KR20100046785A - 처리액 공급 유닛 및 방법과, 이를 이용한 기판 처리 장치 - Google Patents

처리액 공급 유닛 및 방법과, 이를 이용한 기판 처리 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 처리액 공급 유닛 및 방법과, 이를 이용한 기판 처리 장치를 개시한 것으로서, 처리 유닛으로 처리액을 공급하는 저장 탱크의 전환시, 선(先) 사용 순위를 가지는 저장 탱크에 연결된 공급 라인상의 밸브와, 후(後) 사용 순위를 가지는 저장 탱크에 연결된 공급 라인상의 밸브, 그리고 연결 라인상의 밸브를 모두 열림 상태로 유지하면서 일정 시간이 경과한 후, 선(先) 사용 순위를 가지는 저장 탱크에 연결된 공급 라인상의 밸브를 닫힘 상태로 전환하면서 처리 유닛에 처리액을 공급하는 것을 특징으로 가진다.
이러한 특징에 의하면, 저장 탱크의 전환시 기포가 발생하는 것을 최소화하여, 기포 발생에 의한 펌프의 손상 및 유량계의 계측 오차를 최소화고, 기포 발생에 의한 공정 불량을 최소화할 수 있는 처리액 공급 유닛 및 방법과, 이를 이용한 기판 처리 장치을 제공할 수 있다.
Figure P1020080105798
처리액 공급, 탱크 전환, 기포

Description

처리액 공급 유닛 및 방법과, 이를 이용한 기판 처리 장치{UNIT AND METHOD FOR PROVIDING CHEMICAL LIQUID, AND SUBSTRATE TREATING APPARATUS USING THE SAME}
본 발명은 기판 처리 장치 및 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판 처리 유닛으로 처리액을 공급하는 처리액 공급 유닛 및 처리액 공급 방법과, 이를 이용하여 기판을 처리하는 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체 소자가 고밀도, 고집적화, 고성능화됨에 따라 회로 패턴의 미세화가 급속히 진행됨으로써, 기판 표면에 잔류하는 파티클(Particle), 유기 오염물, 금속 오염물 등의 오염 물질은 소자의 특성과 생산 수율에 많은 영향을 미치게 된다. 이 때문에 기판 표면에 부착된 각종 오염 물질을 제거하는 세정 공정이 반도체 제조 공정에서 매우 중요하게 대두되고 있으며, 반도체를 제조하는 각 단위 공정의 전후 단계에서 기판을 세정 처리하는 공정이 실시되고 있다.
현재 반도체 제조 공정에서 사용되는 세정 방법은 건식 세정(Dry Cleaning)과 습식 세정(Wet Cleaning)으로 나누어지며, 습식 세정은 다시 스핀(Spin) 타입의 방식과 배스(Bath) 타입의 방식으로 나누어진다.
스핀 타입의 방식은 한 장의 기판을 처리할 수 있는 척 부재에 기판을 고정한 후, 기판을 회전시키면서 분사 노즐을 통해 기판에 약액 또는 탈이온수를 공급하여, 원심력에 의해 약액 또는 탈이온수를 기판의 전면으로 퍼지게 함으로써 기판을 세정 처리하며, 기판의 세정 처리 후에는 건조 가스로 기판을 건조한다.
배스 타입의 방식은 세정액이 채워진 다수의 처리조와, 기판을 다수의 처리조로 순차적으로 이송시키는 이송 장치를 구비하고 있으며, 이송 장치를 이용하여 기판을 각 처리조에 순차적으로 로딩(Loading) 및 언로딩(Unloading)하여 일괄 처리 공정으로 세정 공정 및 건조 공정을 진행한다.
본 발명은 처리액 저장 탱크에 연결된 밸브의 열림/닫힘 상태의 전환시 기포가 발생하는 것을 최소화할 수 있는 처리액 공급 유닛 및 방법과, 이를 이용한 기판 처리 장치를 제공하기 위한 것이다.
