KR20200029121A - U턴형 및 수접촉 증가 충진재를 포함하는 반도체 공정중 발생되는 이소프로필 알코올 제거장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 U턴형 및 수접촉 증가 충진재를 포함하는 반도체 공정중 발생되는 이소프로필 알코올 제거장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 반도체 공정 중 발생되는 처리대상가스 내에서 이소프로필 알코올를 효과적으로 제거하기 위한 것으로서, 처리대상가스가 상승 및 유턴하여 하강하는 이동을 하면서, 상승과 하강시 각기 다른 형태로 분사되는 처리수에 의해 여과되면서, 충진층을 통해 수접촉면적 및 시간 또한 증가되어 제거효율이 더욱 상승되도록 장치를 구성한 U턴형 및 수접촉 증가 충진재를 포함하는 반도체 공정중 발생되는 이소프로필 알코올 제거장치에 관한 것이다.

Description

U턴형 및 수접촉 증가 충진재를 포함하는 반도체 공정중 발생되는 이소프로필 알코올 제거장치{A device for removing isopropyl alcohol from a semiconductor process comprising a U-turn type and water contact filler}
본 발명은 반도체 공정중 발생되는 처리대상가스에서 이소프로필 알코올을 손쉽고 용이하게 제거할 수 있도록 하는 U턴형 및 수접촉 증가 충진재를 포함하는 반도체 공정중 발생되는 이소프로필 알코올 제거장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체의 원재료인 웨이퍼는 여러 과정의 공정을 거쳐 제작되며 이에따라 각 공정을 마친 웨이퍼는 물세척되어 공정상의 불순물이 제거된 후 건조장치에서 건조된다.
이러한 종래의 건조장치는 일반적으로 저부에 이소프로필 알코올이 담긴 공정 챔버와, 상기 공정 챔버의 상부 내측면에 형성되어 증기화된 이소프로필 알코올을 냉각시키는 냉각관과, 상기 공정 챔버내에 웨이퍼를 이동시키는 이송암과, 상기 이소프로필 알코올이 증기화되어 형성하는 IPA증기층으로 구성된다.
상기 건조장치내에서 웨이퍼의 건조과정은 이소프로필 알코올이 약 78℃이상의 온도로 가열되어 IPA증기층이 형성된 상태에서 공정 챔버내에 웨이퍼가 장착된 이송암을 이동시켜 웨이퍼를 증기층에 위치시킨다.
이때 증기화된 이소프로필 알코올이 웨이퍼의 표면에 부착된 물분자와 상호 반응하여 수분을 제거하므로써 웨이퍼를 건조하게 되는 것이다.
이에, 이렇게 사용된 이소프로필 알코올을 용이하게 제거할 수 있도록 하는 장치에 관한 개발 또한 필요한 실정이다.
대한민국 공개실용신안공보 실1999-0014665(1999.05.06.공개)
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 반도체 공정 중 사용되는 처리대상가스 내의 이소프로필 알코올을 손쉽고 용이하게 제거하기 위한 것으로서, 처리대상가스가 상향류로와 하향류로를 유턴하며 상승 및 하강하며 이동하도록 하고, 이동시에 상향류로와 하향류로 각각에서 분사되는 분사장치의 노즐 직경을 달리하여, 처리대상가스에서 이소프로필 알코올이 처리수에 여과(치환)되어 쉽게 분리될 수 있도록 하며, 이러한 처리수와 처리대상가스의 수접촉면적 및 시간을 증가시키기 위해, 처리대상가스가 이동되는 층마다 충진층이 형성되어 있도록 한 U턴형 및 수접촉 증가 충진재를 포함하는 반도체 공정중 발생되는 이소프로필 알코올 제거장치를 제공하는데 있다.
