KR20180029294A - 마스크 세정 장치 - Google Patents

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KR20180029294A
KR20180029294A KR1020160116925A KR20160116925A KR20180029294A KR 20180029294 A KR20180029294 A KR 20180029294A KR 1020160116925 A KR1020160116925 A KR 1020160116925A KR 20160116925 A KR20160116925 A KR 20160116925A KR 20180029294 A KR20180029294 A KR 20180029294A
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주식회사 케이씨텍
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Abstract

본 발명은 마스크 세정용 챔버의 세정을 위해 세정유체를 분사하는 노즐의 설치 개수를 줄이면서도 세정효율을 향상시킴과 아울러 장치의 조립 및 유지보수가 용이한 마스크 세정 장치를 제공함에 그 목적이 있다.
이를 구현하기 위한 본 발명의 마스크 세정 장치(100)는, 마스크의 세정이 이루어지는 챔버(110), 상기 챔버(110)의 상부에 회전 가능하게 연결되어 상기 챔버(110)의 상부를 개폐하는 셔터(120), 및 상기 셔터(120)의 저면에 구비되어 상기 셔터(120)의 회전에 연동하여 상기 챔버(110)의 내측면과 바닥면을 향하여 세정유체를 분사하는 샤워부(140)를 포함하여 구성된다.

Description

마스크 세정 장치{Mask cleaning apparatus}
본 발명은 마스크 세정 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 마스크의 세정공정이 이루어진 후에 챔버의 내측면과 바닥면에 잔류하는 이물질을 적은 수의 노즐을 사용하면서도 효율적으로 세정할 수 있는 마스크 세정 장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 소자는 리소그래피, 증착 및 에칭 등의 공정이 반복적으로 수행됨으로써 제조된다. 상기 공정들을 거치는 동안 마스크(Mask)의 표면에는 각종 파티클, 금속 불순물, 유기물 등이 잔존할 수 있다. 이와 같은 오염 물질들은 제품의 수율 및 신뢰성에 악영향을 미칠 수 있으므로, 상기 오염 물질들을 제거하기 위한 세정 공정이 수행되어야 한다.
마스크를 세정하는 방식은 처리 방식에 따라 크게 건식(Dry) 세정방식과 습식(Wet) 세정방식으로 구분될 수 있다. 그 중 습식 세정방식은 처리액이 수용된 챔버의 내부에 마스크를 일정 시간 동안 침지시켜 세정하는 방식을 말한다.
처리액에 의해 마스크의 세정이 완료된 후에는 챔버의 내부에 잔류하는 처리액과 이물질을 제거하기 위한 챔버 세정 공정이 수행된다.
도 1은 종래 마스크 세정 장치의 구성을 개략적으로 보여주는 사시도이다.
종래 마스크 세정 장치(1)는, 마스크의 세정이 이루어지는 챔버(10)와, 상기 챔버(10)의 상부에 힌지부(30)를 중심으로 회전 가능하게 연결되어 챔버(10)의 상부를 개폐하는 한 쌍의 셔터(20;20-1,20-2), 및 상기 셔터(20)의 전후면과 양측면 및 바닥면에서 각각 소정 간격 이격되어 구비되는 공급관(41)과, 상기 공급관(41)에 길이방향을 따라 일정 간격으로 구비되는 다수개의 노즐(42)로 이루어진 세정부(40;40-1,40-2,40-3,40-4,40-5)로 구성된다.
상기 세정부(40;40-1,40-2,40-3,40-4,40-5)는 챔버(10)의 전후면과 양측면 및 바닥면에 구비되고, 상기 노즐(42)은 챔버(10)의 전후면과 양측면 및 바닥면을 향하며 위치가 고정된 형태로 구비되어 세정유체를 분사하게 된다.
그러나, 이와 같은 종래의 마스크 세정 장치(1)의 구성에 의하면, 노즐(42)의 설치 개수가 과다하여 장치의 설비 비용이 상승하는 문제가 있고, 노즐(42)의 위치가 고정됨에 따라서 노즐(42)에서 세정유체가 분사되는 범위가 제한적이어서 챔버(10)의 세정효율이 낮은 문제점이 있다.
