KR102117924B1 - 마스크 세정조 불순물 제거용 순환장치 및 순환방법 - Google Patents

마스크 세정조 불순물 제거용 순환장치 및 순환방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 마스크 세정조 불순물 제거용 순환장치 및 순환방법에 관한 것으로, 마스크 세정을 위한 세정액이 저장되는 세정조; 상기 세정조의 하면 부근에 설치되어 세정액을 세정조에 공급하는 세정액 공급노즐; 상기 세정조의 외측 둘레방향에 설치되며 상기 세정조로부터 오버플로우되는 세정액을 임시 저장하는 외측 저장조; 상기 세정조와 이격되는 외측에 설치되며 상기 세정조와 외측 저장조로부터 배출되는 세정액을 저장하는 보조탱크; 상기 세정조, 외측 저장조 및 보조탱크를 상호 연결하여 세정액을 순환시키는 순환공급수단을 포함하여 구성된 것을 특징으로 한다.
이에 따라, 작업자에 의해 번거로웠던 수동 세정 작업을 배제시키고, 수동 세정 작업으로 인해 인체에 유해한 화공약품이나 불순물에 노출되어야만 했던 작업자의 건강상의 문제도 완벽하게 해소할 수 있으며, 수작업에 비해 세정공정의 시간을 크게 단축시킬 수 있는 효과가 있다.

Description

마스크 세정조 불순물 제거용 순환장치 및 순환방법{Circulation Device for Removing Impurity in Mask Cleaning Bath and the Circulation Method}
본 발명은 마스크 세정조 불순물 제거용 순환장치 및 순환방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 마스크를 세정 후 세정조의 벽면과 바닥면에 잔류하는 불순물을 제거하는 불순물 제거공정과 세정액을 반복적으로 재사용할 수 있는 마스크 세정조 불순물 제거용 순환장치 및 순환방법에 관한 것이다.
고도화된 정보화 산업의 급격한 발달과 함께 초고속의 정보전달은 시간과 장소의 제한 없이 문자, 음성, 화상 등의 정보를 주고받을 수 있는 사회에 이르렀다.
이러한 정보전달의 매개체는 CRT를 시발점으로 발전을 거듭하여 왔고 이제는 인간공학적, 고기능화 등에 부합할 수 있는 LCD, PDP, LED, UHD, OLED 등의 대형 평판디스플레이와 초고속 이동통신 단말기, PDA 및 Web Pad 등의 소형디스플레이로 빠르게 바뀌고 있으며 편리함에 따른 수요 폭등에 따라 디스플레이 시장은 끊임없이 발전되고 있다.
평판디스플레이의 고품질, 저전력 소비 등을 기초하여 다양한 어플리케이션 시장이 더욱 활발해지고 있으며, 특히 OLED(Organic Light Emitting Diodes, 유기발광 다이오드)는 LCD, PDP에 이어서 차세대 디스플레이로 각광을 받고 있다.
OLED는 1987년 Eastman Kodak의 Tang이 적층 구조의 유기물질에서 고휘도로 빛을 내는 데 성공한 것을 시작으로 현재까지 많은 기술적인 진보가 이루어졌다.
OLED는 밝기, 명암비, 응답속도, 색 재현율, 시인성 등에서 뛰어난 화질과 제조공정이 단순해 저렴하다는 장점 등을 가지며 소위 ‘꿈의 디스플레이’로 여겨져 왔다.
그러나 짧은 수명, 낮은 수율 등으로 인하여 상용화에 어려움을 겪었으며 LCD 관련 기술의 빠른 진전으로 OLED의 시장 진입을 위한 입지를 상당히 좁게 만들어 상용화가 지연되었다.
최근 전 세계 디스플레이업계에서 상당 부분의 기술적 문제를 해결함에 따라 한국을 비롯한 일본, 대만의 관련업체들이 양산을 시작하고 있다.
OLED는 유기 박막에 양극과 음극을 통하여 주입된 정공(Hole)과 전자(Electron)가 재결합하여 여기자(Exciton)를 형성하고, 여기자가 다시 안정된 상태로 돌아오면서 방출되는 에너지가 빛으로 변하여 발광하는 자체 발광형 디스플레이 소자이다.
가장 간단한 구조의 OLED는 전자를 주입하는 음극, 정공을 주입하는 양극, 발광이 일어나는 유기 박막으로 이루어지며, 캐리어의 재결합 및 발광 특성 향상을 위해 전자 또는 정공의 주입 및 전달을 도와주는 기능층을 추가적으로 포함한다.
