KR101236810B1 - 기판 이송 장치 및 이를 구비하는 기판 처리 장치 그리고 그의 처리 방법 - Google Patents

기판 이송 장치 및 이를 구비하는 기판 처리 장치 그리고 그의 처리 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 습식 처리된 기판의 이송 중에 기판이 건조되는 것을 방지하기 위한 기판 이송 장치 및, 이를 구비하는 기판 처리 장치 그리고 그의 처리 방법에 관한 것이다. 기판 처리 장치는 습식 처리부로부터 습식 처리된 기판을 기판 건조부로 이송하는 기판 이송부를 포함한다. 기판 건조부는 초임계 유체로 기판을 건조한다. 기판 이송부는 기판 이송 중에 기판 이송부의 내부 기류를 차단시킨 상태에서 기판을 이송하는 기판 이송 장치를 구비한다. 본 발명에 의하면, 기판 이송 중에 기판이 건조되는 것을 방지하여, 기판에 형성된 패턴의 손상을 방지할 수 있다.
기판 처리 장치, 기판 이송 장치, 초임계 유체, 이송, 습식, 건조, 기판 건조 방지

Description

기판 이송 장치 및 이를 구비하는 기판 처리 장치 그리고 그의 처리 방법{SUBSTRATE TRANSFERING APPARATUS, FACILITY AND METHOD FOR TREATING WITH IT}
본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 좀 더 구체적으로 초임계 유체를 이용하여 기판 처리 시, 기판 이송 중에 자연 건조되는 현상을 방지하기 위한 기판 이송 장치 및 이를 구비하는 기판 처리 장치 그리고 그의 처리 방법에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 웨이퍼, 액정 표시 장치(LCD) 및 플라즈마 표시 장치(PDP) 용 기판 등의 처리하는 기판 처리 장치는 현상, 성막, 세정, 에칭, 린스, 치환 등의 다양한 일련의 공정들을 처리액을 이용하여 습식으로 처리한다. 기판에 다수의 처리액을 이용하여 습식 처리된 기판은 후속 공정에서 순수 등의 세정액을 이용하여 기판을 세정 및 린스한 후 다시 건조시킨다. 이 때, 반도체 소자가 미세화됨에 따라 기판에 형성된 패턴의 폭 및 패턴들 간이 간격이 매우 미세하므로, 기판에 형성된 패턴이 무너지거나 기울어지는 등의 붕괴 현상이 발생된다.
이러한 현상을 해결하기 위하여, 현재 여러 가지의 방법이 개발되고 있으며, 그 중 초임계 유체를 이용한 건조 기술이 유력한 수단 중 하나로서 최근 주목을 끌 고 있다. 초임계 유체를 이용한 건조 기술은 기판 건조 시, 처리액의 온도와 압력을 조절하여 초임계 상태로 형성한 다음, 기판을 건조한다.
즉, 기판을 기판 처리 장치의 고압 용기 내에 반입하고, 다양한 처리액을 이용하여 에칭, 세정 및 린스 등 일련의 습식 처리를 실시한 후, 액체 이산화탄소를 가열하여 초임계 상태의 이산화탄소로 제공하고, 이를 이용하여 기판을 건조 처리를 실시한 후 다시 감압한다.
그러나 습식 처리된 기판을 초임계 유체를 이용하여 건조시키기 위해 기판 이송 장치를 이용하여 습식 챔버로부터 건조 챔버로 기판을 이송하는 도중에 외부의 영향 예를 들어, 기판 이송 장치의 상부에 설치된 팬필터 유닛(Fan Filter Unit : FFU)의 기류에 의해 기판이 자연 건조되는 현상이 발생된다. 그로 인하여, 기판 이송 중에도 기판에 형성된 패턴이 무너지거나 기울어지는 등의 붕괴 현상이 발생되는 문제점이 있다.