또한 노즐(42)이 챔버(10)의 전후면과 양측면 및 바닥면에 설치됨에 따라 장치의 조립과 유지보수 시에는 작업자가 챔버(10) 안에 들어가서 작업을 해야하는 불편함이 있고, 작업자가 장치의 조립 및 유지보수를 수행함에 있어 노즐(42)과 간섭되어 노즐(42)이 파손될 우려가 있으며, 챔버(10) 내에 과다하게 배치된 노즐(42)로 인해 챔버(10) 내부에 설치되는 다른 부품의 조립 및 유지보수 작업시 간섭을 일으켜 작업이 용이하지 않은 문제점이 있다.
종래 마스크 세정 장치와 관련된 선행기술의 일례로서, 등록특허 제10-0623883호에는 세정 배스 내의 두 측면과 바닥면 및 뚜껑의 내부면에 각각 이동식 세정 노즐 세트가 구비되고, 각각의 세정 노즐 세트에 부착된 노즐이 왕복이동하면서 세정이 수행되는 이동식 세정 노즐이 구비된 세정 배스가 개시되어 있다.
종래 마스크 세정 장치와 관련된 선행기술의 다른 예로서, 공개특허 제10-2004-0086868호에는 배스 커버(셔터)의 상부면에 세척용 액체를 분사할 수 있도록 구성하여 배스 커버가 웨이퍼 세정용 화학 물질 등에 의해 오염되는 것을 방지할 수 있는 배스 커버 세척용 노즐을 구비한 웨이퍼 세정 장치가 개시되어 있다.
상기 등록특허 제10-0623883호에 개시된 이동식 세정 노즐이 구비된 세정 배스는 전술한 바와 마찬가지로 세정 배스(챔버)의 내부에 다수개의 노즐이 구비됨에 따라 장치의 구조가 복잡해지고 조립 및 유지보수가 용이하지 않은 단점이 있고, 상기 공개특허 제10-2004-0086868호에 개시된 배스 커버 세척용 노즐을 구비한 웨이퍼 세정 장치는 배스(챔버) 내부의 세정을 위한 구성이 미비하다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 마스크 세정용 챔버의 세정을 위해 세정유체를 분사하는 노즐의 설치 개수를 줄이면서도 세정효율을 향상시킴과 아울러 장치의 조립 및 유지보수가 용이한 마스크 세정 장치를 제공함에 그 목적이 있다.
상술한 바와 같은 목적을 구현하기 위한 본 발명의 마스크 세정 장치(100)는, 마스크의 세정이 이루어지는 챔버(110), 상기 챔버(110)의 상부에 회전 가능하게 연결되어 상기 챔버(110)의 상부를 개폐하는 셔터(120), 및 상기 셔터(120)의 저면에 구비되어 상기 셔터(120)의 회전에 연동하여 상기 챔버(110)의 내측면과 바닥면을 향하여 세정유체를 분사하는 샤워부(140)를 포함하여 구성된다.
상기 셔터(120)는 상기 챔버(110) 상부의 대향하는 양측면에 각각의 일측단이 힌지부(130)에 의해 연결된 제1셔터(120-1)와 제2셔터(120-2)로 구성될 수 있다.
상기 샤워부(140)는 세정유체가 공급되는 공급관(141)과, 상기 공급관(141)에 길이방향을 따라 일정 간격으로 구비되어 세정유체를 분사하는 다수개의 노즐(142)로 구성될 수 있다.
상기 셔터(120)가 회전되는 각도의 변경에 따라 상기 노즐(142)에서 분사되는 세정유체의 분사 각도가 변경되어 상기 챔버(110) 내측의 전후면과 양측면 및 바닥면의 세정이 이루어질 수 있다.
상기 샤워부(140)는, 상기 제1셔터(120-1)의 저면에 구비된 제1샤워부(140-1)와, 상기 제2셔터(120-2)의 저면에 구비된 제2샤워부(140-2)로 이루어지고, 상기 노즐(142)은, 상기 제1샤워부(140-1)에 구비되는 다수개의 제1노즐(142-1)과, 상기 제2샤워부(140-2)에 구비되는 다수개의 제2노즐(142-2)로 이루어지되, 상기 제1노즐(142-1)과 제2노즐(142-2)은 상이한 연장선(C1,C2) 상에 배치될 수 있다.