유기박막형성 기술은 FMM(Fine Metal Mask)와 같은 마스크를 이용한 증착기술, 레이저를 이용한 패터닝 기술, 액체기반의 잉크화 재료를 이용한 프린팅 기술 등이 있다.
이중, 마스크를 이용한 증착기술에서는 기판을 선택적으로 스크리닝(screening)하는 과정에서 마스크의 표면에도 유기 물질이 증착되기 때문에, 일정한 공정 횟수가 지난 이후에는 마스크를 세정하는 것이 필수적으로 요구되어 진다.
종래의 마스크 세정은 DIW(초순수 증류수, Di-Ionize Water)나 탄화수소용액과 같은 세정액에 침지하는 방법이 대표적이다.
예컨대, 도 1에 도시한 바와 같이, 통상의 침지식 마스크 세정장치는 통상 세정조(10) 내에 수용된 세정액(11)에 마스크(20)를 침지하여 세정하는 것으로, 상기 마스크(20)는 대면적이므로 세정시 마스크를 이동시켜 상기 세정조(10)에 침지시키기 위한 마스크 운송용 지그(30)를 사용하고 있다.
또한, OLED 디스플레이의 제조 과정에서 유기 박막을 증착하기 위해 이용되는 마스크의 세정은 상기 마스크를 세정액이 들어 있는 세정조에 침지한 후에 초음파를 적용하기도 한다.
또한, 침지식 마스크 세정장치는 작업의 특성상 일정 시간이 경과하면 세정조 내에 잔존하는 불순물을 제거하기 위한 세정조 세척작업을 주기적으로 실시하는 것이 일반적이다.
그런데, 종래기술에 따른 세정조 세척작업은 세정조 내부에 세정액이 없는 상태에서 분사식 세정방법으로 세정조의 벽면 등을 세정하고 있다. 따라서, 세정조에 수용된 세정액을 폐액처리한 후 진행하여야 하므로 세정액이 유기물을 용해할 수 있는 용해도가 많이 남았더라도 파티클을 줄이기 위하여 폐액처리한 후 세척조 세정작업을 해야하는 불합리가 발생하는 문제점이 있다.
또한, 유기물 세정액 중 증류 방식 등을 이용하여 세정액을 재생하여 사용하는 세정 방법/장치의 경우, 고가의 세정액을 폐액처리 하는 것이 불가능 하므로, 상기의 세척조 세정을 적용하는 것이 불가능하다.
한국등록특허공보 제1145850호(2012.05.07)
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 마스크를 세정 후 세정조의 벽면과 바닥면에 잔류하는 불순물을 제거하는 불순물 제거공정을 한층 효율적으로 진행할 수 있는 마스크 세정조 불순물 제거용 순환장치 및 순환방법을 제공하는데 있다.
또한, 세정조에 수용된 세정액을 폐액처리하지 않고 여러번 반복적으로 재사용이 가능한 마스크 세정조 불순물 제거용 순환장치 및 순환방법을 제공하는데 있다.
전술한 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 따른 마스크 세정조 불순물 제거용 순환장치는, 마스크 세정을 위한 세정액이 저장되는 세정조; 상기 세정조의 하면 부근에 설치되어 세정액을 세정조에 공급하는 세정액 공급노즐; 상기 세정조의 외측 둘레방향에 설치되며 상기 세정조로부터 오버플로우되는 세정액을 임시 저장하는 외측 저장조; 상기 세정조와 이격되는 외측에 설치되며 상기 세정조와 외측 저장조로부터 배출되는 세정액을 저장하는 보조탱크; 상기 세정조, 외측 저장조 및 보조탱크를 상호 연결하여 세정액을 순환시키는 순환공급수단을 포함하여 구성된 것을 특징으로 한다.
상기 세정조의 상부에는 상기 세정조의 내벽면 및 바닥면을 향하여 세정액을 분사하는 분사노즐유닛이 설치된 것을 특징으로 한다.
상기 분사노즐유닛은 세정조의 개방된 상부의 일측과 타측에 각각 설치되는 제1 노즐부와 제2 노즐부로 구성되며, 상기 제1 노즐부와 제2 노즐부는 세정조의 내벽을 향해 하향 경사지게 배치되는 것을 특징으로 한다.
상기 제1 노즐부와 제2 노즐부는 상하방향으로 이격되는 복수개의 구성으로 이루어진 것을 특징으로 한다.
상기 제1 노즐부와 제2 노즐부는 상기 세정조로부터 상승하는 마스크를 향해 세정액을 분사할 수 있도록 회전하는 것을 특징으로 한다.