본 발명의 목적은 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기한 과제를 달성하기 위하여 본 발명에 의한 처리액 공급 유닛은 저장 탱크와, 상기 저장 탱크에 연결된 공급 라인상에 설치되는 밸브를 가지며, 처리 유닛에 처리액을 공급하는 다수의 처리액 공급 부재들; 및 상기 처리액 공급 부재들 중 연이어 사용되는 상기 처리액 공급 부재들 간을 연결하는 연결 부재들을 포함하되, 상기 연결 부재들 각각은 어느 하나의 상기 처리액 공급 부재의 상기 공급 라인과 다른 하나의 상기 처리액 공급 부재의 상기 저장 탱크를 연결하는 연결 라인; 및 상기 연결 라인에 설치되는 밸브를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상술한 바와 같은 구성을 가지는 본 발명에 의한 처리액 공급 유닛에 있어서, 상기 연결 라인은 상기 어느 하나의 처리액 공급 부재의 상기 공급 라인상의 상기 밸브 후단에 연결될 수 있다.
상기 처리액 공급 부재들 각각의 상기 공급 라인이 합류하는 메인 공급 라인의 타단에 연결되며, 상기 처리 유닛으로 상기 처리액을 분배하는 분배 부재를 더 포함할 수 있다.
상기 처리 유닛에서 사용된 상기 처리액을 회수하여 상기 처리액 공급 부재들의 상기 저장 탱크로 공급하는 회수 부재를 더 포함할 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 처리액 공급 부재들은 제 1 저장 탱크와, 상기 제 1 저장 탱크에 연결된 제 1 공급 라인상에 설치되는 제 1 밸브를 가지는 제 1 처리액 공급 부재; 및 제 2 저장 탱크와, 상기 제 2 저장 탱크에 연결된 제 2 공급 라인상에 설치되는 제 2 밸브를 가지는 제 2 처리액 공급 부재를 포함하고, 상기 연결 부재들은 상기 제 1 저장 탱크와 상기 제 2 밸브 후단의 상기 제 2 공급 라인을 연결하는 제 1 연결 라인과, 상기 제 1 연결 라인에 설치되는 제 3 밸브를 가지는 제 1 연결 부재; 및 상기 제 2 저장 탱크와 상기 제 1 밸브 후단의 상기 제 1 공급 라인을 연결하는 제 2 연결 라인과, 상기 제 2 연결 라인에 설치되는 제 4 밸브를 가지는 제 2 연결 부재를 포함할 수 있다.
상기한 과제를 달성하기 위하여 본 발명에 의한 처리액 공급 방법은, 제 1 항의 장치를 이용하여 처리 유닛에 처리액을 공급하는 방법에 있어서, 선(先) 사용 순위를 가지는 상기 처리액 공급 부재의 상기 저장 탱크 내의 상기 처리액이 기설정된 레벨이하인 경우, 선(先) 사용 순위를 가지는 상기 처리액 공급 부재의 상기 저장 탱크에 연결된 상기 공급 라인상의 상기 밸브와, 후(後) 사용 순위를 가지는 상기 처리액 공급 부재의 상기 저장 탱크에 연결된 상기 공급 라인상의 상기 밸브와, 상기 연결 라인상의 상기 밸브를 모두 열림 상태로 유지하면서 상기 처리 유닛에 처리액을 공급하는 것을 특징으로 한다.
상술한 바와 같은 특징을 가지는 본 발명에 의한 처리액 공급 방법에 있어서, 상기의 밸브들이 모두 열림 상태를 유지하면서 일정 시간이 경과한 후, 선(先) 사용 순위를 가지는 상기 처리액 공급 부재의 상기 저장 탱크에 연결된 상기 공급 라인상의 상기 밸브를 닫힘 상태로 전환하고, 상기 처리 유닛에 처리액을 공급할 수 있다.
