KR20080018320A - 기판 처리 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는 원뿔 형상으로 돌출된 바닥면을 가지며 바닥면의 중심 영역에 형성된 배기홀을 포함하는 침액조, 침액조에 소정 간격씩 이격되어 형성되며 기판을 이송하는 복수개의 이송 롤러, 배기홀을 통해 기판의 하부에 모이는 공기를 외부로 배기하는 배기부 및 침액조에 약액을 공급하는 약액 공급부를 포함한다.

기판 처리 장치, 침액조, 배기부

Description

기판 처리 장치{Apparatus for treatment of the substrate}

도 1은 종래 기술의 기판 처리 장치를 개략적으로 나타낸 단면도 및 부분 확대도이다.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 평면도이다.

도 3은 도 2의 Ⅰ-Ⅰ'을 따라 절단한 단면도이다.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*

P: 기판 200: 기판 처리 장치

210: 침액조 212: 바닥면

214: 배기홀 222: 제1 이송 롤러

224: 제2 이송 롤러 226: 지지대

230: 배기부 240: 약액 공급부

본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 생산성이 향상된 기판 처리 장치에 관한 것이다.

최근 들어 정보 처리 기기는 다양한 형태의 기능과 더욱 빨라진 정보 처리 속도를 갖도록 급속하게 발전하고 있다. 이러한 정보 처리 장치는 가동된 정보를 표시하기 위해 디스플레이 장치를 가진다. 지금까지는 디스플레이 장치로 브라운관(Cathode Ray Tube) 모니터가 주로 사용되었으나, 최근에는 반도체 기술의 급속한 발전에 따라 가볍고 공간을 작게 차지하는 평판 디스플레이 장치의 사용이 급격히 증대하고 있다. 평판 디스플레이로는 다양한 종류가 있으며, 이들 중 전력 소모와 부피가 작으며 저전압 구동형인 액정 디스플레이(Liquid Crystal Display)가 널리 사용되고 있다.

이러한 액정 디스플레이를 제조하기 위해 다양한 공정들이 수행된다. 이러한 공정으로는 침액조, 챔버 또는 확산로 등의 기판 처리 장치에서 진행되는 식각, 수세, 건조 또는 열처리 공정 등이 있다. 이 같은 공정들은 기체를 이용하는 건식공정과 액체를 이용하는 습식공정으로 구분되며, 습식 공정은 다시 기판에 액체를 분사하는 스프레이 방식과 기판을 용액에 침강시키는 침강 방식으로 구분된다. 이때, 습식 공정에 사용되는 액체, 즉 기판 처리액은 화학약품이나 탈이온수 또는 순수(DI) 등이 사용된다.

도 1은 종래 기술의 기판 처리 장치(100)를 개략적으로 나타낸 단면도 및 부분 확대도이다.

기판 처리 장치(100)는 기판(P) 처리가 진행되는 침액조(110), 침액조(110)에 형성되며 기판(P)을 이송하는 이송 롤러(120), 침액조(110)에 약액을 공급하는 약액 공급부(130)를 포함한다.

기판을 처리하기 위해서는 우선, 이송 롤러(120)를 통해 기판(P)을 침액 조(110) 내로 로딩하고, 약액 공급부(130)를 통해 침액조(110) 내에 약액을 공급하게 된다.

이 때, 약액은 침액조(110)의 하부면에서부터 차오르게 되는데, 여기서, 약액이 빠르게 차오르면서, 기판(P) 밑의 공기가 빠져나가지 못하고 기판(P) 하부에 고여있을 수 있다. 한편, 기판(P)의 양 끝은 이송 롤러(120)에 의해 고정되어 있다. 따라서, 기판(P) 하부에 고여 있는 공기가 의해 기판(P)의 중심이 상부로 약간 휘어질 수 있다. 기판(P)이 휘어지는 경우, 후속 공정 시에 기판(P)을 기판 처리 장비가 기판(P)을 정확히 센싱하지 못하는 등의 문제가 발생할 수 있어, 불량률이 증가할 수 있다.

또한, 종래 기술의 기판 처리 장치(100)는 약액이 침액조(110) 내에 빠르게 차오르면서 약액의 난류가 발생할 수 있어, 기판(P)을 처리하는데 문제가 발생할 수 있다.

한편, 침액조(210)를 이용한 기판 처리 장치(100)는 약액의 사용량이 많은 문제점이 있다.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 생산성이 향상된 기판 처리 장치를 제공하는 것이다.

본 발명의 기술적 과제는 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.

상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는, 원뿔 형상으로 돌출된 바닥면을 가지며 상기 바닥면의 중심 영역에 형성된 배기홀을 포함하는 침액조, 상기 침액조에 소정 간격씩 이격되어 형성되며 기판을 이송하는 복수개의 이송 롤러, 상기 배기홀을 통해 상기 기판의 하부에 모이는 공기를 외부로 배기하는 배기부 및 상기 침액조에 약액을 공급하는 약액 공급부를 포함한다.

기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다. 본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.

및/또는 은 언급된 아이템들의 각각 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다.

본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 포함한다(comprises) 및/또는 포함하는(comprising)은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.

이하, 도 2 및 도 3을 참조하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치(200)에 대하여 보다 상세히 설명한다.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치(200)의 평면도이다. 도 3은 도 2의 Ⅰ-Ⅰ'을 따라 절단한 단면도이다.

도 2 및 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치(200)는 침액조(210), 제1 및 제2 이송 롤러(222, 224), 배기부(230) 및 약액 공급부(240)를 포함한다.