상기 노즐(142)은 세정유체의 분사 각도 조절이 가능하도록 별도의 회전구동부의 구동에 의해 회전 가능하도록 구비될 수 있다.
상기 샤워부(140)에서 세정유체의 분사가 완료된 후에는, 상기 공급관(141)에 건조가스가 공급되고, 상기 노즐(142)은 상기 공급관(141)을 통해 공급되는 건조가스를 상기 챔버(110)의 내측면과 바닥면을 향하여 분사하도록 구성될 수 있다.
상기 세정유체는 초순수(DI) 또는 이소프로필알콜(IPA)일 수 있다.
상기 건조가스는 에어(Air) 또는 질소(N2)일 수 있다.
본 발명에 따른 마스크 세정 장치에 의하면, 챔버의 상부를 개폐하도록 회전되는 셔터의 저면에 세정유체를 분사하는 노즐을 구비함으로써, 종래 챔버의 전후면과 양측면 및 바닥면에 위치가 고정된 상태로 노즐이 설치된 구조와 비교하여, 노즐의 설치 개수를 대폭 줄일 수 있어 장치의 제조 비용을 절감할 수 있다.
또한 셔터의 저면에만 노즐이 구비됨에 따라 장치의 조립 및 유지보수 작업을 챔버의 상부에서 간편하게 수행할 수 있다.
또한 셔터가 열리고 닫히는 각도 변경에 연동하여 노즐의 분사각도가 변경되므로 챔버의 전후면과 양측면 및 바닥면 전체에 세정유체를 분사할 수 있어 적은 수의 노즐을 사용하면서도 챔버의 세정효율을 극대화 할 수 있다.
또한 제1셔터에 구비되는 제1노즐과 제2셔터에 구비되는 제2노즐을 상이한 연장선 상에 위치하도록 구성함으로써, 제1노즐과 제2노즐을 통해 분사되는 세정유체 간의 간섭을 최소화하여 세정유체가 챔버의 내측면과 바닥면을 향하여 원활하게 분사될 수 있어 세정효율을 향상시킬 수 있다.
또한 노즐을 세정유체의 분사 각도 조절이 가능하도록 별도의 회전구동부의 구동에 의해 회전 가능하도록 구성할 경우에는 세정유체의 분사범위를 더욱 확장시킬 수 있어 챔버의 내측면과 바닥면 전체에 대하여 세정유체를 고르게 분사할 수 있다.
또한 챔버의 세정이 완료된 후에는 노즐을 통해 건조가스를 분사하여 챔버의 내측면과 바닥면을 건조시킴으로써 챔버 내부에 잔류하는 세정유체 또한 건조시켜 말끔하게 제거할 수 있다.
도 1은 종래 마스크 세정 장치의 구성을 개략적으로 보여주는 사시도,
도 2는 본 발명에 따른 마스크 세정 장치의 구성을 개략적으로 보여주는 사시도,
도 3은 본 발명에 따른 마스크 세정 장치에서 셔터가 닫힌 상태에서 챔버의 세정이 이루어지는 동작 상태를 보여주는 정면도,
도 4 내지 도 6은 본 발명에 따른 마스크 세정 장치에서 셔터가 회전되는 상태에서 챔버의 세정이 이루어지는 동작 상태를 보여주는 정면도,
도 7은 본 발명에 따른 마스크 세정 장치에서 노즐의 배치 구조에 대한 변형 실시예를 보여주는 평면도,
도 8은 본 발명에 따른 마스크 세정 장치에서 노즐이 회전 가능한 구조로 이루어진 변형 실시예를 보여주는 정면도.
이하 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대한 구성 및 작용을 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 2를 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 마스크 세정 장치(100)는, 마스크의 세정이 이루어지는 챔버(110)와, 상기 챔버(110)의 상부에 회전 가능하게 연결되어 챔버(110)의 상부를 개폐하는 셔터(120), 및 상기 셔터(120)의 저면에 구비되어 셔터(120)의 회전에 연동하여 챔버(110)의 내측면과 바닥면에 세정유체를 분사하는 샤워부(140)를 포함하여 구성된다.