본 발명의 다른 목적 및 장점들은 하기에 설명될 것이며, 본 발명의 실시예에 의해 알게 될 것이다. 또한, 본 발명의 목적 및 장점들은 특허청구범위에 나타낸 수단 및 조합에 의해 실현될 수 있다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 수단으로서,
반도체 공정중 발생되는 처리대상가스 내 이소프로필 알코올을 제거하는 것으로, 중앙에 형성된 격벽에 의해, 내부 좌/우측이 상향류로(32)와 하향류로(42)로 구획되어지며, 내부 상단은 상향류로(32)와 하향류로(42)가 연통되어, 상향류로(32)측에 공급되어 상향류로(32)를 따라 상승이동하는 이소프로필 알코올과 N2가 혼합된 처리대상가스가, 상기 하향류로(42)로 유턴되어 하강이동되도록 하는 하우징(10); 상기 하우징(10)의 내부에 형성되어, 처리수가 저장되어 있으며, 상향류로(32)측에는 처리대상가스가 유입되는 유입구(21)와, 하향류로(42)측에는 처리대상가스가 배출되는 배출구(22)가 형성되는 공급/배출층(20); 상기 공급/배출층(20)의 상단측 상향류로(32)에 다수층으로 형성되어, 각 층을 상향이동하는 처리대상가스가, 각 층의 제 1분사부(31)에 의해 분사되는 처리수에 의해 이소프로필 알코올이 여과되도록 하는 상향류 여과층(30); 상기 공급/배출층(20)의 상단측 하향류로(42)에 다수층으로 형성되어, 상향류 여과층(30)에서 유턴되어 이동된 처리대상가스가, 각 층을 하향이동하면서 각 층의 제 2분사부(41)에 의해 분사되는 처리수에 의해 이소프로필 알코올이 여과되도록 하는 하향류 여과층(40); 상기 상향류 여과층(30) 및 하향류 여과층(40)의 각 층 바닥에는, 처리대상가스와 처리수 상호간의 수접촉면적 및 수접촉시간을 증가시켜, 처리대상가스에서 이소프로필 알코올이 처리수에 의해 분리배출될 수 있도록 충진재(51)로 채워지는 충진층(50); 으로 이루어지는 것을 특징으로 한다.
이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명은 반도체 공정중 발생되는 처리대상가스 내 이소프로필 알코올을 손쉽고 효율적으로 제거할 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명은 처리대상가스가 상승이동 후, 유턴되면서 하강이동되면서 내부의 이소프로필 알코올이 처리수에 의해 용이하게 여과되어 제거될 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명은 처리대상가스 내 이소프로필 알코올이 처리수에 의해 용이하게 제거됨과 동시에, 이동층마다 충진재로 채워지는 충진층이 형성되어, 수접촉면적 및 수접촉시간이 증대되어, 이소프로필 알코올의 처리효율이 상승되는 효과가 있다.
도 1은 본 발명에 따른 U턴형 및 수접촉 증가 충진재를 포함하는 반도체 공정중 발생되는 이소프로필 알코올 제거장치를 나타낸 일실시예의 내부 정면도.
도 2는 도 1의 후면도.
도 3은 본 발명에 따른 U턴형 및 수접촉 증가 충진재를 포함하는 반도체 공정중 발생되는 이소프로필 알코올 제거장치의 사용모습을 나타낸 일실시예의 도면.
도 4는 본 발명에 따른 충진재를 나타낸 일실시예의 도면.
본 발명의 여러 실시예들을 상세히 설명하기 전에, 다음의 상세한 설명에 기재되거나 도면에 도시된 구성요소들의 구성 및 배열들의 상세로 그 응용이 제한되는 것이 아니라는 것을 알 수 있을 것이다. 본 발명은 다른 실시예들로 구현되고 실시될 수 있고 다양한 방법으로 수행될 수 있다. 또, 장치 또는 요소 방향(예를 들어 "전(front)", "후(back)", "위(up)", "아래(down)", "상(top)", "하(bottom)", "좌(left)", "우(right)", "횡(lateral)")등과 같은 용어들에 관하여 본원에 사용된 표현 및 술어는 단지 본 발명의 설명을 단순화하기 위해 사용되고, 관련된 장치 또는 요소가 단순히 특정 방향을 가져야 함을 나타내거나 의미하지 않는다는 것을 알 수 있을 것이다. 또한, "제 1(first)", "제 2(second)"와 같은 용어는 설명을 위해 본원 및 첨부 청구항들에 사용되고 상대적인 중요성 또는 취지를 나타내거나 의미하는 것으로 의도되지 않는다.