상기 제1 노즐부와 제2 노즐부는 마스크 상승시 마스크의 상면이 세정액 밖으로 노출되기 시작하는 시점부터 마스크 하면이 노즐부의 분사 범위를 벗어날 때까지 세정액이 분사되는 것을 특징으로 한다.
상기 분사노즐유닛은 상기 제1 노즐부와 제2 노즐부를 상하방향으로 직선이동 가능하게 하는 승강이동부재를 포함하여 구성된 것을 특징으로 한다.
상기 제1 노즐부와 제2 노즐부의 상부에는 세정조 내벽면에 잔류하는 세정액을 제거하는 한 쌍의 에어 블로워가 추가적으로 설치된 것을 특징으로 한다.
상기 보조탱크는 상기 세정조의 세정액 저장공간의 크기와 동일하거나 크게 형성된 것을 특징으로 한다.
상기 순환공급수단은 상기 외측 저장조 내에 저장된 세정액을 상기 세정액 공급노즐로 공급하거나 상기 보조탱크로 공급하는 1차 순환공급수단; 및, 상기 외측 저장조와 상기 세정조에 저장된 세정액을 상기 보조탱크로 드레인한 후 상기 보조탱크에 저장된 세정액을 상기 세정조의 상부 또는 하부의 세정액 공급노즐로 공급하는 2차 순환공급수단으로 구성된 것을 특징으로 한다.
상기 1차 순환공급수단과 2차 순환공급수단에는 세정액 내의 포함된 불순물을 필터링하는 1차 필터와 2차 필터가 각각 설치되며, 상기 1차 필터와 2차 필터는 고형의 파티클을 제거하기 위한 다공성 또는 직조 형태의 구성인 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 마스크 세정조 불순물 제거용 순환방법은, 세정조 및 외측 저장조 내의 세정액을 보조탱크로 배출시키는 단계; 세정액 배출을 완료 또는 배출하는 과정에서 세정조 상부에 설치되는 노즐이 세정조 내벽면을 향해 세정액을 분사하는 단계; 및 세정조의 내벽면 및 바닥면에 대한 세척작업이 완료된 후 상기 보조탱크 내에 저장된 세정액을 다시 세정조로 이송하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 세정액을 분사하는 단계는 세정액 배출과 동시에 세정액을 분사하는 경우, 상기 세정조 내의 세정액 수위가 낮아지는 높이에 대응하여 상기 노즐이 하강 동작하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 세정액의 분사유량은 세정액이 배출 유량보다 낮은 것을 특징으로 한다.
상기 노즐을 통해 배출되는 세정액은 세정조 또는 보조탱크 내의 세정액을 순환시키는 것에 의해 이루어지는 것을 특징으로 한다.
상기 세정액은 상기 세정조의 내벽면과 바닥면을 동시에 향하도록 회전 분사가 이루어지는 것을 특징으로 한다.
상기 세정액 분사와 동시에 공기 분사가 수행되는 것을 특징으로 한다.
전술한 바와 같은 구성의 본 발명에 따르면, 세정조와 외측 저장조의 세정액을 저장하는 보조탱크와 세정액을 순환시키는 순환공급수단을 구성함으로써, 세정액을 여러번 반복적으로 재활용할 수 있어 세정액 구입 비용을 효과적으로 줄일 수 있는 장점이 있다.
또한, 세정조의 내벽면 및 바닥면을 향하여 세정액을 분사하는 분사노즐유닛을 구성함으로써, 세정조의 벽면과 바닥면에 잔류하는 불순물을 한층 효과적으로 제거할 수 있을 뿐만 아니라 세정공정의 시간을 크게 단축시킬 수 있는 효과가 있다.
도 1은 종래기술에 따른 마스크 세정장치의 구성을 나타낸 단면도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 마스크 세정조 불순물 제거용 순환장치의 구성을 나타낸 도면이다.
도 3은 도 2의 분사노즐유닛의 구성 및 작용을 나타낸 도면이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 마스크 세정조 불순물 제거용 순환방법을 순서도이다.
이하, 본 발명에 따른 마스크 세정조 불순물 제거용 순환장치 및 순환방법의 바람직한 실시예를 첨부한 도면들에 의거하여 상세히 설명한다.
참고로, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어와 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석해야만 한다.
또한, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시예에 불과할 뿐이고, 본 발명의 기술적 사상을 모두 나타내는 것은 아니므로 본 출원시점은 물론 그 이후에 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.
이하, 첨부된 도 2 내지 도 4를 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.