상기 챔버(110)는 세정대상인 마스크를 세정 처리하기 위한 처리액이 수용되는 용기를 말하며, 상기 처리액 내에 마스크를 일정 시간 동안 침지시키는 등의 방법으로 마스크를 세정하는 기능을 한다. 상기 처리액은 마스크의 표면에 존재하는 오염 물질 등을 세정하기 위한 약액(Chemical) 또는 초순수(Deionized Water) 등을 말한다. 상기 약액은 마스크의 표면에 잔존하는 오염물질을 세정하기 위한 화학 용액으로서 단일 또는 복수 종류의 화학 용액을 포함하여 구성될 수 있다.
상기 셔터(120)는 챔버(110)의 상부를 개폐하는 기능을 하는 것으로서, 이송장치(미도시됨)에 의해 이송되는 마스크를 챔버(110)의 내부로 반입하거나 챔버(110)의 외측으로 반출하는 경우에 상기 셔터(120)는 상측으로 회전되어 챔버(110)의 상부가 개방되도록 하고, 마스크의 세정 공정이 수행되는 동안에는 셔터(120)가 하측으로 회전되어 챔버(110)의 상부를 밀폐하게 된다.
일실시예로서, 상기 셔터(120)는 챔버(110) 상부의 대향하는 양측면에 각각의 일측단이 힌지부(130)에 의해 연결된 제1셔터(120-1)와 제2셔터(120-2)로 구성될 수 있다. 따라서 제1셔터(120-1)와 제2셔터(120-2)의 외측단은 각각의 힌지(130)에 의해 챔버(110)의 상부에 연결되고, 제1셔터(120-1)와 제2셔터(120-2)의 내측단은 셔터(120)가 닫힌 상태(도 3 참조)에서 챔버(110)의 상부 중간부에서 서로 맞닿도록 위치하게 된다. 상기 제1셔터(120-1)와 제2셔터(120-2)는 각각 그 외측단에 연결된 힌지부(130)를 회전중심으로 하여 상하 방향으로 설정된 각도 범위에서 상반된 방향으로 동시에 회전하도록 구성된다.
상기 힌지부(130)에는 제1셔터(120-1)와 제2셔터(120-2)의 회전을 위한 동력을 전달하기 위한 회전구동부(미도시됨)가 연결된다.
상기 샤워부(140)는 세정유체가 공급되는 공급관(141)과, 상기 공급관(141)의 저면에 길이방향을 따라 일정 간격으로 구비되어 세정유체를 분사하는 다수개의 노즐(142)로 구성될 수 있다.
상기 샤워부(140)는 제1셔터(120-1)의 저면에 구비되는 제1샤워부(140-1)와, 제2셔터(120-2)의 저면에 구비되는 제2샤워부(140-2)로 구성된다. 상기 제1샤워부(140-1)에는 다수개의 제1노즐(142-1)이 구비되고, 상기 제2샤워부(140-2)에는 다수개의 제2노즐(142-2)이 구비된다.
도 3 내지 도 6을 참조하면, 제1셔터(120-1)와 제2셔터(120-2)가 회전되는 각도가 변경됨에 따라 상기 제1노즐(142-1)과 제2노즐(142-2)에서 분사되는 세정유체의 분사 각도가 변경되어 챔버(110) 내측의 전후면과 양측면 및 바닥면의 세정 공정이 수행된다.
도 3은 제1셔터(120-1)와 제2셔터(120-2)가 수평상태가 되어 챔버(110)의 상부가 밀폐된 모습을 나타내고, 도 4 내지 도 6은 제1셔터(120-1)와 제2셔터(120-2)가 도 3의 상태를 기준으로 각각 상측으로 20°, 40°, 60°회전된 모습을 나타낸 것이다. 도 3 내지 도 6에는 제1셔터(120-1)와 제2셔터(120-2)가 특정된 각도로 회전된 모습을 나타내고 있으나, 제1셔터(120-1)와 제2셔터(120-2)가 각각의 힌지부(130)를 중심으로 상하 방향으로 회전되면서 제1노즐(142-1)과 제2노즐(142-2)을 통해 세정유체를 분사하게 되면, 챔버(110) 내측의 전후면과 양측면 및 바닥면에는 전체 영역에 걸쳐서 세정유체를 골고루 분사할 수 있게 된다.