본 발명은 상기의 목적을 달성하기 위해 아래의 특징을 갖는다.
이하 첨부된 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하도록 한다. 이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.
따라서, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형 예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.
본 발명에 따른 일실시예를 살펴보면,
반도체 공정중 발생되는 처리대상가스 내 이소프로필 알코올을 제거하는 것으로, 중앙에 형성된 격벽(11)에 의해, 내부 좌/우측이 상향류로(32)와 하향류로(42)로 구획되어지며, 내부 상단은 상향류로(32)와 하향류로(42)가 연통되어, 상향류로(32)측에 공급되어 상향류로(32)를 따라 상승이동하는 이소프로필 알코올과 N2가 혼합된 처리대상가스가, 상기 하향류로(42)로 유턴되어 하강이동되도록 하는 하우징(10); 상기 하우징(10)의 내부에 형성되어, 처리수가 저장되어 있으며, 상향류로(32)측에는 처리대상가스가 유입되는 유입구(21)와, 하향류로(42)측에는 처리대상가스가 배출되는 배출구(22)가 형성되는 공급/배출층(20); 상기 공급/배출층(20)의 상단측 상향류로(32)에 다수층으로 형성되어, 각 층을 상향이동하는 처리대상가스가, 각 층의 제 1분사부(31)에 의해 분사되는 처리수에 의해 이소프로필 알코올이 여과되도록 하는 상향류 여과층(30); 상기 공급/배출층(20)의 상단측 하향류로(42)에 다수층으로 형성되어, 상향류 여과층(30)에서 유턴되어 이동된 처리대상가스가, 각 층을 하향이동하면서 각 층의 제 2분사부(41)에 의해 분사되는 처리수에 의해 이소프로필 알코올이 여과되도록 하는 하향류 여과층(40); 상기 상향류 여과층(30) 및 하향류 여과층(40)의 각 층 바닥에는, 처리대상가스와 처리수 상호간의 수접촉면적 및 수접촉시간을 증가시켜, 처리대상가스에서 이소프로필 알코올이 처리수에 의해 분리배출될 수 있도록 충진재(51)로 채워지는 충진층(50); 으로 이루어지는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 제 1분사부(31)는 처리수가 미스트 형태로 분사되도록 하여, 처리대상가스가 처리수와의 접촉이 용이토록 하고, 상기 제 2분사부(41)의 처리수는 제 1분사부(31)의 처리수(미스트)보다 상대적으로 큰 직경의 물방울형태로 분사되도록 하여, 처리대상가스와 처리수가 용이하게 분리될 수 있도록 하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 공급/배출층(20)은 처리수가 내부가 저장된 후, 상기 제 1, 2분사부(31, 41)에 처리수를 공급하여 분사되도록 한 후, 처리대상가스 내 이소프로필 알코올을 여과한 처리수는 공급/배출층(20)으로 다시 낙하되어, 일부는 외부로 배출되면서 제 1, 2분사부(31, 41)에 재사용되는 순환이 반복되도록 하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 공급/배출층(20)은 상기 유입구(21)와 배출구(22)의 위치보다 낮은 위치에, 상기 처리수가 사전설정수위로 저장되어 있도록 수위를 측정하는 수위측정부(23); 상기 하우징(10)의 하단에 설치되어, 처리수를 유입시키는 유입라인(24); 상기 하우징(10)의 하단에 설치되어, 공급/배출층(20)의 처리수가 사전설정수위보다 높은 경우 또는 처리대상가스 내 이소프로필 알코올이 치환되어 함유되어 낙하된 처리수를 배수시키는 