도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 마스크 세정조 불순물 제거용 순환장치는 마스크(20) 세정을 위한 세정액(11)이 저장되는 세정조(100)와, 상기 세정조(100)의 하면 부근에 설치되어 세정액을 세정조에 공급하는 세정액 공급노즐(120)과, 상기 세정조(100)의 외측 둘레방향에 설치되며 상기 세정조(100)로부터 오버플로우되는 세정액(11)을 임시 저장하는 외측 저장조(200)와, 상기 세정조(100)의 상부에 설치되며 상기 세정조의 내벽면 및 바닥면을 향하여 세정액을 분사하는 분사노즐유닛(300)과, 상기 세정조(100)와 이격되는 외측에 설치되며 상기 세정조(100)와 외측 저장조(200)로부터 배출되는 세정액을 저장하는 보조탱크(400)와, 상기 세정조(100), 외측 저장조(200), 분사노즐유닛(300) 및 보조탱크(400)를 상호 연결하여 세정액을 순환시키는 순환공급수단(S)을 포함하여 구성된다.
먼저, 상기 세정조(100)는 마스크(20) 표면에 묻어 있는 불순물(파티클)을 세정하기 위해 내부에 세정액(11)을 저장하는 통형상의 구조물로서, 상기 마스크(20)는 세정조(100) 내에 침지되는 과정에 의해 세척이 이루어진다.
그리고, 상기 마스크(20)의 침지 작용을 위해 마스크를 상하방향으로 이동시키기 위한 운송용 지그(미도시)가 세정조(100) 상부에 설치된다. 이러한 상기 운송용 지그는 이송 속도를 조절할 수 있는 별도의 속도 조절기를 설치할 수 있다.
상기 세정조(100)는 마스크(20)가 상하방향으로 출입이 용이하도록 상부가 개방된 함체의 형태로 제작하는 것이 바람직하다. 이에 본 실시예서는 세정조(100)의 형상이 상부가 개방된 것으로만 도시하였으나, 상기 세정조(100)의 형상은 이에 꼭 한정되지 않으며, 상기 세정조(100)의 상부를 선택적으로 개폐단속할 수 있는 덮개부(미도시)를 추가적으로 설치할 수 있다.
또한, 상기 세정조(100)의 바닥면에는 초음파를 발생시키는 초음파 발생수단(110)이 설치될 수 있다.
이 경우, 상기 세정조(100) 내부에 불순물이 증착되어 있는 마스크(20)를 침지시키고, 상기 초음파 발생수단(110)의 진동을 이용하여 마스크(20)에 증착되어 있는 불순물을 제거하는 세정작업을 진행하게 된다.
또한, 상기 세정조(100)와 후술할 외측 저장조(200)에는 세정액을 외부로 배출시키기 위한 각각의 배수구(101,201)가 형성되며, 상기 세정조(100)의 배수구(101) 일측에는 세정액이 유입되는 유입구(102)가 형성된다.
상기 세정액 공급노즐(120) 상기 유입구(102)에 연결되는 것으로, 초기 세정액을 세정조(110)로 공급하는 것과 세정조 내의 세정액을 세정조 상부로 오버플로우(overflow)하여 순환시키는 역할을 수행한다.
상기 외측 저장조(200)는 상기 세정조(100)의 외측 둘레방향에 설치되는 것으로, 상기 세정조(100)로부터 오버플로우(overflow)되는 세정액(11)을 임시 저장하는 역할을 수행한다.
상기 외측 저장조(200)에는 내부에 임시 저장되는 세정액이 상기 세정조(100)에 저정되는 세정액보다 수위가 높아지는 것을 방지하기 위한 수위감지센서(미도시)를 추가적으로 설치할 수 있다.
즉, 상기 수위감지센서는 외측 저장조(200) 내의 세정액이 역으로 상기 세정조(100) 쪽으로 역류하는 것을 방지하기 위함이다.
한편, 상기 분사노즐유닛(300)은 상기 세정조(100)의 상부에 설치되는 것으로, 상기 세정조(100)의 내벽면 및 바닥면을 향하여 세정액을 분사하는 역할을 수행한다.
즉, 상기 분사노즐유닛(300)은 상기 세정조(100) 내의 내벽면 또는 바닥면에 달라붙어 있는 불순물을 세정액 수압을 이용하여 제거할 수 있도록 하는 기능적인 효과를 제공한다.