도 7을 참조하면, 본 발명의 다른 실시예로서, 상기 제1노즐(142-1)과 제2노즐(142-2)에서 각각 분사되는 세정유체 간의 간섭을 최소화 하기 위한 구성으로, 상기 제1노즐(142-1)과 제2노즐(142-2)은 상이한 연장선(C1,C2) 상에 구비될 수 있다.
즉, 다수개의 제1노즐(142-1)이 배치되는 위치를 연결한 가상의 연장선(C1)과, 다수개의 제2노즐(142-2)이 배치되는 위치를 연결한 가상의 연장선(C2)이 상하 방향으로 중첩되지 않고 서로 어긋난 위치에 제1노즐(142-1)과 제2노즐(142-2)을 배열함으로써, 서로 동일선 상에 배치될 경우에 초래될 수 있는 세정유체 간의 충돌에 의한 간섭 현상을 최소화 할 수 있다. 이로써 제1노즐(142-1)과 제2노즐(142-2)에서 분사되는 세정유체 간의 간섭이 최소화되어 각 노즐(142-1,142-2)로부터 분된 세정유체는 분사되는 방향으로 보다 멀리 도달될 수 있어 챔버(110)의 내측면과 바닥면에 빠른 유속으로 충돌되어 잔류 이물질의 세정효율을 향상시킬 수 있다.
도 8을 참조하면, 본 발명의 또 다른 실시예로서, 상기 노즐(142)은 세정유체의 분사 각도 조절이 가능하도록 별도의 회전구동부(미도시됨)의 구동에 의해 회전 가능하도록 구비될 수 있다.
상기 회전구동부는 노즐(142)의 회전중심에 연결되어 소정 각도 범위에서 노즐(142)을 회전 구동하기 위한 스텝모터 또는 솔레노이드로 구성될 수 있다.
이와 같이 노즐(142)의 분사 각도가 셔터(120)의 회전에 연동하여 변경됨과 동시에 노즐(142)이 회전구동부에 구동에 의해 자체적으로도 회전되어 분사 각도 조절이 가능하도록 구성할 경우, 도 8에 도시된 바와 같이 세정유체가 분사되어 분산되는 영역을 더욱 넓게 확보할 수 있게 되므로 챔버(110)의 세정 효율을 더욱 향상시킬 수 있다.
한편, 상기 샤워부(140)에서 세정유체의 분사가 완료된 후에는, 상기 공급관(141)에 건조가스가 공급되고, 상기 노즐(142)은 상기 공급관(141)을 통해 공급되는 건조가스를 상기 챔버(110)의 내측면과 바닥면을 향하여 분사하도록 구성될 수 있다. 여기서, 상기 세정유체는 초순수(DI) 또는 이소프로필알콜(IPA)일 수 있고, 상기 건조가스는 에어(Air) 또는 질소(N2)일 수 있다. 다만, 상기 세정유체와 건조가스의 종류는 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 세정 및 건조 목적으로 사용될 수 있는 다양한 종류의 유체가 사용될 수 있다.
이하, 상기와 같이 구성된 마스크 세정 장치(100)에서 마스크의 세정 후, 챔버(110)의 세정 과정을 설명한다.
먼저, 챔버(110) 내에서 마스크의 습식 세정 처리가 완료되면, 챔버(110) 내부에 채워져 있는 처리액을 드레인하고, 셔터(120)를 개방시켜 마스크를 챔버(110)의 외부로 반출한다.
그리고, 셔터(120)를 상하로 회전시킴과 동시에 공급관(141)에 세정유체를 공급하여 노즐(142)을 통해 세정유체를 분사하여 챔버(110)의 내측면과 바닥면의 세정을 실시하고, 세정유체와 이에 포함된 처리액의 잔류물을 드레인 시킨다.
설정된 시간 동안 셔터(120)의 회전 및 노즐(142)을 통한 세정유체의 분사 과정을 수행한 후에는, 셔터(120)를 회전시킴과 동시에 공급관(141)에 건조가스를 공급하여 노즐(142)을 통해 건조가스를 분사하여 챔버(110)의 내측면과 바닥면에 잔류하는 세정유체를 건조시켜 제거한다. 그리고, 챔버(110)의 건조가 완료된 후에는 챔버(110) 내에 처리액을 재충전시켜 후속되는 마스크의 세정 처리 공정을 준비한다.
