닛, 및 기판 처리 시스템
KR101217371B1 (ko) 기판 처리 장치
KR101322983B1 (ko) 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
US20110265823A1 (en) Method for processing a substrate using a single phase proximity head having a controlled meniscus
JP3560962B1 (ja) 基板処理法及び基板処理装置
KR100767440B1 (ko) 평판 디스플레이 제조용 장비
JP2010036100A (ja) 処理液供給装置
KR20090015413A (ko) 평판표시장치 제조용 슬릿 노즐의 세정 장치
JP2010103383A (ja) 基板処理装置
JP5202400B2 (ja) 基板処理装置および基板処理方法
KR20100061035A (ko) 기판 처리 장치 및 방법
KR20110039799A (ko) 기판 처리 장치
KR20110061302A (ko) 세정액 공급 및 회수 시스템
JP2005244162A (ja) 基板処理装置
JP2005125235A (ja) スリットシャワーユニット
KR101155618B1 (ko) 처리액 저장 탱크
JP2007227796A (ja) 基板の枚葉処理装置および処理方法
JP2014069126A (ja) 基板処理装置
JP5785454B2 (ja) 基板処理装置
KR20070071916A (ko) 침강식 기판처리장치
KR20130024694A (ko) 기판 처리 장치 및 방법
US20150090299A1 (en) Processes and apparatus for cleaning, rinsing, and drying substrates
KR101158353B1 (ko) 대면적 기판의 도포액 도포장치
KR101598140B1 (ko) 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
KR20080018320A (ko) 기판 처리 장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee