KR20000024808A

KR20000024808A - Tft lcd용 글라스의 자동 에칭 장치 및 에칭방법

Info

Publication number: KR20000024808A
Application number: KR1019980041514A
Authority: KR
Inventors: 노승민
Original assignee: 최종관; 주식회사 에스티아이
Priority date: 1998-10-02
Filing date: 1998-10-02
Publication date: 2000-05-06

Abstract

본 발명의 TFT LCD용 글라스의 자동 에칭 장치는 HF 에칭 배스(1), QDR 배스(2) 및 건조 배스(3)로 이루어진다. HF 에칭 배스(1)에는 HF용액을 공급하기 위한 HF 공급 탱크(4)와 HF 용액을 재생하기 위한 HF 재생 탱크(5)가 그 하부쪽으로 설치되어 있고, HF 공급 탱크(4)에 HF 용액을 공급하기 위한 두 개의 HF 원액 공급 장치(10, 11)가 설치되어 있다.

HF 에칭 배스(1)의 하단부에는 질소 기체가 분출할 수 있는 다공성의 버블판(50)과 버블의 분산을 유도하기 위한 펀칭판(60)이 설치되어 있어서, 외부로부터 질소 기체가 공급되어 글라스의 표면을 질소 기체 버블에 의하여 고르게 에칭할 수 있도록 한다.

TFT LCD용 글라스는 통상 20매 또는 25매씩 카세트(도시되지 않음)에 삽입하여 하나의 카세트 단위로 로봇(도시되지 않음)에 의하여 포집되어 각각 필요한 위치로 순차적으로 이동한다. HF 원액 공급 제1장치(10) 및 HF 원액 공급 제2장치(11)에 존재하는 HF 용액은 약 50%의 농도를 갖는 것으로 초순수와 혼합하여 필요한 농도로 조절된다.

HF 에칭 배스(1)에서 글라스의 에칭 공정이 완료되면, 로봇이 작동하여 글라스가 삽입지지된 카세트를 들어올려 QDR 배스(2) 내부로 신속히 이동시킨다. QDR 배스(2)로 이동된 글라스 카세트는 측부상하단에 설치된 샤워장치를 통하여 초순수를 분사시켜 글라스 표면의 식각된 이물질과 HF 용액을 세척한다. QDR 배스(2)에서 글라스의 세척 공정이 완료되면, 로봇이 작동하여 글라스가 삽입지지된 카세트를 들어올려 건조 배스(3) 내부로 이동시킨다. 건조 배스 내부에서는 질소기체를 분사시켜 글라스 표면을 완전히 건조시킨다. 건조 배스에서 공정이 완료되면 언로딩부로 이동시켜 모든 작업을 종료한다.

Description

ＴＦＴＬＣＤ용 글라스의 자동 에칭 장치 및 에칭 방법

<발명의 분야>

본 발명은 TFT(Thin Film Transistor) LCD(Liquid Crystal Displayer)용 글라스의 표면을 자동으로 에칭하기 위한 자동 에칭장치 및 에칭 방법에 관한 것이다. 보다 구체적으로 본 발명은 HF 용액의 부식성 및 발열성을 이용하여 HF 용액속에서 질소 기체를 발생시키면서 TFT LCD용 글라스의 표면을 에칭하고, 에칭이 완료된 글라스를 QDR(Quick Dump Rinse)배스에 삽입시켜 HF 식각물질 및 HF 용액을 글라스 표면으로부터 세척하고, 세척된 글라스를 건조 배스에 넣은 후 글라스 표면에 질소기체를 분사시켜 글라스를 건조시키기 위한 자동 에칭 장치 및 그 에칭 방법에 관한 것이다.

<발명의 배경 및 선행기술>

일반적으로 FPD(flat panel display)용으로 사용되는 TFT(thin film transistor) LCD(liquid crystal display)는 하판에 해당하는 TFT와 상판에 해당하는 CF(color filter)사이에 액정이 삽입되어 셀(cell) 형태로 제조된다. TFT-LCD의 경량화를 위하여 글라스의 평면을 얇게 가공할 필요가 있다. 즉 TFT와 CF가 합착된 셀(cell) 글라스를 에칭하여야 할 필요가 있다. 이제까지 행해지고 있는 글라스의 에칭 방법이나 그 장치는 여러 가지 문제점을 내포하고 있다.

TFT LCD용 글라스를 에칭하고자 하는 경우에는 그 글라스의 표면을 균일하게 에칭하여야 한다는 점이 가장 중요한 문제로 대두되고 있다. 다음에는 글라스 내부에 내장된 회로를 파손하지 않고 글라스 표면을 에칭하여야 한다는 점이다. 또한 TFT LCD용 글라스를 에칭하는 경우에는 HF 용액을 사용하게 되는데, HF 용액은 일반적으로 휘발성이 강하고 독성이 있기 때문에 그 HF 용액의 취급에 상당한 주의가 요구되어 왔다.

TFT LCD용 글라스를 에칭하기 위한 방법과 장치에 있어서, 본 발명자들은 상기와 같은 종래의 문제점을 해결하여, 글라스 표면을 균일하게 에칭하고 에칭 공정시에 글라스 내부에 내장된 회로를 파손시키지 않고, HF 기체의 외부 발산을 방지하여 독성으로 인한 인체의 위험을 제거하고 HF기체의 상승을 억제할 수 있고, 상기와 같은 모든 에칭 공정을 자동으로 행할 수 있는 자동 에칭 장치 및 그 방법을 개발하기에 이른 것이다.

본 발명의 목적은 TFT LCD용 글라스를 균일하게 에칭하기 위한 에칭 장치를 제공하기 위한 것이다.

본 발명의 다른 목적은 에칭 공정시에 글라스 내부에 내장된 회로를 파손시키지 않고 박막형태로 글라스를 에칭하기 위한 에칭 장치를 제공하기 위한 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 에칭 배스의 뚜껑에서 독성의 HF 기체가 발생하는 것을 방지하기 위하여 초순수를 충진시킨 에칭 배스의 상단 주변에 워터 포켓(water pocket)이 설치된 에칭 장치를 제공하기 위한 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 HF 공급 탱크에 냉각수 라인을 통과시켜 HF용액이 기화하는 것을 최소화하고, 에칭 공정에 필요한 HF 용액의 온도를 조절시킬 수 있는 에칭 장치를 제공하기 위한 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 TFT LCD용 글라스를 균일하게 에칭하고 그 내부에 내장된 회로를 파손하지 않고 효율적으로 에칭하기 위하여 HF 에칭 배스의 하부에 질소 기체가 발생할 수 있는 버블판 및 펀칭판이 설치된 에칭 장치를 제공하기 위한 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 HF 용액이 충진된 HF 에칭 배스의 하단부에 버블판 및 펀칭판을 설치하여 그 버블판을 통하여 질소 기체가 발생되면서 거품형태로 HF 용액내에 삽입된 글라스의 표면을 균일하게 에칭하고, 에칭이 완료된 글라스를 QDR 배스로 이송시킨 후 초순수를 분사시켜 HF 식각물질 및 HF 용액을 글라스 표면으로부터 세척하고, 세척된 글라스를 건조배스로 이송 후 글라스 표면에 질소 기체를 분사시켜 에칭된 글라스를 건조시키기 위한 글라스의 에칭 방법을 제공하기 위한 것이다.

상기 및 기타의 목적들이 하기에 구체적으로 설명되는 본 발명에 의하여 달성될 수 있다. 이하 첨부된 도면을 참고로 본 발명의 구체예에 대한 상세한 내용을 하기에 설명한다.

도 1은 본 발명의 TFT LCD용 글라스의 자동 에칭 장치의 구성을 나타내는 개략적인 정면 구성도이다.

도 2는 본 발명의 자동 에칭 장치의 불화수소(HF) 에칭 배스(Etching Bath)의 단면을 개략적으로 나타내는 정단면도이다.

도 3은 본 발명의 HF 에칭 배스의 하부에 설치되는 펀칭판(Punching Plate)의 개략적인 평면도로써, 하부 질소기체(N₂)로부터 상승하는 공기방울을 분산시켜, 공기방울을 다량으로 만들어 골고루 퍼지게 하는 역할을 한다.

도 4는 본 발명의 HF 에칭 배스 하부의 질소 기체를 발생시키기 위한 버블(Bubble)판의 개략적인 평면도이다.

* 도면의 주요 부호에 대한 간단한 설명 *

1: HF 에칭 배스 2: QDR 배스

3: 건조 배스 4: HF 공급 탱크

5: HF 재생 탱크 6: HF농도 콘트롤러

7: 1차 필터링 탱크 8: 1차 필터링 탱크

9: 2차 필터링 탱크 10: HF 원액 공급 제1장치

11: HF 원액 공급 제2장치 12: 열교환 장치

13: 건조 배스 뚜껑 20: 로딩(Loading)부

21: 언로딩(Unloading)부 30: HF 에칭 배스 뚜껑

40: 워터 포켓(water pocket) 41: 초순수

50: 버블판 60: 펀칭판

도 1은 본 발명의 TFT LCD용 글라스의 자동 에칭 장치의 구성을 나타내는 개략적인 구성도이다.

본 발명의 TFT LCD용 글라스의 자동 에칭 장치는 HF 에칭 배스(1), QDR 배스(2) 및 건조 배스(3)로 이루어진다.

HF 에칭 배스(1)의 하부쪽에는 HF 용액을 공급하기 위한 HF 공급 탱크(4)와 HF 용액을 재생하기 위한 HF 재생 탱크(5)가 설치되어 있고, HF 공급 탱크(4)에 HF 용액을 공급하기 위한 두 개의 HF 원액 공급장치, 즉 HF 원액 공급 제1장치(10) 및 HF 원액 공급 제2장치(11)가 설치되어 있다.

TFT LCD용 글라스는 그 용도에 따라 여러 가지 크기를 가질 수 있지만 보통 350×450, 450×550, 600×720, 650×830mm의 크기를 갖는다. 그 글라스의 두께는 통상 1.2∼1.4mm의 두께를 갖는 것으로 HF 에칭 배스(1) 내에서 에칭이 완료되면 약 0.950∼1.050mm 정도의 두께를 갖는다.

TFT LCD용 글라스는 하나의 카세트(cassette) 내에 복수개로 삽입되어 지탱된다. 통상 20장 또는 25장의 글라스가 하나의 카세트 내에 장입된다. 복수의 글라스가 장입된 카세트는 로봇(도시되지 않음)에 의하여 로딩부(20)에서 HF 에칭 배스(1) 내부로 이동한다. 로봇은 로딩부(20)로 이동된 글라스가 장입된 카세트를 포집하여 HF 에칭 배스(1) 내부로 삽입되는 올바른 위치로 방향전환을 행한 후 낱개의 글라스가 수직 방향으로 위치하도록하여 HF 에칭 배스(1) 내부까지 카세트를 운반한다. 글라스가 장입된 카세트가 HF 에칭 배스(1) 내부에 위치되면, 로봇은 밖으로 빠져 나오고, HF 에칭 배스(1)의 뚜껑(30)이 닫혀지며, 그 후 에칭이 행해진다.

글라스의 에칭 공정은 HF 에칭 배스(1) 내에 있는 HF 용액을 질소기체에 의해 발생되는 버블로써 유동시켜 온도를 상승시키며 행해진다. 즉 HF 용액을 질소 기체 버블로써 온도를 상승시켜 글라스의 표면을 식각하고, 버블의 고른 분포 및 유동에 의해 글라스의 표면을 고르게 식각하게 되는 것이다.

HF 에칭 배스(1)의 하단부에는 질소 기체가 분출할 수 있는 다공성의 버블판(50)과 함께 펀칭판(60)이 설치되어 있다. 도 3은 펀칭판(60)의 개략적인 평면도이며 도 4는 본 발명의 HF 에칭 배스의 하부에 설치되어 질소 기체를 발생시키기 위한 버블판(50)의 개략적인 평면도이다. 이 버블판(50)에 형성된 복수개의 구멍을 통하여 질소 기체가 발생되고, 이 때 발생된 기체가 다공의 펀칭판을 통과하며 다량의 버블로 고르게 분산된다. 이 때 발생된 다량의 질소 기체가 그 상부에 위치한 글라스의 표면을 에칭한다.

HF 원액 공급 제1장치(10) 및 HF 원액 공급 제2장치(11)는 서로 교대로 HF 용액을 HF 공급 탱크(4)로 공급한다. HF 원액 공급 장치(10, 11)에 존재하는 HF 용액은 약 50%의 농도를 갖는다. 이 50%의 HF 용액은 HF 공급 탱크(4) 및 HF 재생탱크(5) 내에서 15%, 17%, 등과 같이 각각 필요한 농도로 희석된다. 이 때 초순수를 사용하여 농도를 희석한다. 농도의 조절은 HF 농도 컨트롤러(6)에 의하여 행해진다.

HF 농도 컨트롤러(6)에 의하여 농도가 조절된 HF 용액은 에칭 공정 조건에 따라 에칭이 완료되면, HF 에칭 배스(1)의 뚜껑(30)이 열리고 로봇이 이동하여 카세트를 포집하여 위쪽으로 카세트를 들어올린다. 로봇에 의하여 위쪽으로 들어올려진 카세트는 다시 로봇에 의하여 QDR 배스(2)로 삽입된다. 이 때 글라스의 얼룩 방지를 위하여 신속히 QDR 배스(2)로 이송, 삽입되어야 한다.

HF 에칭 배스(1)에서는 글라스를 에칭한 결과 많은 슬러리가 발생하며 HF 에칭 배스(1)내의 HF 용액을 배관을 통하여 HF 재생탱크(5) 속으로 배출시킨다. HF 에칭 배스의 바닥면은 슬러리의 신속한 배출을 위하여 경사지게 형성된다. HF 재생 탱크(5)로 배출된 HF 용액은 일정시간 동안 침전과정을 거친 후 일정량을 HF 공급 탱크(4)로 이송시키고, 침전된 슬러리를 하부에서 배출시킨다. HF 에칭 배스에서 발생한 슬러리는 침전해서 분리할 수도 있으며, 필터를 이용해서 걸러낼 수도 있다. 또한 HF 용액을 40℃이상의 온도로 가열시킨 후 다시 25℃이하의 온도로 냉각시켜 응축 방식으로 분리할 수도 있다. HF 공급 탱크(4)로 유입된 HF 재생 용액은 새로운 HF 용액과 다시 혼합되어 에칭 공정 수행에 적절한 농도로 다시 조절되도록 한다.

HF 공급탱크(4)에는 외부로부터, 공정 냉각수(PCW: process cooling water)가 배관을 따라 이동하면서 통과한다. 배관을 따라 순환하는 공정 냉각수는 HF 공급 탱크(4)를 통과한 후 외부로 배출된다. HF 용액은 발열성 및 휘발성이 강하고 독성을 지니고 있기 때문에 HF 공급 탱크(4)에서 발생하는 HF 기체를 포집하는 것이 바람직하다. 발열 발생으로 인한 HF 용액의 기화 현상을 억제시키고, 온도가 상승되는 HF 용액을 에칭 공정에 적합한 온도로 조절·유지시킨다.

HF 에칭 배스(1)에서 에칭 공정이 완료되면 로봇이 작동하여 카세트는 QDR 배스(2)로 이동한다.

QDR 배스(2)로 이동된 카세트는 샤워장치를 통하여 초순수를 분사시켜 글라스 표면에 부착된 식각된 물질과 HF 용액을 세척한다. 샤워장치는 QDR 배스(2) 내부에 설치되어 카세트에 장입된 글라스의 표면을 골고루 세척할 수 있도록 설계한다. 초순수로써 QDR 배스(2) 내에서 세척공정이 완료되면, 그 하부에 고여있는 세척수를 긴급히 배수시킨다. 세척수에는 글라스를 에칭한 식각 물질과 HF 용액이 포함되어 있기 때문에 외부로 배출시킨다. 하나의 카세트에 대하여 1회 또는 수차례의 세척공정을 행할 수 있다.

QDR 배스(2)의 하부에도 질소 기체가 분출할 수 있는 다공성의 버블판(50) 및 펀칭판(60)이 설치되어 있다. 이 버블판(50) 및 펀칭판(60)으로부터 질소 기체가 분출되어 QDR 배스(2)에서의 세척효과를 증진시킬 수 있다.

HF 에칭 배스(1) 또는 QDR 배스(2)에서 사용하는 초순수는 효율을 높이기 위해 초순수 가열장치에 의하여 고온으로 가열되어 사용될 수도 있다.

QDR 배스(2)에서 글라스의 세척공정이 완료되면, 로봇이 작동하여 글라스가 장입된 카세트를 들어올려 건조 배스(3) 내부로 이동시켜 건조공정을 행한다.

건조 배스(3)에 카세트가 이동된 후 로봇은 원래의 위치인 QDR 배스(2)로 복귀하고 건조배스(3)의 뚜껑(13)이 닫히고 건조배스(3) 내부의 노즐에서 질소 기체를 분사시켜 건조시킨다. 노즐은 건조 배스(3)의 상하부에 별도로 설치되어 각각 순차적으로 기체를 분사한다. 분사된 다량의 기체는 배기(EXHAUST)라인을 통해 배출된다. 건조 효율을 높이기 위해 별도의 가열장치를 이용하여 기체를 가열하여 분사하거나, 건조 배스(3) 자체를 고온으로 가열시킬 수도 있다.

건조 배스(3)에서 글라스가 완전히 건조되면, 로봇에 의하여 건조된 카세트가 언로딩부(21)로 이동된다. 언로딩부(21)로 이동한 카세트는 로봇의 작동에 의하여 운반 적재된다.

도 2는 본 발명의 자동 에칭 장치의 불화수소(HF) 에칭 배스(1)의 단면을 개략적으로 나타낸 정단면도이다. HF 에칭 배스(1)의 하단부에는 질소 기체를 분출하는 버블판(50) 및 펀칭판(60)이 설치되어 있고, 그 상단부에는 뚜껑(30)이 덮어져 있으며, 뚜껑(30)의 틈새를 없애기 위해서 워터 포켓(40)을 사용하여 밀폐시킨다. 워터 포켓(40)에는 초순수(41)가 고이도록 함으로써 유독성의 HF 기체가 외부로 발산하는 것을 방지한다.

상기 버블판(50) 및 펀칭판(60)은 QDR 배스(2)의 하단부에도 설치하여 글라스를 세척하는 공정에서도 질소 기체를 발생시킨다. QDR 배스(2)에서 행해지는 초순수에 의한 세척공정에서도 질소 기체를 분출시켜 세척효율을 증진시킬 수 있다.

본 발명에 따른 TFT LCD용 글라스의 자동 에칭 방법은 HF 에칭 배스(1) 내에서의 에칭공정, QDR 배스(2) 내에서의 세척공정, 및 건조 배스(3) 내에서의 건조공정으로 이루어진다. QDR 배스(2) 내에서 세척 효율을 증대시키는 방법으로 질소 기체를 분출시키는 방법 외에 초음파를 이용할 수도 있다(도시되지 않음).

HF 에칭 배스(1) 내에서의 글라스의 에칭공정은 HF 에칭 배스(1) 내부에 HF 공급 탱크(4)로부터 농도가 조절된 HF 용액을 공급받고, HF 용액이 채워진 HF 에칭 배스(1)에 글라스가 장입된 카세트를 투입한 후, 하부의 버블판(50) 및 펀칭판(60)으로부터 질소 기체를 발산시켜 행해진다. 이 때 질소 기체를 발산시키는 에칭 배스(1) 외벽에 초음파 진동자(도시되지 않음)를 설치하여 진동에 의한 에칭 효과를 이용할 수도 있다.

QDR 배스(2) 내에서의 세척 공정은 그 배스(2) 내부에 설치된 샤워장치를 통하여 초순수를 분사시켜 글라스 표면에 붙어있는 식각된 이물질과 HF 용액을 세척한다. QDR 배스(2) 내에서도 세척공정중에 그 하부에 설치된 버블판(50) 및 펀칭판(60)으로부터 질소 기체를 발산시켜 세척 효율을 높일 수 있고 또 급속 배수 방법을 이용하여 식각된 이물질과 HF 용액을 신속히 배출하여 2차 오염을 막을 수 있다.

글라스가 장입된 카세트를 로봇이 내려놓고 로봇이 QDR 배스(2)로 복귀된 후 건조 배스(3)의 뚜껑(13)이 닫히고 그 상하부에서 질소 기체를 분사시켜 글라스 표면을 완전히 건조시키는 것으로 구성된다.

본 발명의 TFT LCD용 글라스의 에칭 장치 및 에칭 방법은 TFT LCD용 글라스를 균일하게 에칭할 수 있고, 글라스 내부에 내장된 회로를 파손시키지 않고 에칭할 수 있으며, 에칭 배스(1)의 뚜껑에서 발생하는 HF 기체가 외부로 유출되는 것을 방지할 수 있는 발명의 효과를 갖는다.

본 발명의 단순한 변형 예를 들어 약품의 농도를 변화시키거나 버블을 대체하여 초음파(Ultrasonic, Megasonic)를 이용하거나 HF 용액의 발열성을 이용하여 온도를 상승시켜 글라스를 에칭하거나 HF 증기(Fume)를 이용하는 등의 변경은 본 발명의 영역에 속한다.