본 발명의 목적은 초임계 유체를 이용하여 기판을 처리하는 기판 처리 장치 및 그의 처리 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 초임계 유체를 이용하여 기판의 습식 처리 후 건조 처리하기 위하여 기판 이송 중에 발생되는 기판 건조 현상을 방지하기 위한 기판 이송 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 기판 이송 중에 발생되는 기판 건조를 방지하여 기판의 손상을 최소화하는 기판 처리 장치 및 그의 처리 방법을 제공하는 것이다.
상기 목적들을 달성하기 위한, 본 발명의 기판 이송 장치는 기판 이송 중에 외부 영향을 제거하는데 그 한 특징이 있다. 이와 같은 기판 이송 장치는 기판 이송 중에 기판이 건조되는 것을 방지할 수 있다.
이 특징에 따른 본 발명의 기판 이송 장치는, 기판이 안착, 고정되는 적어도 하나의 핸드를 구비하여 기판을 이송하는 기판 이송 로봇과; 상기 기판 이송 로봇의 하단에 배치되어 상기 기판 이송 로봇을 지지하는 지지부 및; 상기 지지부와 결합되어 내부 공간에 상기 기판 이송 로봇이 수용되고, 상기 내부 공간을 밀폐시켜서 기판 이송 중에 기판이 건조되는 것을 방지하는 기판 건조 방지 장치를 포함한다.
한 실시예에 있어서, 상기 기판 건조 방지 장치는; 상기 기판 이송 로봇의 상부에 배치되는 상부 차단벽과; 상단이 상기 상부 차단벽의 하부면 가장자리와 결합되고, 하단이 상기 지지부와 결합되어 상기 내부 공간을 밀폐시키고, 상기 핸드의 이동 경로 상에 대응되는 일면에 기판이 출입되는 출입구가 제공되는 측벽 및; 상기 출입구를 개폐시켜는 도어를 포함한다.
다른 실시예에 있어서, 상기 기판 건조 방지 장치는; 상기 내부 공간에 배치되어 기판으로 기판이 건조되는 것을 방지하는 처리액을 공급하는 처리액 공급부재를 더 포함한다.
또 다른 실시예에 있어서, 상기 기판 건조 방지 장치는; 상기 내부 공간으로 퍼지 가스를 공급하여 상기 내부 공간의 습도를 조절하는 퍼지 가스 공급부재를 더 포함한다.
또 다른 실시예에 있어서, 상기 처리액 공급부재 및 상기 퍼지 가스 공급부재는 상기 상부 차단벽의 내측면에 설치된다.
또 다른 실시예에 있어서, 상기 기판 건조 방지 장치는; 상기 지지부의 상부면에 설치되어 상기 처리액을 회수하는 드레인 컵을 더 구비한다.
또 다른 실시예에 있어서, 상기 드레인 컵 및 상기 지지부는 내부에 상기 처리액을 드레인하는 유로가 제공된다.
본 발명의 다른 특징에 의하면, 기판 이송 중에 기판의 건조를 방지하는 기판 이송 장치를 구비하는 기판 처리 장치가 제공된다. 이와 같은 본 발명의 기판 처리 장치는 초임계 유체를 이용하여 기판 건조 시, 기판 손상을 방지할 수 있다.
이 특징의 기판 처리 장치는, 기판을 습식 처리하는 습식 처리부와; 습식 처리된 기판을 건조하는 기판 건조부 및; 기판을 이송하는 기판 이송 로봇을 제공하고, 상기 기판 이송 로봇으로 상기 습식 처리부로부터 습식 처리된 기판을 인출하여 상기 기판 건조부로 공급하도록 이송하는 기판 이송부를 포함한다. 여기서 상기 기판 이송부는 습식 처리된 기판을 상기 기판 이송 로봇이 이송 중 상기 기판 이송부의 내부 기류와 차단시켜서 기판을 이송한다.
한 실시예에 있어서, 상기 기판 이송부는; 상기 기판 이송 로봇의 하단에 배치되어 상기 기판 이송 로봇을 지지하는 지지부 및; 상기 지지부와 결합되어 내부 공간에 상기 기판 이송 로봇이 수용되고, 상기 내부 공간을 밀폐시켜서 기판 이송 중에 기판이 건조되는 것을 방지하는 기판 건조 방지 장치를 포함한다.