상기한 과제를 달성하기 위하여 본 발명에 의한 기판 처리 장치는 기판을 지지하는 기판 지지 부재와, 상기 기판 지지 부재에 놓인 기판으로 처리액을 분사하는 분사 부재를 가지는 복수 개의 처리 유닛들; 및 상기 복수 개의 처리 유닛들의 분사 부재로 상기 처리액을 공급하는 처리액 공급 유닛을 포함하되, 상기 처리액 공급 유닛은 저장 탱크와, 상기 저장 탱크에 연결된 공급 라인상에 설치되는 밸브를 가지며, 처리 유닛에 처리액을 공급하는 다수의 처리액 공급 부재들; 연이어 사용되는 상기 처리액 공급 부재들 중 선(先) 사용 순위를 가지는 상기 처리액 공급 부재의 상기 공급 라인과 후(後) 사용 순위를 가지는 상기 처리액 공급 부재의 상기 저장 탱크를 연결하는 연결 라인과, 상기 연결 라인에 설치되는 밸브를 가지는 연결 부재들; 및 상기 처리액 공급 부재들 각각의 상기 공급 라인이 합류하는 메인 공급 라인의 타단에 연결되며, 상기 처리 유닛들로 상기 처리액을 분배하는 분배 부재를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상술한 바와 같은 구성을 가지는 본 발명에 의한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 연결 부재들 각각의 상기 연결 라인은 선(先) 사용 순위를 가지는 상기 처리액 공급 부재의 상기 공급 라인상의 상기 밸브 후단에 연결될 수 있다.
본 발명에 의하면, 처리액 저장 탱크에 연결된 밸브의 열림/닫힘 상태의 전환시 기포가 발생하는 것을 최소화할 수 있다.
그리고 본 발명에 의하면, 기포에 의해 발생하는 펌프의 손상 및 유량계의 계측 오차를 최소화할 수 있다.
또한 본 발명에 의하면, 기포에 의한 공정 불량을 최소화할 수 있다.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 처리액 공급 유닛 및 방법과, 이를 이용한 기판 처리 장치를 상세히 설명하기로 한다. 우선 각 도면의 구성 요소들에 참조 부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기 능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.
( 실시 예 )
도 1은 본 발명에 따른 기판 처리 장치의 구성을 보여주는 도면이고, 도 2는 도 1의 처리 유닛의 일 예를 보여주는 도면이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 기판 처리 장치(10)는 기판 처리 유닛(100)과, 처리액 공급 유닛(200)을 포함한다. 기판 처리 유닛(100)은 복수 개의 처리 유닛들(100a,100b,100c,100d)을 가지며, 각각의 처리 유닛들(100a,100b,100c,100d)은 처리액을 이용하여 매엽 방식으로 기판을 세정 처리한다. 처리액 공급 유닛(200)은 각각의 처리 유닛들(100a,100b,100c,100d)로 처리액을 공급한다. 도 1에는 처리 유닛들(100a,100b,100c,100d)이 처리액 공급 유닛(200)로부터 동일한 거리에 배치되는 것으로 도시되어 있지만, 처리 유닛들(100a,100b,100c,100d)은 처리액 공급 유닛(200)로부터 서로 상이한 거리에 배치될 수 있다.
처리 유닛들(100a,100b,100c,100d)은 공정 진행시 처리액 공급 유닛(200)으로부터 처리액을 공급받아 기판(W)을 세정 처리한다. 처리 유닛들(100a,100b,100c,100d) 각각은, 도 2에 도시된 바와 같이, 기판 지지 부재(120), 용기(140), 그리고 분사 부재(160)를 포함한다.
기판 지지 부재(120)는 공정 진행 중 기판(W)을 지지하며, 공정이 진행되는 동안 모터 등의 회전 구동 부재(130)에 의해 회전된다. 기판 지지 부재(120)는 원형의 상부 면을 가지는 지지판(122)을 가지며, 지지판(122)의 상부 면에는 기판(W)을 지지하는 핀 부재들(123, 124)이 설치된다. 지지 핀(123)은 기판(W)의 하면을 지지한다. 척킹 핀(124)은 기판(W)의 측면을 지지하여 기판(W)이 정위치에 놓이도록 기판(W)을 정렬한다.