배수라인(25); 상기 하우징(10)의 하단에 설치되어, 상기 제 1, 2분사부(31, 41)에 처리수를 공급하는 펌프부(26); 상기 배출구(22)에 설치되어, 배출되는 처리대상가스의 N2 가스농도를 측정하는 가스 탐지기(27); 가 더 구비되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 가스 탐지기(27)는 상기 N2가 사전설정량 또는 사전설정농도보다 높게 배출되는 경우, 상기 제 1, 2분사부(31, 41)의 노즐의 막힘여부 또는 처리수의 수위를 체크하도록 경고하도록 하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 하우징(10)은 처리대상가스가 대용량인 경우, 상기 처리대상가스가 공급되는 저장탱크(T)에 다수개가 병렬로 연결되어 사용되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 충진재(51)는 원형의 구 형상을 가지되, 내부가 비어있는 수직형태의 관(52); 상기 관(52)의 외측 중단에 이격되어 링 형태로 수평설치되는 링(53); 상기 관(52)의 상단에 일측이 연결되고, 타측은 호 형상을 가지며 '∧'자 형태로 분기되어 링(53)의 내측 상면에 연결되되, 다수개가 상호간 소정간격 이격형성되는 제 1외관(54); 상기 관(52)의 하단에 일측이 연결되고, 타측은 호 형상을 가지며 '∨'자 형태로 분기되어 링(53)의 내측 저면에 연결되고, 다수개가 상호간 소정간격 이격형성되되, 링(53)의 상, 하측에 제 1외관(54)과 교번을 이루며 형성되도록 하는 제 2외관(55); 상기 제 1외관(54)의 '∧'자 형상 내측에 '∨'자 형태로 형성되는 제 1부가편(56); 상기 제 2외관(55)의 '∨'자 형상 내측에 '∧'자 형태로 형성되는 제 2부가편(57); 으로 구성되는 것을 특징으로 한다.
이하, 도 1 내지 도 4를 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 U턴형 및 수접촉 증가 충진재를 포함하는 반도체 공정중 발생되는 이소프로필 알코올 제거장치를 상세히 설명하도록 한다.
본 발명에 따른 U턴형 및 수접촉 증가 충진재를 포함하는 반도체 공정중 발생되는 이소프로필 알코올 제거장치(100)는, 반도체 공정중 발생되는 처리대상가스 내 이소프로필 알코올을 제거하기 위한 것으로, 일정량의 처리수(D.I.W(H2O), Deionized Water)를 공급하는 수공급식 처리장치로, 반도체 공정에서 이소프로필 알코올(I.P.A (isopropyl alcohol))을 이용한 다양한 공정을 수행할때 처리된 이소프로필 알코올의 증기가 외부로 유출되지 않도록, 공급되는 처리수에 치환하여 줌으로서, 같이 공급된 GAS(N2)만 배출시키고, 공정에 사용된 유기용매(이소프로필 알코올)는 공급된 물과 섞이면서 물에 같이 녹아 외부(폐수처리장 등)으로 보내도록 하는 것으로, 하우징(10), 공급/배출층(20), 상향류 여과층(30), 하향류 여과층(40), 충진층(50)을 포함한다.
상기 하우징(10)은 내부가 비어있는 함체로써, 중앙에는 수직으로 설치되어, 내부 좌/우측이 상향류로(32)와 하향류로(42)로 구획되어지도록 하면서, 상향류로(32)와 하향류로(42)가 상, 하단측에서는 연통되도록 하는 격벽(11)이 내부에 설치되어 있다.
즉, 내부 상단은 상향류로(32)와 하향류로(42)가 연통되어, 상향류로(32)측에 하단에서 공급되어 상향류로(32)의 길이방향을 따라 상승이동하는 이소프로필 알코올과 N2가 혼합된 처리대상가스가, 하우징(10)의 내부 상단에서 상기 하향류로(42)로 유턴되어 하강이동되도록 구성한 것이다.