다시 말해, 상기 세정조(100)의 내벽면 또는 바닥면에 고착화된 상태로 붙어있는 불순물을 분사노즐유닛(300)을 이용하여 제거할 수 있으므로 세척공정의 시간 및 비용을 크게 줄일 수 있는 효과가 있다.
이러한 상기 분사노즐유닛(300)은 세정조(100)의 개방된 상부의 일측과 타측에 각각 설치되는 제1 노즐부(310)와 제2 노즐부(320)로 구성되며, 상기 제1 노즐부(310)와 제2 노즐부(320)는 세정조(100)의 내벽을 향해 하향 경사지게 배치된다.
또한, 상기 제1 노즐부(310)와 제2 노즐부(320)는 상하방향으로 이격되는 복수개의 구성으로 이루어질 수 있다.
그리고, 상기 제1 노즐부(310)와 제2 노즐부(320)는 상기 세정조 내부로 진입할 수 있도록 세정조의 폭방향 길이보다 작은 길이로 제작한다.
그리고, 상기 제1 노즐부(310)와 제2 노즐부(320)는 세정조(100)의 바닥면에 대해서도 세정액 분사가 원활하게 이루어질 수 있도록 회전이 가능한 구조로 설치가 이루어진다. 아울러, 상기 제1 노즐부(310)와 제2 노즐부(320)는 상기 세정조(100)로부터 상승하는 마스크(20)를 향해 세정액을 분사할 수 있다.
여기서, 상기 제1 노즐부(310)와 제2 노즐부(320)는 마스크(20) 상승시 마스크의 상면이 세정액 밖으로 노출되기 시작하는 시점부터 마스크 하면이 노즐부의 분사 범위를 벗어날 때까지 세정액 분사가 이루어진다.
또한, 도 3에 도시한 바와 같이 상기 분사노즐유닛(300)은 상기 제1 노즐부(310)와 제2 노즐부(320)를 상하방향으로 직선이동 가능하게 하는 승강이동부재(330)를 포함한다.
이는 세정조(100) 내의 세정액 수위가 낮아지는 높이에 대응하여 상기 제1 노즐부(310)와 제2 노즐부(320)로 하강동작이 이루어질 수 있도록 하기 위함다.
이에 따라, 세정액이 배출되는 것과 동시에 세정조(100) 세척 작업을 진행할 수 있어 세정조 세척작업의 시간을 크게 단축시킬 수 있다.
그리고, 상기 승강이동부재(330)는 제1, 2 노즐부(310,320)와 세정액의 수면 사이의 거리를 감지하는 근접감지센서를 설치하거나, 세정액이 배수되는 용량에 맞추어 상기 제1, 2 노즐부(310,320)가 이동하는 거리를 산출할 수 있는 제어부를 포함한다.
또한, 상기 제1 노즐부(310)와 제2 노즐부(320)의 상부에 설치되며 상기 제1 노즐부와 제2 노즐부에 의해 세정조(100) 내벽면에 잔류하는 세정액을 제거하는 한 쌍의 에어 블로워(340)를 포함한다.
이러한 상기 에어 블로워(340)의 구성은 분사되는 세정액과 함께 공기압이 작용하여 세정조(100) 벽면에 잔존하는 불순물(파티클)과 세정액을 제거하는데 있어 한층 효과적이다.
아울러, 상기 제1 노즐부(310)와 제2 노즐부(320)에서 사용되는 세정액은 상기 순환공급수단(S)의 2차 순환공급수단(600)을 이용하여 세정조(100)로부터 세정액을 공급받게 됨으로써 세정액 사용량을 효과적으로 절감시킬 수 있다. 물론, 상기 제1 노즐부(310)와 제2 노즐부(320)는 별도의 외부 세정액 공급라인(미도시)으로부터 세정액을 공급받는 구조로 제작할 수 있는 것은 당연하다.
한편, 상기 보조탱크(400)는 상기 세정조(100)와 이격되는 외측에 설치되는 것으로, 상기 세정조(100)와 외측 저장조(200)로부터 배출되는 세정액을 임시 저장하는 역할을 수행한다.
본 발명에 따른 상기 보조탱크(400)는 상기 세정조(100)의 세정액 저장공간의 크기와 동일하거나 크게 형성한다.
상기 순환공급수단(S)은 상기 세정조(100), 세정액 공급노즐(120), 외측 저장조(200), 분사노즐유닛(300) 및 보조탱크(400)를 상호 연결하는 것으로, 세정액을 순환공급하는 역할을 수행한다.