다른 실시예에 있어서, 상기 기판 건조 방지 장치는; 상기 기판 이송 로봇의 상부에 배치되는 상부 차단벽과; 상단이 상기 상부 차단벽의 하부면 가장자리와 결합되고, 하단이 상기 지지부와 결합되어 상기 내부 공간을 밀폐시키고, 상기 기판 이송 로봇의 이동 경로 상에 대응되는 일면에 기판이 출입되는 출입구가 제공되는 측벽과; 상기 출입구를 개폐시켜는 도어와; 상기 내부 공간에 설치되어 기판으로 기판이 건조되는 것을 방지하는 처리액을 공급하는 처리액 공급부재 및; 상기 내부 공간으로 퍼지 가스를 공급하여 상기 내부 공간의 습도를 조절하는 퍼지 가스 공급부재를 포함한다.
또 다른 실시예에 있어서, 상기 도어는 상기 기판 이송 로봇이 기판 이송 중에 폐쇄되어 상기 내부 공간을 밀폐한다. 또 상기 처리액 공급부재는 상기 내부 공간이 밀폐되고, 상기 기판 이송 로봇이 기판을 상기 기판 건조부로 이송 중에 상기 처리액을 기판으로 공급한다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 기판을 처리액으로 습식 처리하는 습식 처리부와, 습식 처리된 기판을 건조하는 기판 건조부 및, 상기 습식 처리부로부터 상기 기판 건조부로 기판을 이송하는 기판 이송 로봇을 구비하는 기판 이송부를 포함하는 기판 처리 장치의 처리 방법이 제공된다.
이 방법에 따르면, 상기 기판 이송 로봇이 상기 습식 처리부로부터 습식 처리된 기판을 상기 기판 건조부로 이송 시, 습식 처리된 기판을 수용하는 내부 공간을 밀폐시켜서 상기 기판 이송부의 기류와 차단하고, 이어서 기판을 이송한다.
한 실시예에 있어서, 상기 처리 방법은; 상기 내부 공간이 밀폐되면, 기판 이송 중에 습식 처리된 기판이 건조되는 것을 방지하도록 기판으로 건조 방지액을 분사하는 것을 더 포함한다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 기판 이송 장치는 외부 기류를 차단하여 기판을 이송함으로써, 기판 이송 중에 발생되는 기판 건조를 방지할 수 있다.
본 발명의 기판 이송 장치는 습식 처리된 기판을 초임계 유체를 이용하여 건조시키기 위하여, 습식 처리된 기판 이송 중에 기판 건조를 방지함으로써, 기판의 패턴이 붕괴되는 현상을 최소화할 수 있다.
또 본 발명의 기판 이송 장치를 구비하는 기판 처리 장치는 기판 이송 중에 기판 건조를 방지하여 기판을 처리함으로써, 기판의 손상을 방지할 수 있다.
본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 서술하는 실시예로 인해 한정되어지는 것으로 해석되어서는 안된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 구성 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장되어진 것이다.
이하 첨부된 도 1 내지 도 7을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 개략적인 구성을 도시 한 도면이고, 도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 처리 장치의 개략적인 구성을 도시한 도면이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 기판 처리 장치(10, 20)는 기판의 세정 공정 및 건조 공정을 순차적으로 처리하는 장치로서, 습식 처리부(12, 22)와 기판 건조부(14, 24) 및 기판 이송부(100, 200)를 포함한다.
습식 처리부(12, 22)는 기판을 다양한 처리액을 이용하여 세정 및 린스하는 세정 공정을 처리한다. 기판 건조부(14, 24)는 습식 처리부(12, 22)로부터 세정된 기판을 기판 이송부(100, 200)를 통해 받아서, 초임계 유체를 이용하여 건조시키는 건조 공정을 처리한다. 그리고 기판 이송부(100, 200)는 습식 처리부(12, 22)로부터 기판 건조부(14, 24)로 기판을 이송하는 기판 이송 장치(도 3의 120)를 구비한다. 이러한 기판 이송부(100, 200)는 도 1에 도시된 바와 같이, 습식 처리부(12)와 기판 건조부(14) 사이에 배치되거나, 도 2에 도시된 바와 같이, 습식 처리부(22)와 기판 건조부(24)의 일측에서 나란히 배치된다.