기판 지지 부재(120)의 둘레에는 용기(140)가 배치된다. 용기(140)는 대체로 원통 형상을 가지며, 하부 벽(142)에는 배기 홀(143)이 형성되고, 배기 홀(143)에는 배기관(144)이 연통 설치된다. 배기관(144)에는 펌프와 같은 배기 부재(150)가 연결되며, 배기 부재(150)는 기판(W)의 회전에 의해 비산된 처리액을 포함하는 용기(140) 내부의 공기를 배기시키도록 음압을 제공한다.
분사 부재(160)는 세정 공정의 진행시 처리액 공급 유닛(200)으로부터 처리액을 공급받아 기판 지지 부재(120)에 놓인 기판(W)의 처리 면으로 처리액을 분사한다.
다시, 도 2를 참조하면, 처리액 공급 유닛(200)은 처리 유닛들(100a,100b,100c,100d)로 처리액을 공급한다. 처리액 공급 유닛(200)은 처리액 공급 부재(220), 분배 부재(240), 회수 부재(250) 및 연결 부재(260)를 포함한다.
처리액 공급 부재(220)는 제 1 처리액 공급 부재(220a)와, 제 2 처리액 공급 부재(220b)를 포함한다. 제 1 처리액 공급 부재(220a)는 처리액을 저장하는 제 1 저장 탱크(222a)를 가진다. 제 1 저장 탱크(222a)에는 제 1 저장 탱크(222a) 내의 처리액의 레벨을 감지하는 레벨 센서(223a)가 설치될 수 있다. 제 1 저장 탱크(222a)에는 제 1 공급 라인(224a)이 연결되고, 제 1 공급 라인(224a)상에는 처리액의 흐름을 개폐하는 제 1 밸브(226a)가 설치된다.
제 2 처리액 공급 부재(220b)는 처리액을 저장하는 제 2 저장 탱크(222b)를 가진다. 제 2 저장 탱크(222b)에는 제 2 저장 탱크(222b) 내의 처리액의 레벨을 감지하는 레벨 센서(223b)가 설치될 수 있다. 제 2 저장 탱크(222b)에는 제 2 공급 라인(224b)이 연결되고, 제 2 공급 라인(224b)상에는 처리액의 흐름을 개폐하는 제 2 밸브(226b)가 설치된다.
도시되지는 않았지만 제 1 및 제 2 저장 탱크(222a, 222b)에는 처리액 공급원(미도시)이 연결되고, 제 1 및 제 2 저장 탱크(222a, 222b) 내의 처리액을 순환시키는 순환 부재(미도시)가 연결될 수 있다.
제 1 처리액 공급 부재(220a)의 제 1 공급 라인(224a)과 제 2 처리액 공급 부재(220b)의 제 2 공급 라인(224b)은 메인 공급 라인(230)으로 합류된다. 메인 공급 라인(230)상에는 펌프(231), 히터(232), 압려계(233), 필터(234), 유량계(235) 및 밸브(236)가 설치된다. 펌프(231)는 메인 공급 라인(230)으로 유입되는 처리액을 가압한다. 히터(232)는 처리액을 공정에 필요한 온도로 가열한다. 압력계(233)는 메인 공급 라인(230) 내의 압력을 측정한다. 필터(234)는 메인 공급 라인(230)을 흐르는 처리액에 함유된 불순물을 필터링한다. 유량계(235)는 메인 공급 라인(230)을 흐르는 처리액의 유량을 계측한다. 밸브(236)는 메인 공급 라인(230) 내 의 처리액의 흐름을 개폐한다.
메인 공급 라인(230)의 타단에는 분배 부재(240)가 연결된다. 분배 부재(240)는 메인 공급 라인(230)을 통해 처리액을 공급받고, 처리액을 처리 유닛들(100a,100b,100c,100d)로 분배한다. 분배 부재(240)는 분배기(242)와, 분배 라인들(244a,244b,244c,244d)을 가진다. 분배기(242)는 메인 공급 라인(230)으로부터 처리액을 공급받아 이를 수용한다. 분배 라인(244a,244b,244c,244d)은 복수 개가 구비될 수 있으며, 각각의 분배 라인(244a,244b,244c,244d)은 분배기(242)로부터 처리 유닛들(100a,100b,100c,100d)로 처리액을 공급한다.