구체적으로, 상기 순환공급수단(S)은 상기 외측 저장조(200) 내에 저장된 세정액을 상기 세정액 공급노즐(120)로 공급하거나 상기 보조탱크(400)로 공급하는 1차 순환공급수단(500)과, 상기 외측 저장조(200)와 상기 세정조(100)에 저장된 세정액을 상기 보조탱크(400)로 드레인한 후 상기 보조탱크(400)에 저장된 세정액을 상기 세정조(100)의 상부 또는 하부의 세정액 공급노즐(120)로 공급하는 2차 순환공급수단(600)으로 구성된다.
상기 1차 순환공급수단(500)은 상기 외측 저장조(200), 세정액 공급노즐(120), 세정조(100) 및 보조탱크(400)를 서로 연결하는 1차 세정액 라인(510)과, 상기 1차 세정액 라인(510)에 연결되는 1차 개폐밸브(520)와, 상기 1차 개폐밸브(520)를 통해 유입되는 세정액을 압송시키는 1차 펌프(530)와, 상기 1차 펌프(530)에 의해 압송되는 세정액 내의 포함된 불순물을 필터링하는 1차 필터(540)로 구성된다.
상기 1차 세정액 라인(510)은 외측 저장조(200), 세정액 공급노즐(120), 세정조(100) 및 보조탱크(400) 사이를 연결하는 것으로, 내부 통로를 통해 세정액을 이송시킬 수 있는 중공의 파이프 구조물이다.
상기 1차 개폐밸브(520)는 상기 외측 저장조(200)와 세정조(100)로부터 각각 분기되어 연장되는 1차 세정액 라인(510)의 일측 연결지점에 설치되는 것으로, 외측 저장조(200)와 세정조(100) 내의 세정액을 선택적 또는 동시에 개폐단속할 수 있다.
상기 1차 펌프(530)는 상기 1차 개폐밸브(520)를 통해 유입되는 세정액이 한층 원활하게 배출이 이루어질 수 있도록 압력을 발생시키는 구성요소이다.
상기 1차 필터(540)는 상기 1차 펌프(530)의 후방에 설치되는 것으로, 압송되는 세정액 내의 포함된 불순물을 필터링하여 정화된 세정액을 다시 세정조 또는 분사노즐유닛으로 공급할 수 있도록 정화하는 기능을 수행하며, 고형의 파티클 제거가 유용한 다공성 또는 직조 형태의 것으로 제작하는 것이 바람직하다.
즉, 상기 1차 순환공급수단(500)의 구성에 의해 상기 세정조(100) 및 외측 저장조(200)에 저장된 세정액을 모두 정화시킨 상태에서 상기 세정조(100) 또는 보조탱크(400)로 이송시킬 수 있다.
상기 2차 순환공급수단(600)은 상기 보조탱크(400)와 분사노즐유닛(300) 사이를 연결하는 2차 세정액 라인(6510)과, 상기 2차 세정액 라인(610)에 연결되는 2차 펌프(620)와, 상기 2차 펌프(620)를 통과한 세정액 내의 불순물을 필터링하는 2차 필터(630)로 구성된다.
상기 2차 필터(630) 역시 고형의 파티클 제거가 유용한 다공성 또는 직조 형태의 것으로 제작하는 것이 바람직하다.
이러한 상기 2차 순환공급수단(600)은 앞서 설명은 1차 순환공급수단(500)과 동일 내지 유사한 구성이므로 그 구체적인 구성 및 작용설명은 생략한다.
아울러, 상기 세정액 공급노즐(120)은 1차 순환공급수단(500)과 2차 순환공급수단(600)을 상호 연결하는 상태로 설치가 이루어짐에 따라 세정액을 보조탱크(400)로 이송시키지 않고 상기 세정조(100) 또는 분사노즐유닛(300) 쪽으로 다이렉트 공급할 수 있다.
그리고, 상기 세정액 공급노즐(120)의 양단부에는 세정액의 이동 경로를 결정하는 1차 전환밸브(121)와 2차 전환밸브(122)가 설치된다.
이하, 본 발명의 실시예에 따른 마스크 세정조 불순물 제거용 순환방법에 대하여 설명한다.
먼저, 세정조(100) 및 외측 저장조(200) 내의 세정액을 보조탱크(400)로 배출시키는 단계(S100)를 진행한다.
세정액 배출은 1차 순환공급수단(500)의 1차 개폐밸브(520)를 조작하는 것에 의해 달성할 수 있다.
이후, 세정액 배출을 완료 또는 배출하는 과정에서 세정조(100) 상부에 설치되는 노즐이 세정조 내벽면을 향해 직선이동 하는 과정에서 세정액을 분사하는 단계(S200)를 진행한다.