침액조(210)는 원뿔 형상으로 돌출된 바닥면(212)을 가진다. 침액조(210)의 바닥면은 중심 영역의 높이가 가장 높고 주변 영역으로 갈수록 높이가 낮아지게 형성될 수 있다.

침액조(210)의 바닥면(212)의 중심 영역, 즉 원뿔 형상의 꼭지점 영역에는 배기홀(214)이 형성된다. 배기홀(214)은 배기부(230)와 연결되어, 기판(P)의 하부에 모이는 공기를 외부로 배기한다.

침액조(210) 내에는 기판(P)을 이송하는 복수개의 제1 및 제2 이송 롤러(222, 224)가 구비된다. 제1 및 제2 이송 롤러(222, 224)는 지지대(226)에 의해 지지되어 침액조(210)를 가로질러 수평으로 형성되는데, 소정 간격씩 이격되어 일렬로 복수개가 형성된다. 여기서, 제1 이송 롤러(222)는 기판(P)을 이동시키고, 지지해주는 역할을 하며, 제2 이송 롤러(224)는 기판(P)이 움직이지 않도록 잡아주는 역할을 한다.

침액조(210)의 하면에는 배기홀(214)을 통해 공기가 배기되는 배기부(230) 및 침액조(210)에 약액을 공급하는 약액 공급부(240)가 연결된다.

이하, 도 2 및 도 3을 참조하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치(200)의 기판 처리 공정에 대하여 설명한다.

제1 및 제2 이송 롤러(222, 224)를 통해 침액조(210) 내부로 기판(P)이 로딩된다. 그러면, 침액조(210) 바닥면(212)의 약액 공급부(240)를 통해 약액이 공급된다. 이 때, 약액은 화학 약품이나 탈이온수 또는 순수(DI) 등이 사용될 수 있다.

약액 공급부(240)를 통해 약액이 공급될 때는, 침액조(210)의 하부에서부터 약액이 채워지게 된다. 이 때, 침액조(210)의 바닥면(212)은 중심 영역의 높이가 가장 높고 주변 영역으로 갈수록 높이가 낮아지기 때문에, 약액은 침액조(210)의 주변 영역부터 차오르게 된다. 약액이 침액조(210)의 주변 영역부터 차오르게 되면, 약액이 침액조(210)를 갑자기 채울 때에 형성되는 난류가 발생하지 않을 수 있다.

기판(P) 상부까지 약액이 차면 약액의 공급을 멈춘다. 이 때, 약액이 빠르게 차오르면서 기판(P) 하부면에 공기가 고여 있을 수 있는데, 이러한 공기는 배기홀(214)을 통해 배기된다. 따라서, 기판(P) 하부면에 고여 있는 공기로 인하여 기판(P)이 휘어지는 것을 막을 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치(200)에 따르면, 약액이 침액조(210)의 주변 영역부터 차오르게 됨으로써, 액이 침액조(210)를 갑자기 채울 때에 형성되는 난류가 발생되지 않아 기판 처리 공정이 보다 안정적으로 진행될 수 있다.

또한, 기판(P) 하부면에 공기가 고여 있을 수 있는 공기가 배기홀(214)을 통해 배기됨으로써, 기판(P) 하부면에 고여있게 되는 공기로 인하여 기판(P)이 휘어지는 것을 막을 수 있다. 따라서, 기판(P)이 휘어짐으로써 발생하는 불량을 막을 수 있어, 생산성이 향상될 수 있다.

한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치(200)는 원뿔 형상으로 돌출된 바닥면(212)을 가지기 때문에, 약액의 소모량이 종래의 기판 처리 장치에 비해 적어지게 된다. 따라서, 생산 비용이 절감될 수 있다.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.

상기한 바와 같은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치에 따르면 다음과 같은 효과가 하나 이상 있다.

첫째, 약액이 침액조의 주변 영역에서부터 차오르게 됨으로써, 약액이 침액조를 갑자기 채울 때에 형성되는 난류가 발생되지 않을 수 있다. 따라서, 기판 처리 공정이 보다 안정적으로 진행될 수 있다.

둘째, 기판이 휘어지는 것을 막을 수 있음으로써, 불량률을 줄일 수 있다. 따라서, 생산성이 향상될 수 있다.

셋째, 약액의 소모량을 줄일 수 있음으로써, 생산 비용이 절감될 수 있다.

Claims (4)

1. 원뿔 형상으로 돌출된 바닥면을 가지며 상기 바닥면의 중심 영역에 형성된 배기홀을 포함하는 침액조;

   상기 침액조에 소정 간격씩 이격되어 형성되며 기판을 이송하는 복수개의 이송 롤러;

   상기 배기홀을 통해 상기 기판의 하부에 모이는 공기를 외부로 배기하는 배기부; 및

   상기 침액조에 약액을 공급하는 약액 공급부를 포함하는 기판 처리 장치.
2. 제 1항 있어서,

   상기 침액조의 바닥면은 중심 영역의 높이가 가장 높고 주변 영역으로 갈수록 높이가 낮아지는 기판 처리 장치.
3. 제 1항에 있어서,

   상기 약액 공급부에서 공급되는 약액은 상기 침액조의 하부에서부터 상기 침액조를 채우는 기판 처리 장치.
4. 제 1항에 있어서,

   상기 복수개의 이송 롤러는 상기 기판이 상기 침액조 내에서 처리되는 동안 상기 기판을 잡아주는 기판 처리 장치.

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