Claims

HF 용액을 저장했다가 공급하기 위한 HF 원액 공급 제1장치(10) 및 HF 원액 공급 제2장치(11)로부터 HF 용액이 HF 공급 탱크(4)에 공급되고, 상기 탱크(4)내에서 농도 컨트롤러(6)에 의해 농도가 조절된 HF 혼합 용액이 채워지고, 하부에는 기체를 발산할 수 있는 다공성의 버블판(50)과 상기 버블판(50)에서 발생한 기체를 고르게 분산할 수 있는 펀칭판(60)이 설치되어 복수개의 TFT LCD용 글라스가 장입된 카세트가 내부에 위치하여 상기 글라스를 에칭하기 위한 HF 에칭 배스(1);

에칭이 완료된 글라스가 장입된 카세트가 내부에 위치하여 내부에 설치된 샤워장치를 통하여 초순수를 분사시키고, 그 하부에는 기체를 발산할 수 있는 다공성의 버블판(50)과 상기 버블판(50)에서 발생한 기체를 고르게 분산할 수 있는 펀칭판(60)이 설치되어 상기 글라스를 세척하기 위한 QDR 배스(2);

상기 세척이 완료된 글라스가 장입된 카세트가 내부에 위치하여 그 내부에 설치된 노즐을 통하여 기체를 분사시켜 상기 글라스를 건조하기 위한 건조 배스(3);

로 구성되는 것을 특징으로 하는 TFT LCD용 글라스의 자동 에칭 장치.
제1항에 있어서, 상기 HF 에칭 배스(1) 또는 상기 QDR 배스(2)의 외벽 또는 바닥면에 초음파 진동장치 및 가열장치를 더 설치하는 것을 특징으로 하는 TFT LCD용 글라스의 자동 에칭 장치.
제1항에 있어서, 상기 HF 에칭 배스(1)의 하부면이 10°이상 경사지게 형성되어 상기 HF 에칭 배스(1)에서 에칭된 이물질이 쉽게 배출되도록 하고 배출된 이물질을 침전 또는 필터링을 통해 재활용되도록 구성된 것을 특징으로 하는 TFT LCD용 글라스의 자동 에칭 장치.
제1항에 있어서, 상기 HF 에칭 배스(1)의 상단부에 초순수(41)가 채워지고 HF 에칭 배스 뚜껑(30)의 외주면이 상기 초순수속(41)에 잠겨서 HF 기체가 외부로 발산되지 않도록 워터 포켓(40)이 설치되고 내부 압력 상승을 막고 상기 HF 에칭 배스(1) 내에서 발생된 미스트(Mist)를 재활용하기 위해 우회 라인을 설치하는 것을 특징으로 하는 TFT LCD용 글라스의 자동 에칭 장치.
제1항에 있어서, 상기 HF 공급 탱크(4), 상기 HF 에칭 배스(1), 상기 QDR 배스(2)에 공급되는 HF 용액 및 초순수를 필요한 온도로 가열하기 위한 가열장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 TFT LCD용 글라스의 자동 에칭 장치.
제1항에 있어서, 상기 HF 공급 탱크(4) 주위를 순환하는 냉각수 공급장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 TFT LCD용 글라스의 자동 에칭 장치.
제1항에 있어서, 상기 건조 배스(3)에 공급되는 기체를 가열하거나, 상기 건조 배스(3) 자체를 가열하기 위한 가열 장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 TFT LCD용 글라스의 자동 에칭 장치.
제1항에 있어서, 상기 건조 배스(3)의 하부에 미스트(Mist) 배출구를 설치한 다음 상기 건조 배스(3)의 내부 상부 및 하부에 별도로 노즐을 설치하고 상기 노즐에서 순차적으로 기체를 분사하여 글라스를 건조시키는 것을 특징으로 하는 TFT LCD용 글라스의 자동 에칭 장치.
HF 농도 컨트롤러(6)에 의하여 농도가 조절된 HF 용액을 HF 공급 탱크(4)로부터 공급받고, 글라스가 장입된 카세트를 HF 에칭 배스(1) 내부에 투입하고, 상기 HF 에칭 배스(1)의 하부에 설치된 버블판(50)으로부터 기체를 발산하고 천공판(60)으로 상기 기체를 분산시켜 상기 HF 에칭 배스(1) 내에서 글라스를 에칭하는 단계;

에칭이 완료된 카세트를 QDR 배스(2)로 이동시켜 그 내부에 설치된 샤워 장치를 통하여 초순수 또는 초순수와 기체를 혼합한 액체를 분사시키고, 동시에 그 하부에 설치된 버블판(50)으로부터 기체를 발산하고 천공판(60)으로 상기 기체를 고르게 분산시켜 상기 카세트에 장입된 글라스를 세척하는 단계;

세척이 완료된 카세트를 건조 배스(3)로 이동시켜 그 내부에 설치된 노즐을 통해서 기체를 분사시켜 글라스 표면을 건조시키는 단계;

로 구성되는 것을 특징으로 하는 TFT LCD용 글라스의 자동 에칭 방법.