상기 공급/배출층(20)은 하우징(10)의 내부 하단에 형성되는 것으로서, 처리대상가스(이소프로필 알코올 + N2)가 유입되는 유입구(21)가 상향류로(32)측 하단에 형성되어 있고, 상향류로(32)와 하향류로(42)를 이동되면서 처리수 및 후술될 충진층(50)에 의해 여과된 처리대상가스(처리대상가스는 상향류로(32)와 하향류로(42)를 이동하면서 대부분의 이소프로필 알코올이 처리수에 치환되어 처리수와 함께 공급/배출층(20)에 낙하되어, N2 가스만 남게된다.)가 배출되어지는 배출구(22)가 하향류로(42)측 하단에 형성되어 있도록 한다.
즉, 공급/배출층(20)에는 처리수가 내부가 저장된 후, 상기 제 1, 2분사부(31, 41)에 처리수를 공급하여 분사되도록 한 후, 처리대상가스 내 이소프로필 알코올을 여과한 처리수는 공급/배출층(20)으로 다시 낙하되어, 일부는 외부로 배출되고, 일부는 펌프부(26)에 의해 제 1, 2분사부(31, 41)에 재사용되는 순환(외부 배출로 처리수의 수위가 사전설정수위보다 낮아지게 되면, 외부에서 새로운 처리수가 공급되어진다.)이 반복되도록 하는 것이다.
더불어, 이러한 공급/배출층(20)에는 전술된 유입구(21)나 배출구(22)보다 상대적으로 낮은 위치에 처리수가 사전설정수위로 저장되어 있도록 한다.
더불어, 이러한 공급/배출층(20)에는 수위측정부(23), 유입라인(24), 배수라인(25), 펌프부(26), 가스 탐지기(27) 등이 설치되어 있도록 한다.
상기 수위측정부(23)는 전술된 상기 유입구(21)와 배출구(22)의 위치보다 낮은 위치에, 상기 처리수가 사전설정수위로 저장되어 있는지 수위를 측정하는 것이며,
상기 유입라인(24)은 하우징(10)의 하단에 설치되어, 처리수를 유입시키는 것으로, 상기 배수라인(25)은 하우징(10)의 하단에 설치되어, 공급/배출층(20)의 처리수가 사전설정수위보다 높은 경우 또는 처리대상가스 내 이소프로필 알코올이 치환되어 함유되어 낙하된 처리수를 배수시키는 것(사용자의 실시예에 따라, 공급/배출층(20) 내의 처리수를 강제로 외부로 배출시키는 강제배출라인과, 공급/배출층(20) 내의 수위가 사전설정수위보다 높을 경우 외부로 자동배출시키는 드레인라인으로 구분하여 구성될 수도 있음이다.)으로, 수위측정부(23)의 측정에 따라, 유입라인(24) 및 배수라인(25)의 모터가 작동되면서, 처리수가 내부에 공급 또는 외부로 배출되어, 항시 공급/배출층(20) 내부의 처리수 수위가 사전설정수위로 유지될 수 있도록 한다. 물론, 전술된 바와 같이 공급/배출층(20)의 상향류로(32)와 하향류로(42)는 연통되어 있지만, 이는 사용자의 실시예에 따라, 각기 분리되도록 궝하여, 유입라인(24)과 배수라인(25) 및 수위측정부(23)를 각각 형성하도록 할 수도 있음이다.
상기 펌프부(26)는 하우징(10)의 하단에 설치되어, 공급/배출층(20) 내부에서부터 상기 제 1, 2분사부(31, 41)까지 각각 연결된 연결라인(L1)을 통해 처리수를 공급하는 것이며, 상기 가스 탐지기(27)는 배출구(22)에 설치되어, 배출되는 처리대상가스의 N2 가스 농도를 측정하도록 한 것이다. 즉, 상기 가스 탐지기(27)는 제 1, 2분사부(31, 41)를 통해, 상향류로(32)와 하향류로(42)를 거친 처리대상가스에서, 처리수에 의해 이소프로필 알코올이 제거되고 남은 N2 가스가 사전설정량 또는 사전설정농도보다 높게 배출되는 경우, 이소프로필 알코올의 제거가 되고 있지 않은 것으로 판단하여, 상기 제 1, 2분사부(31, 41)의 노즐의 막힘여부 또는 처리수의 수위를 체크하도록 사용자 및 작업자에게 경고하도록 한다.