도 3 및 도 4는 도 1 또는 도 2에 도시된 기판 이송부의 구성을 도시한 도면들이다.
도 3을 참조하면, 기판 이송부(100 또는 200)는 내부에 기판(W)을 이송하는 공간이 형성된 프레임(102)과, 프레임(102)의 상부에 설치되어 프레임(102)의 내부 공간의 온도 및 습도 등을 조절하기 위해 기류를 형성하는 팬필터 유닛(FFU)(104)과, 프레임(102)의 내부에 설치되어 습식 처리부(12 또는 22)와 기판 건조부(14 또는 24) 간에 기판(W)을 이송하는 기판 이송 로봇(120) 및, 기판 이송 로봇(120)의 하부에 설치되고, 기판(W)을 습식 처리부(12 또는 22)와 기판 건조부(14 또는 24) 간에 이동할 수 있도록 기판 이송부(100 또는 200)의 내부에서 기판 이송 로봇(120)를 상하, 전후, 좌우로 직선 이동 및/또는 회전 이동시키는 구동 장치(130)를 포함한다.
또 기판 이송부(100 또는 200)는 기판 이송 로봇(120)를 지지하는 지지부(110)와, 기판 이송 로봇(120)가 습식 처리부(12 또는 22)로부터 습식 처리된 기판(W)을 인출하여 기판 건조부(14 또는 24)로 공급하기 위해 기판(W) 이송 중에, 습식 처리된 기판(W)이 팬필터 유닛(104)의 기류에 의해 자연 건조되는 현상을 방지하는 기판 건조 방지 장치(106 : 140 ~ 150)를 포함한다.
구체적으로 도 4를 참조하면, 기판 이송 로봇(120)는 기판(W)이 안착되는 적어도 하나의 핸드(124)와, 핸드(124)를 지지하는 구동암(122)를 포함한다.
핸드(124)는 기판(W) 이송 중에 기판(W)이 이탈되지 않도록 상부면에 기판(W)을 안착, 고정시키고, 구동암(122)의 이동에 따라 습식 처리부(12 또는 22)로 인입되어 습식 처리된 기판(W)을 인출하고, 기판 건조부(14 또는 24)로 인입되어 습식 처리된 기판(W)을 기판 건조부(14 또는 24)로 공급한다. 또 핸드(124)는 기판 건조부(14 또는 24)로 인입되어 건조 처리된 기판(W)을 인출한다.
예를 들어, 핸드(124)가 복수 개인 경우, 일부는 습식 처리부(12 또는 22)로부터 습식 처리된 기판(W)을 인출하거나 기판 건조부(14 또는 24)로 공급하고, 나머지는 기판 건조부(14 또는 24)로부터 건조된 기판을 인출하도록 제공된다. 즉, 복수 개의 핸드(124)들을 구비하는 경우, 핸드(124)들 각각은 건조된 기판과 젖은 상태의 기판을 구분해서 이송하도록 제공된다. 또 핸드(124)에는 기판(W)에 인접하게 배치되어 기판(W) 주변의 습도를 감지하는 적어도 하나의 센서(126)가 설치된다. 센서(126)는 제어부(10)와 전기적으로 연결되고, 감지된 습도를 제어부(101)로 제공한다. 따라서 제어부(101)는 센서(126)로부터 감지된 습도에 대응하여 예를 들어, 처리액 및 퍼지 가스 등을 공급하게 함으로써, 기판(W) 주변의 습도를 조절한다.
구동암(122)의 상단에는 핸드(124)가 설치되고, 하단의 양측에는 지지부(110)의 가이드 레일(118)이 설치된다. 구동암(122)은 가이드 레일(118)을 따라 습식 처리부(12 또는 22)와 기판 건조부(14 또는 24) 사이를 직선 이동한다.