처리 유닛들(100a,100b,100c,100d)에는 처리 유닛들(100a,100b,100c,100d)에서 사용된 처리액을 회수하는 회수 부재가 연결된다. 처리 유닛들(100a,100b,100c,100d)에 연결된 회수 부재는 모두 동일하며, 여기서는 편의상 처리 유닛들(100a,100b,100c,100d) 중 처리 유닛(100a)에 연결된 회수 부재(250)를 예로 들어 설명한다.
회수 부재(250)는 회수 라인(251)을 가진다. 회수 라인(251)의 일단은 처리 유닛(100a)에 연결되고, 회수 라인(251)의 타단은 분기되어 제 1 처리액 공급 부재(220a)의 제 1 저장 탱크(222a)와 제 2 처리액 공급 부재(220b)의 제 2 저장 탱크(222b)에 연결된다. 회수 라인(251)상에는 처리 유닛(100a)으로부터 제 1 및 제 2 처리액 공급 부재(220a, 220b)를 향하는 방향으로 필터(252), 펌프(253) 및 밸브(254)가 순차적으로 배치된다.
처리 유닛(100a)에서 사용된 처리액은 회수 라인(251)상의 필터(252)를 통과 하면서 이물질이 필터링되고, 펌프(253)에 의해 가압되어 제 1 처리액 공급 부재(220a)의 제 1 저장 탱크(222a)와 제 2 처리액 공급 부재(220b)의 제 2 저장 탱크(222b)로 회수된다.
상기와 같은 구성을 가지는 처리액 공급 유닛(200)으로부터 처리 유닛들(100a,100b,100c,100d)로 처리액을 공급하는 과정은 다음과 같다.
제 1 저장 탱크(222a)와 제 2 저장 탱크(222b)에는 동일한 처리액이 저장될 수 있다. 먼저, 제 1 저장 탱크(222a)로부터 제 1 공급 라인(224a), 메인 공급 라인(230), 분배기(242) 및 분배 라인(244a,244b,244c,244d)을 경유하여 처리 유닛들(100a,100b,100c,100d)로 처리액이 공급된다. 제 1 저장 탱크(222a)로부터의 처리액의 공급은 제 1 저장 탱크(222a)에 저장된 처리액의 레벨이 일정 수준 이하로 내려갈 때까지 지속된다. 이후, 제 1 저장 탱크(222a) 내의 처리액의 레벨이 일정 수준 이하로 내려가면, 제 1 저장 탱크(222a)에 연결된 제 1 공급 라인(224a)상의 밸브(226a)가 닫히고, 제 2 저장 탱크(222b)에 연결된 제 2 공급 라인(224b)상의 밸브(226b)가 열린다. 그러면, 제 2 저장 탱크(222b)로부터 제 2 공급 라인(224b), 메인 공급 라인(230), 분배기(242) 및 분배 라인(244a,244b,244c,244d)을 경유하여 처리 유닛들(100a,100b,100c,100d)로 처리액이 공급된다.
제 1 저장 탱크(222a)로부터 제 2 저장 탱크(222b)로의 전환시, 제 1 공급 라인(224a)상에 설치된 제 1 밸브(226a)의 닫힘과 제 2 공급 라인(224b)상에 설치 된 제 2 밸브(226b)의 열림이 동시에 이루어진다. 이와 같이 제 1 밸브(226a)의 닫힘과 제 2 밸브(226b)의 열림이 동시에 이루어지면, 제 1 공급 라인(224a)상의 제 1 밸브(226a)의 후단 영역(A)에는 기포가 발생할 수 있다. 제 1 밸브(226a)가 닫히더라도 제 1 공급 라인(224a)을 흐르던 처리액은 관성에 의해 계속해서 앞 쪽으로 흐르기 때문에, 제 1 공급 라인(224a)상의 제 1 밸브(226a)의 후단 영역(A)에는 일정 영역의 빈 공간이 생성될 수 있으며, 이 영역에 기포가 생성될 수 있다. 또한 메인 공급 라인(230)상의 펌프(231)의 맥동에 의해서도 제 1 공급 라인(224a)상의 제 1 밸브(226a)의 후단 영역(A)에 기포가 생성될 수 있다.