상기 상향류 여과층(30)은 전술된 공급/배출층(20)의 상단측 상향류로(32)에 다수층으로 형성되어, 각 층을 순차적으로 상향이동하는 처리대상가스가, 각 층 내부에 설치된 제 1분사부(31)에 의해 분사되는 처리수에 의해, 이소프로필 알코올이 처리수에 섞이면서 녹아 치환되어 여과되도록 하는 것이다.
또한, 이러한 상기 상향류 여과층(30)의 각 층에 형성된 제 1분사부(31)는, 처리수가 미스트 형태로 분사되도록 하여, 처리대상가스(더욱 자세히는 이소프로필 알코올)가 처리수와의 접촉이 용이토록 한다.
상기 하향류 여과층(40)은 전술된 상향류 여과층(30)과 동일한 구조이되, 상기 공급/배출층(20)의 상단측 하향류로(42)에 다수층으로 형성되어, 상향류 여과층(30)에서 유턴되어 이동된 처리대상가스가, 각 층을 하향이동하면서 각 층의 제 2분사부(41)에 의해 분사되는 처리수에 의해 이소프로필 알코올이 여과되도록 하는 것이다.
또한, 상기 하향류 여과층(40)의 각 층에 형성된 제 2분사부(41)는, 제 1분사부(31)의 처리수보다 상대적으로 큰 직경의 물방울형태로 분사되도록, 분사노즐 직경이 제 1분사부(31)의 분사노즐 직경보다 크도록 형성함으로써, 처리대상가스(이소프로필 알코올이 처리수에 치환된 이후 남은 N2)와 처리수(이소프로필 알코올이 포함된 처리수)가 용이하게 분리될 수 있도록 한다.
상기 충진층(50)은 전술된 상향류 여과층(30) 및 하향류 여과층(40)을 이루는 각 다수개 층들의 바닥마다 형성되어 있는 것으로서, 처리대상가스와 처리수 상호간의 수접촉면적 및 수접촉시간을 증가시켜, 처리대상가스에서 이소프로필 알코올이 처리수에 의해 분리배출될 수 있도록 충진재(51)로 채워지는 층이다.
물론 이러한 충진재(51)가 채워지도록 다수의 층을 이루는데, 이러한 충진재(51)를 거치할 수 있도록 하우징(10)의 내벽에 거치돌기가 형성되어, 이러한 거치돌기에 충진층(50)을 올려놓는 구조(또는 거치돌기 대신 망형태의 판재를 설치할 수도 있음이다.)를 가짐으로써, 상향류 여과층(30) 및 하향류 여과층(40)이 다수의 층으로 구획되어질 수 있음이다.
이러한 본 발명의 충진재(51)는 원형의 구 형상을 가지되, 내부가 비어있는 수직형태의 관(52), 상기 관(52)의 외측 중단에 이격되어 링 형태로 수평설치되는 링(53), 상기 관(52)의 상단에 일측이 연결되고, 타측은 호 형상을 가지며 '∧'자 형태로 분기되어 링(53)의 내측 상면에 연결되되, 다수개가 상호간 소정간격 이격형성되는 제 1외관(54), 상기 관(52)의 하단에 일측이 연결되고, 타측은 호 형상을 가지며 '∨'자 형태로 분기되어 링(53)의 내측 저면에 연결되고, 다수개가 상호간 소정간격 이격형성되되, 링(53)의 상, 하측에 제 1외관(54)과 교번을 이루며 형성되도록 하는 제 2외관(55), 상기 제 1외관(54)의 '∧'자 형상 내측에 '∨'자 형태로 형성되는 제 1부가편(56), 상기 제 2외관(55)의 '∨'자 형상 내측에 '∧'자 형태로 형성되는 제 2부가편(57)으로 구성되어지는 형태를 가지도록 한다.