세정액 배출과 동시에 세정액을 분사하는 경우, 세정조 내의 세정액 수위가 낮아지는 높이에 대응하여 상기 노즐이 함께 하강 동작하는 단계(S300)를 진행한다.
이때, 상기 세정액의 분사유량은 세정액이 배출 유량보다 낮은 상태로 진행하는 것이 바람직하다.
여기서, 분사되는 세정은 상기 세정조(100) 또는 보조탱크(400)의 세정액을 순환시키는 것에 의해 이루어진다.
그리고, 노즐로부터 분사되는 세정액은 상기 세정조(100)의 내벽면과 바닥면을 동시에 향하도록 회전 분사가 이루어지도록 한다.
또한, 상기 세정액 분사시 에어 블로워(340)가 동작하여 공기 분사가 함께 수행될 수 있도록 한다.
그 다음, 세정조의 내벽면 및 바닥면에 대한 세척작업이 완료되면 상기 보조탱크(400) 내에 저장된 세정액은 2차 순환공급수단(600)을 통해 세정조(100)로 이송하는 단계(S400)를 진행함으로써 마스크 세정조 불순물 제거용 순환방법을 완료한다.
이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면들에 의해 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형, 및 변경이 가능함은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.
100 : 세정조 200 : 외측 저장조
300 : 분사노즐유닛 400 : 보조탱크
S : 순환공급수단 500 : 1차 순환공급수단
600 : 2차 순환공급수단

Claims (17)

  1. 마스크 세정을 위한 세정액이 저장되는 세정조;
    상기 세정조의 하면 부근에 설치되어 세정액을 세정조에 공급하는 세정액 공급노즐;
    상기 세정조의 외측 둘레방향에 설치되며 상기 세정조로부터 오버플로우되는 세정액을 임시 저장하는 외측 저장조;
    상기 세정조와 이격되는 외측에 설치되며 상기 세정조와 외측 저장조로부터 배출되는 세정액을 저장하는 보조탱크;
    상기 세정조, 외측 저장조 및 보조탱크를 상호 연결하여 세정액을 순환시키는 순환공급수단을 포함하며,
    상기 세정조의 상부에는 상기 세정조의 내벽면 및 바닥면 또는 마스크를 향하여 세정액을 분사하는 분사노즐유닛이 설치되고,
    상기 분사노즐유닛은 세정조의 개방된 상부의 일측과 타측에 각각 설치되는 제1 노즐부와 제2 노즐부로 구성되며, 상기 제1 노즐부와 제2 노즐부는 상하방향으로 이격되는 복수개의 구성으로 이루어지고,
    상기 분사노즐유닛에는 상기 제1 노즐부와 제2 노즐부를 세정조의 외측으로부터 내측으로 진입이 이루어질 수 있도록 상하방향으로 직선이동 가능하게 하는 승강이동부재가 설치되며
    상기 제1 노즐부와 제2 노즐부의 상부에 설치되며 공기압을 이용하여 세정조 벽면에 잔존하는 불순물을 제거하는 것과 동시에 상기 제1 노즐부와 제2 노즐부로부터 분사되어 세정조 내벽면에 잔류하는 세정액을 제거하는 한 쌍의 에어 블로워를 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 마스크 세정조 불순물 제거용 순환장치.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 제1항에 있어서,
    상기 제1 노즐부와 제2 노즐부는 상기 세정조로부터 상승하는 마스크를 향해 세정액을 분사할 수 있도록 회전하는 것을 특징으로 하는 마스크 세정조 불순물 제거용 순환장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 제1 노즐부와 제2 노즐부는 마스크 상승시 마스크의 상면이 세정액 밖으로 노출되기 시작하는 시점부터 마스크 하면이 노즐부의 분사 범위를 벗어날 때까지 세정액이 분사되는 것을 특징으로 하는 마스크 세정조 불순물 제거용 순환장치.
  7. 삭제
  8. 삭제
  9. 삭제
  10. 제1항, 제5항, 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 순환공급수단은,
    상기 외측 저장조 내에 저장된 세정액을 상기 세정액 공급노즐로 공급하거나 상기 보조탱크로 공급하는 1차 순환공급수단; 및,
    상기 외측 저장조와 상기 세정조에 저장된 세정액을 상기 보조탱크로 드레인한 후 상기 보조탱크에 저장된 세정액을 상기 세정조의 상부 또는 하부의 세정액 공급노즐로 공급하는 2차 순환공급수단으로 구성된 것을 특징으로 하는 마스크 세정조 불순물 제거용 순환장치.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 1차 순환공급수단과 2차 순환공급수단에는 세정액 내의 포함된 불순물을 필터링하는 1차 필터와 2차 필터가 각각 설치되며,
    상기 1차 필터와 2차 필터는 고형의 파티클을 제거하기 위한 다공성 또는 직조 형태의 구성인 것을 특징으로 하는 마스크 세정조 불순물 제거용 순환장치.