본 발명은 이러한 문제점을 해결하기 위해, 저장 탱크의 전환시 저장 탱크에 연결된 공급 라인에 기포가 생성되는 것을 억제할 수 있는 수단으로 연결 부재(260)를 제공한다. 연결 부재(260)는 제 1 연결 부재(260a)와 제 2 연결 부재(260b)를 포함한다.
제 1 연결 부재(260a)는 제 2 처리액 공급 부재(220b)의 제 2 저장 탱크(222b)와 제 1 처리액 공급 부재(220a)의 제 1 공급 라인(224a)을 연결하는 제 1 연결 라인(262a)을 가진다. 제 1 연결 라인(262a)은 제 1 공급 라인(224a)상의 제 1 밸브(226a)의 후단 영역(A)에 연결된다. 제 1 연결 라인(262a)상에는 제 1 연결 라인(262a)을 개폐하는 제 3 밸브(264a)가 설치된다.
제 2 연결 부재(260b)는 제 1 처리액 공급 부재(220a)의 제 1 저장 탱크(222a)와 제 2 처리액 공급 부재(220b)의 제 2 공급 라인(224b)을 연결하는 제 2 연결 라인(262b)을 가진다. 제 2 연결 라인(262b)은 제 2 공급 라인(224b)상의 제 2 밸브(226b)의 후단 영역(B)에 연결된다. 제 2 연결 라인(262b)상에는 제 2 연결 라인(262b)을 개폐하는 제 4 밸브(264b)가 설치된다.
제 1 처리액 공급 부재(220a)의 제 1 저장 탱크(222a) 내의 처리액이 기설정된 레벨이하인 경우, 처리액의 연속적인 공급을 위해 제 1 저장 탱크(222a)로부터 제 2 저장 탱크(222b)로 저장 탱크의 전환이 이루어진다. 이때, 제 1 처리액 공급 부재(220a)의 제 1 저장 탱크(222a)에 연결된 제 1 공급 라인(224a)상의 제 1 밸브(226a)와, 제 2 처리액 공급 부재(220b)의 제 2 저장 탱크(222b)에 연결된 제 2 공급 라인(224b)상의 제 2 밸브(226b), 그리고 제 1 연결 라인(262a)상의 제 3 밸브(264a)를 모두 열림 상태로 유지한다. 이후 일정 시간이 경과한 다음, 제 1 밸브(226a)를 닫힘 상태로 전환하고, 제 2 처리액 공급 부재(220b)의 제 2 저장 탱크(222b)로부터 처리 유닛들(100a, 100b, 100c, 100d)로 계속하여 처리액을 공급한다.
저장 탱크(222a,222b)의 전환시, 제 1 밸브(226a), 제 2 밸브(226b) 및 제 3 밸브(264a)를 모두 열림 상태로 유지하면, 제 2 저장 탱크(222b)로부터 제 1 밸브(226a)의 후단 영역(A)으로 처리액이 공급될 수 있다. 이는 제 2 저장 탱크(222b) 내의 처리액 레벨이 제 1 저장 탱크(222a) 내의 처리액 레벨보다 높아, 제 2 저장 탱크(222b)로부터 공급되는 처리액의 압력이 더 높기 때문이다. 이와 같이, 제 2 저장 탱크(222b)로부터 제 1 밸브(226a)의 후단 영역(A)으로 처리액이 공 급되는 동안 제 1 밸브(226a)를 닫힘 상태로 전환하더라도, 제 1 밸브(226a)의 후단 영역(A)에는 종전의 처리액의 관성에 의해 생성된 빈 공간이 생성되지 않으므로, A 영역에 기포가 발생하는 것을 최대한 억제할 수 있다. 또한, 이러한 방법에 의해 종전의 펌프 맥동에 의한 기포 생성을 최대한 억제할 수 있다.