더불어, 상기와 같은 구성을 가지는 본 발명의 장치(U턴형 및 수접촉 증가 충진재(51)를 포함하는 반도체 공정중 발생되는 이소프로필 알코올 제거장치(100))(또는 하우징(10))는 처리대상가스가 대용량인 경우, 상기 처리대상가스가 공급되는 저장탱크(T)에 다수개가 병렬로 연결되어 사용되도록 할 수 있음이다.
이상과 같이, 본 발명은 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 이것에 의해 한정되지 않으며 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 본 발명의 기술 사상과 아래에 기재될 특허청구범위의 균등범위 내에서 다양한 수정 및 변경이 가능함은 물론이다.
10: 하우징 11: 격벽
20: 공급/배출층 21: 유입구
22: 배출구 23: 수위측정부
24: 유입라인 25: 배수라인
26: 펌프부 27: 가스 탐지기
30: 상향류 여과층 31: 제 1분사부
32: 상향류로 40: 하향류 여과층
41: 제 2분사부 42: 하향류로
50: 충진층 51: 충진재
52: 관 53: 링
54: 제 1외관 55: 제 2외관
56: 제 1부가편 57: 제 2부가편
T: 저장탱크
DIW: 처리수
IPG: 이소프로필 알코올

Claims (7)

  1. 반도체 공정중 발생되는 처리대상가스 내 이소프로필 알코올을 제거하는 것으로,
    중앙에 형성된 격벽(11)에 의해, 내부 좌/우측이 상향류로(32)와 하향류로(42)로 구획되어지며, 내부 상단은 상향류로(32)와 하향류로(42)가 연통되어, 상향류로(32)측에 공급되어 상향류로(32)를 따라 상승이동하는 이소프로필 알코올과 N2가 혼합된 처리대상가스가, 상기 하향류로(42)로 유턴되어 하강이동되도록 하는 하우징(10);
    상기 하우징(10)의 내부에 형성되어, 처리수가 저장되어 있으며, 상향류로(32)측에는 처리대상가스가 유입되는 유입구(21)와, 하향류로(42)측에는 처리대상가스가 배출되는 배출구(22)가 형성되는 공급/배출층(20);
    상기 공급/배출층(20)의 상단측 상향류로(32)에 다수층으로 형성되어, 각 층을 상향이동하는 처리대상가스가, 각 층의 제 1분사부(31)에 의해 분사되는 처리수에 의해 이소프로필 알코올이 여과되도록 하는 상향류 여과층(30);
    상기 공급/배출층(20)의 상단측 하향류로(42)에 다수층으로 형성되어, 상향류 여과층(30)에서 유턴되어 이동된 처리대상가스가, 각 층을 하향이동하면서 각 층의 제 2분사부(41)에 의해 분사되는 처리수에 의해 이소프로필 알코올이 여과되도록 하는 하향류 여과층(40);
    상기 상향류 여과층(30) 및 하향류 여과층(40)의 각 층 바닥에는, 처리대상가스와 처리수 상호간의 수접촉면적 및 시간을 증가시켜, 처리대상가스에서 이소프로필 알코올이 처리수에 의해 분리배출될 수 있도록 충진재(51)로 채워지는 충진층(50);
    으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 U턴형 및 수접촉 증가 충진재를 포함하는 반도체 공정중 발생되는 이소프로필 알코올 제거장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 제 1분사부(31)는 처리수가 미스트 형태로 분사되도록 하여, 처리대상가스가 처리수와의 접촉이 용이토록 하고, 상기 제 2분사부(41)의 처리수는 제 1분사부(31)의 처리수보다 상대적으로 큰 직경의 물방울형태로 분사되도록 하여, 처리대상가스와 처리수가 용이하게 분리될 수 있도록 하는 것을 특징으로 하는 U턴형 및 수접촉 증가 충진재를 포함하는 반도체 공정중 발생되는 이소프로필 알코올 제거장치.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 공급/배출층(20)은