  12. 세정조 및 외측 저장조 내의 세정액을 보조탱크로 배출시키는 단계;
    세정액 배출을 완료 또는 배출하는 과정에서 세정조 상부에 설치되는 노즐이 세정조 내벽면을 향해 직선이동 하는 과정에서 세정액을 분사하는 단계; 및,
    세정조의 내벽면 및 바닥면에 대한 세척작업이 완료된 후 상기 보조탱크 내에 저장된 세정액을 다시 세정조로 이송하는 단계를 포함하되,
    상기 세정액을 분사하는 단계는 세정액 배출과 동시에 세정액을 분사하는 경우, 상기 세정조 내의 세정액 수위가 낮아지는 높이에 대응하여 상기 노즐이 하강 동작하는 단계를 포함하며,
    상기 노즐은 세정액이 상기 세정조의 내벽면과 바닥면을 향하도록 회전 분사가 이루어지고, 세정액 분사시 에어 블로워의 공기 분사가 함께 이루어지는 것을 특징으로 하는 마스크 세정조 불순물 제거용 순환방법.
  13. 삭제
  14. 제12항에 있어서,
    상기 세정액의 분사유량은 세정액이 배출 유량보다 낮은 것을 특징으로 하는 마스크 세정조 불순물 제거용 순환방법.
  15. 제12항 또는 제14항에 있어서,
    상기 노즐을 통해 배출되는 세정액은 세정조 또는 보조탱크 내의 세정액을 순환시키는 것에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 마스크 세정조 불순물 제거용 순환방법.
  16. 삭제
  17. 삭제
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102597891B1 (ko) * 2020-12-01 2023-11-06 주식회사 효산 프레임 일체형 마스크의 제조 시스템 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002231681A (ja) 2001-01-12 2002-08-16 Samsung Electronics Co Ltd 半導体ウェーハ洗浄システム及びその洗浄液供給方法
JP3336223B2 (ja) * 1997-04-15 2002-10-21 東京エレクトロン株式会社 洗浄システム及び洗浄方法
JP2004262044A (ja) * 2003-02-28 2004-09-24 Calsonic Kansei Corp マスク洗浄装置
JP2005087804A (ja) 2003-09-12 2005-04-07 Nankai Kogyo Kk 容器及び管状体の洗浄方法
JP2007201330A (ja) 2006-01-30 2007-08-09 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01303724A (ja) * 1988-06-01 1989-12-07 Hitachi Ltd 湿式洗浄方法及び洗浄装置
JP2003290724A (ja) * 2002-02-04 2003-10-14 Fuji Xerox Co Ltd 円筒状基材の洗浄方法、洗浄装置及び円筒状基材並びに電子写真感光体の製造方法
KR20070033129A (ko) * 2005-09-20 2007-03-26 세메스 주식회사 웨이퍼용 척 세정장치
JP4841484B2 (ja) * 2007-03-27 2011-12-21 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置
KR20090015771A (ko) * 2007-08-08 2009-02-12 주식회사 동진쎄미켐 고체-액체 분리 여과장치 및 여과방법
KR20090032288A (ko) * 2007-09-27 2009-04-01 세메스 주식회사 약액 처리장치 및 그 세정 방법
KR101145850B1 (ko) 2010-11-22 2012-05-17 주식회사 케이씨텍 마스크 세정장치
KR20180029294A (ko) * 2016-09-12 2018-03-21 주식회사 케이씨텍 마스크 세정 장치

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3336223B2 (ja) * 1997-04-15 2002-10-21 東京エレクトロン株式会社 洗浄システム及び洗浄方法
JP2002231681A (ja) 2001-01-12 2002-08-16 Samsung Electronics Co Ltd 半導体ウェーハ洗浄システム及びその洗浄液供給方法
JP2004262044A (ja) * 2003-02-28 2004-09-24 Calsonic Kansei Corp マスク洗浄装置
JP2005087804A (ja) 2003-09-12 2005-04-07 Nankai Kogyo Kk 容器及び管状体の洗浄方法
JP2007201330A (ja) 2006-01-30 2007-08-09 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置

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