제 2 처리액 공급 부재(220b)의 제 2 저장 탱크(222b)로부터 처리액이 공급되는 동안, 제 1 처리액 공급 부재(220a)의 제 1 저장 탱크(222a)에는 처리액이 재충전된다. 이후, 제 2 처리액 공급 부재(220b)의 제 2 저장 탱크(222b) 내의 처리액이 기설정된 레벨이하인 경우, 처리액의 연속적인 공급을 위해 제 2 저장 탱크(222b)로부터 제 1 저장 탱크(222a)로 저장 탱크의 전환이 이루어진다. 이때, 제 2 처리액 공급 부재(220b)의 제 2 저장 탱크(222b)에 연결된 제 2 공급 라인(224b)상의 제 2 밸브(226b)와, 제 1 처리액 공급 부재(220a)의 제 1 저장 탱크(222a)에 연결된 제 1 공급 라인(224a)상의 제 1 밸브(226a), 그리고 제 2 연결 라인(262b)상의 제 4 밸브(264b)를 모두 열림 상태로 유지한다. 이후 일정 시간이 경과한 다음, 제 2 밸브(226b)를 닫힘 상태로 전환하고, 제 1 처리액 공급 부재(220a)의 제 1 저장 탱크(222a)로부터 처리 유닛들(100a, 100b, 100c, 100d)로 계속하여 처리액을 공급한다.
상기와 같은 방법에 의해 제 1 저장 탱크(222a)와 제 2 저장 탱크(222b) 상호간을 전환시키면서, 처리액 공급의 끊김없이 연속적으로 처리 유닛들(100a, 100b, 100c, 100d)에 처리액을 공급할 수 있다.
본 실시 예에서는 처리액 공급 부재가 2개 제공되는 경우를 예로 들어 설명하였으나, 처리액 공급 부재는는 이보다 많은 수가 제공될 수 있다. 이 경우 연결 부재들은 처리액 공급 부재들 중 연이어 사용되는 처리액 공급 부재들 간을 연결한다. 연결 라인은 선(先) 사용 순위를 가지는 처리액 공급 부재의 공급 라인과 후(後) 사용 순위를 가지는 처리액 공급 부재의 저장 탱크를 연결하며, 구체적으로 연결 라인은 선(先) 사용 순위를 가지는 처리액 공급 부재의 공급 라인상의 밸브 후단에 연결될 수 있다.
본 실시 예에서는 스핀(Spin) 타입의 습식 세정 방식을 이용한 기판 처리 장치를 예로 들어 설명하였으나, 본 발명의 처리액 공급 유닛은 배스(Bath) 타입의 습식 세정 방식을 이용한 기판 처리 장치에 적용될 수 있다.
이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시 예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시 예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위 에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
이하에 설명된 도면들은 단지 예시의 목적을 위한 것이고, 본 발명의 범위를 제한하기 위한 것이 아니다.
도 1은 본 발명에 따른 기판 처리 장치의 구성을 보여주는 도면,
도 2는 도 1의 처리 유닛의 일 예를 보여주는 도면이다.
< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 >
100 : 기판 처리 유닛 200 : 처리액 공급 유닛
220 : 처리액 공급 부재 240 : 분배 부재
250 : 회수 부재 260 : 연결 부재

Claims (9)

  1. 저장 탱크와, 상기 저장 탱크에 연결된 공급 라인상에 설치되는 밸브를 가지며, 처리 유닛에 처리액을 공급하는 다수의 처리액 공급 부재들; 및
    상기 처리액 공급 부재들 중 연이어 사용되는 상기 처리액 공급 부재들 간을 연결하는 연결 부재들을 포함하되,
    상기 연결 부재들 각각은,
    어느 하나의 상기 처리액 공급 부재의 상기 공급 라인과 다른 하나의 상기 처리액 공급 부재의 상기 저장 탱크를 연결하는 연결 라인; 및
    상기 연결 라인에 설치되는 밸브를 포함하는 것을 특징으로 하는 처리액 공급 유닛.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 연결 라인은 상기 어느 하나의 처리액 공급 부재의 상기 공급 라인상의 상기 밸브 후단에 연결되는 것을 특징으로 하는 처리액 공급 유닛.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 처리액 공급 부재들 각각의 상기 공급 라인이 합류하는 메인 공급 라인의 타단에 연결되며, 상기 처리 유닛으로 상기 처리액을 분배하는 분배 부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 처리액 공급 유닛.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 처리 유닛에서 사용된 상기 처리액을 회수하여 상기 처리액 공급 부재들의 상기 저장 탱크로 공급하는 회수 부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 처리액 공급 유닛.