상기와 같이 본 발명에 의하면, 셔터(120)의 저면에만 노즐(142)을 구비함으로써, 종래기술에 비하여 노즐의 설치 개수를 대폭 줄일 수 있고, 셔터(120)의 회전에 연동하여 노즐(142)의 분사 각도를 변경시킬 수 있어 챔버(110) 내부의 전체 영역에 대한 효율적인 세정이 가능하며, 장치의 조립 및 유지보수 작업 또는 간편하게 수행할 수 있는 이점이 있다.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명은 상술한 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구되는 본 발명의 기술적 사상에 벗어남 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 자명한 변형실시가 가능하며, 이러한 변형실시는 본 발명의 범위에 속한다.
1 : 마스크 세정 장치 10 : 챔버
20 : 셔터 30 : 힌지부
40 : 샤워부 41 : 공급관
42 : 노즐 100 : 마스크 세정 장치
110 : 챔버 120 : 셔터
120-1 : 제1셔터 120-2 : 제2셔터
130 : 힌지부 140 : 샤워부
140-1 : 제1샤워부 140-2 : 제2샤워부
141 : 공급관 142 : 노즐
142-1 : 제1노즐 142-2 : 제2노즐

Claims (9)

  1. 마스크의 세정이 이루어지는 챔버(110);
    상기 챔버(110)의 상부에 회전 가능하게 연결되어 상기 챔버(110)의 상부를 개폐하는 셔터(120); 및
    상기 셔터(120)의 저면에 구비되어 상기 셔터(120)의 회전에 연동하여 상기 챔버(110)의 내측면과 바닥면을 향하여 세정유체를 분사하는 샤워부(140);
    를 포함하는 마스크 세정 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 셔터(120)는 상기 챔버(110) 상부의 대향하는 양측면에 각각의 일측단이 힌지부(130)에 의해 연결된 제1셔터(120-1)와 제2셔터(120-2)로 이루어진 것을 특징으로 하는 마스크 세정 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 샤워부(140)는 세정유체가 공급되는 공급관(141)과, 상기 공급관(141)에 길이방향을 따라 일정 간격으로 구비되어 세정유체를 분사하는 다수개의 노즐(142)로 이루어진 것을 특징으로 하는 마스크 세정 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 셔터(120)가 회전되는 각도의 변경에 따라 상기 노즐(142)에서 분사되는 세정유체의 분사 각도가 변경되어 상기 챔버(110) 내측의 전후면과 양측면 및 바닥면의 세정이 이루어지는 것을 특징으로 하는 마스크 세정 장치.
  5. 제3항에 있어서,
    상기 샤워부(140)는, 상기 제1셔터(120-1)의 저면에 구비된 제1샤워부(140-1)와, 상기 제2셔터(120-2)의 저면에 구비된 제2샤워부(140-2)로 이루어지고,
    상기 노즐(142)은, 상기 제1샤워부(140-1)에 구비되는 다수개의 제1노즐(142-1)과, 상기 제2샤워부(140-2)에 구비되는 다수개의 제2노즐(142-2)로 이루어지되,
    상기 제1노즐(142-1)과 제2노즐(142-2)은 상이한 연장선(C1,C2) 상에 배치된 것을 특징으로 하는 마스크 세정 장치.
  6. 제3항에 있어서,
    노즐(142)은 세정유체의 분사 각도 조절이 가능하도록 별도의 회전구동부의 구동에 의해 회전 가능하도록 구비된 것을 특징으로 하는 마스크 세정 장치.
  7. 제3항에 있어서,
    상기 샤워부(140)에서 세정유체의 분사가 완료된 후에는, 상기 공급관(141)에 건조가스가 공급되고, 상기 노즐(142)은 상기 공급관(141)을 통해 공급되는 건조가스를 상기 챔버(110)의 내측면과 바닥면을 향하여 분사하는 것을 특징으로 하는 마스크 세정 장치.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 세정유체는 초순수(DI) 또는 이소프로필알콜(IPA)인 것을 특징으로 하는 마스크 세정 장치.
  9. 제7항에 있어서,
    상기 건조가스는 에어(Air) 또는 질소(N2)인 것을 특징으로 하는 마스크 세정 장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190140656A (ko) * 2018-06-12 2019-12-20 (주) 디바이스이엔지 마스크 세정조 불순물 제거용 순환장치 및 순환방법

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