    처리수가 내부가 저장된 후, 상기 제 1, 2분사부(31, 41)에 처리수를 공급하여 분사되도록 한 후, 처리대상가스 내 이소프로필 알코올을 여과한 처리수는 공급/배출층(20)으로 다시 낙하되어, 일부는 외부로 배출되면서 제 1, 2분사부(31, 41)에 재사용되는 순환이 반복되도록 하는 것을 특징으로 하는 U턴형 및 수접촉 증가 충진재를 포함하는 반도체 공정중 발생되는 이소프로필 알코올 제거장치.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 공급/배출층(20)은
    상기 유입구(21)와 배출구(22)의 위치보다 낮은 위치에, 상기 처리수가 사전설정수위로 저장되어 있도록 수위를 측정하는 수위측정부(23);
    상기 하우징(10)의 하단에 설치되어, 처리수를 유입시키는 유입라인(24);
    상기 하우징(10)의 하단에 설치되어, 공급/배출층(20)의 처리수가 사전설정수위보다 높은 경우 또는 처리대상가스 내 이소프로필 알코올이 치환되어 함유되어 낙하된 처리수를 배수시키는 배수라인(25);
    상기 하우징(10)의 하단에 설치되어, 상기 제 1, 2분사부(31, 41)에 처리수를 공급하는 펌프부(26);
    상기 배출구(22)에 설치되어, 배출되는 처리대상가스의 N2 가스농도를 측정하는 가스 탐지기(27);
    가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 U턴형 및 수접촉 증가 충진재를 포함하는 반도체 공정중 발생되는 이소프로필 알코올 제거장치.
  5. 제 4항에 있어서,
    상기 가스 탐지기(27)는
    상기 N2가 사전설정량 또는 사전설정농도보다 높게 배출되는 경우,
    상기 제 1, 2분사부(31, 41)의 노즐의 막힘여부 또는 처리수의 수위를 체크하도록 경고하도록 하는 것을 특징으로 하는 U턴형 및 수접촉 증가 충진재를 포함하는 반도체 공정중 발생되는 이소프로필 알코올 제거장치.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 하우징(10)은
    처리대상가스가 대용량인 경우,
    상기 처리대상가스가 공급되는 저장탱크(T)에 다수개가 병렬로 연결되어 사용되는 것을 특징으로 하는 U턴형 및 수접촉 증가 충진재를 포함하는 반도체 공정중 발생되는 이소프로필 알코올 제거장치.
  7. 제 1항에 있어서,
    상기 충진재(51)는
    원형의 구 형상을 가지되,
    내부가 비어있는 수직형태의 관(52);
    상기 관(52)의 외측 중단에 이격되어 링 형태로 수평설치되는 링(53);
    상기 관(52)의 상단에 일측이 연결되고, 타측은 호 형상을 가지며 '∧'자 형태로 분기되어 링(53)의 내측 상면에 연결되되, 다수개가 상호간 소정간격 이격형성되는 제 1외관(54);
    상기 관(52)의 하단에 일측이 연결되고, 타측은 호 형상을 가지며 '∨'자 형태로 분기되어 링(53)의 내측 저면에 연결되고, 다수개가 상호간 소정간격 이격형성되되, 링(53)의 상, 하측에 제 1외관(54)과 교번을 이루며 형성되도록 하는 제 2외관(55);
    상기 제 1외관(54)의 '∧'자 형상 내측에 '∨'자 형태로 형성되는 제 1부가편(56);
    상기 제 2외관(55)의 '∨'자 형상 내측에 '∧'자 형태로 형성되는 제 2부가편(57);
    으로 구성되는 것을 특징으로 하는 U턴형 및 수접촉 증가 충진재를 포함하는 반도체 공정중 발생되는 이소프로필 알코올 제거장치.
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