  5. 제 2 항에 있어서,
    상기 처리액 공급 부재들은,
    제 1 저장 탱크와, 상기 제 1 저장 탱크에 연결된 제 1 공급 라인상에 설치되는 제 1 밸브를 가지는 제 1 처리액 공급 부재; 및
    제 2 저장 탱크와, 상기 제 2 저장 탱크에 연결된 제 2 공급 라인상에 설치되는 제 2 밸브를 가지는 제 2 처리액 공급 부재를 포함하고,
    상기 연결 부재들은,
    상기 제 1 저장 탱크와 상기 제 2 밸브 후단의 상기 제 2 공급 라인을 연결하는 제 1 연결 라인과, 상기 제 1 연결 라인에 설치되는 제 3 밸브를 가지는 제 1 연결 부재; 및
    상기 제 2 저장 탱크와 상기 제 1 밸브 후단의 상기 제 1 공급 라인을 연결하는 제 2 연결 라인과, 상기 제 2 연결 라인에 설치되는 제 4 밸브를 가지는 제 2 연결 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 처리액 공급 유닛.
  6. 제 1 항의 장치를 이용하여 처리 유닛에 처리액을 공급하는 방법에 있어서,
    선(先) 사용 순위를 가지는 상기 처리액 공급 부재의 상기 저장 탱크 내의 상기 처리액이 기설정된 레벨이하인 경우,
    선(先) 사용 순위를 가지는 상기 처리액 공급 부재의 상기 저장 탱크에 연결된 상기 공급 라인상의 상기 밸브와, 후(後) 사용 순위를 가지는 상기 처리액 공급 부재의 상기 저장 탱크에 연결된 상기 공급 라인상의 상기 밸브와, 상기 연결 라인상의 상기 밸브를 모두 열림 상태로 유지하면서 상기 처리 유닛에 처리액을 공급하는 것을 특징으로 하는 처리액 공급 방법.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기의 밸브들이 모두 열림 상태를 유지하면서 일정 시간이 경과한 후, 선(先) 사용 순위를 가지는 상기 처리액 공급 부재의 상기 저장 탱크에 연결된 상기 공급 라인상의 상기 밸브를 닫힘 상태로 전환하고, 상기 처리 유닛에 처리액을 공급하는 것을 특징으로 하는 처리액 공급 방법.
  8. 기판을 지지하는 기판 지지 부재와, 상기 기판 지지 부재에 놓인 기판으로 처리액을 분사하는 분사 부재를 가지는 복수 개의 처리 유닛들; 및
    상기 복수 개의 처리 유닛들의 분사 부재로 상기 처리액을 공급하는 처리액 공급 유닛을 포함하되,
    상기 처리액 공급 유닛은,
    저장 탱크와, 상기 저장 탱크에 연결된 공급 라인상에 설치되는 밸브를 가지며, 처리 유닛에 처리액을 공급하는 다수의 처리액 공급 부재들;
    연이어 사용되는 상기 처리액 공급 부재들 중 선(先) 사용 순위를 가지는 상기 처리액 공급 부재의 상기 공급 라인과 후(後) 사용 순위를 가지는 상기 처리액 공급 부재의 상기 저장 탱크를 연결하는 연결 라인과, 상기 연결 라인에 설치되는 밸브를 가지는 연결 부재들; 및
    상기 처리액 공급 부재들 각각의 상기 공급 라인이 합류하는 메인 공급 라인의 타단에 연결되며, 상기 처리 유닛들로 상기 처리액을 분배하는 분배 부재
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 연결 부재들 각각의 상기 연결 라인은 선(先) 사용 순위를 가지는 상기 처리액 공급 부재의 상기 공급 라인상의 상기 밸브 후단에 연결되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
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