지지부(110)는 상부에 핸드(124)를 지지하기 위해, 구동암(122)과 결합되는 플레이트(112)와, 플레이트(112)의 양측면에 설치되어 구동암(122)을 직선 이동시키는 가이드 레일(118)과, 플레이트(112)의 상부면에 설치되어 기판(W) 이송 중에 기판(W)의 건조를 방지하도록 공급되는 처리액 예를 들어, 이소프로필 알코올(IPA) 용액, 순수(DIW) 등의 건조 방지액, 퍼지 가스 등을 회수하는 드레인 컵(114) 및, 상부가 플레이트(112)의 하단 중앙에 결합되고 하부가 구동 장치(130)에 설치되는 고정축(116)을 포함한다.
플레이트(112)는 양측면에 가이드 레일(118)이 설치되고 가이드 레일(118)을 통해 구동암(122)과 결합된다. 플레이트(112)는 상부에 드레인 컵(114)이 설치되고, 하부 중앙에는 고정축(116)이 결합된다. 플레이트(112)의 내부에는 복수 개의 유로(113)가 형성된다. 유로(113)는 드레인 컵(114)에 형성된 유로(111)와 연결된 다. 유로(111, 113)는 드레인 컵(114)에 회수된 처리액을 드레인시키거나, 퍼지 가스를 외부로 배기시킨다.
드레인 컵(114)은 기판 건조 방지 장치(106)로부터 공급되는 처리액을 회수한다. 드레인 컵(114)은 내부에 회수된 건조 방지액을 드레인시키거나 퍼지 가스를 배기시키기 위한 복수 개의 유로(111)가 형성된다. 유로(111)들은 건조 방지액 및 퍼지 가스를 드레인 및 배기시키기 위해 플레이트(112)의 유로(113)와 연결된다.
고정축(116)은 내부에 복수 개의 유로(115, 117)가 형성된다. 유로(115, 117)는 배기 유로(117)와 드레인 유로(115)들로 분리되며, 이들(115, 117)은 플레이트(112)의 유로(113)와 연결된다. 또 고정축(116)은 구동 장치(130)에 의해 상하, 전후, 좌우 및/또는 회전된다. 따라서 고정축(116)의 이동에 대응하여 플레이트(112)는 상하, 전후, 좌우 및/또는 회전된다.
그리고 기판 건조 방지 장치(106 : 140 ~ 160)는 기판(W)이 안착된 핸드(124)의 주변 공간(이하 밀폐 공간이라 한다)을 밀폐시키는 밀폐부재(140)와, 밀폐 공간의 일측이 개방되어 기판(W)이 출입되는 출입부(108)를 개폐하는 게이트 부재(150) 및, 기판(W) 이송 중에 기판(W)의 건조를 방지하고, 밀폐 공간의 습도를 조절하기 위한 처리액(예를 들어, 건조 방지액, 퍼지 가스 등)을 공급하는 적어도 하나의 처리액 공급부재(160)를 포함한다.
밀폐부재(140)는 팬필터 유닛(104)으로부터 생성되는 기류를 차단하는 상부 차단벽(142)과, 상부 차단벽(142)의 하부면 가장자리에 결합되어 밀폐 공간을 형성하는 측벽(144)을 포함한다. 측벽(144) 중 전면 일부에는 기판 및 핸드(124)가 출 입되는 출입구(108)가 형성된다. 이 때, 전면은 기판 이송 로봇(120)의 이동 경로 상에 배치된다. 출입구(108)는 게이트 부재(150)에 의해 개방 및 폐쇄된다. 따라서 출입구(108)가 폐쇄되면 밀폐부재(140)에 의해 기판(W) 이송 중에 외부 영향으로 인한 자연 건조가 방지된다.
게이트 부재(150)는 출입구(108)를 개방 및 폐쇄하는 도어(152)와, 도어(152)를 상하로 구동하는 구동부(156) 및, 출입구(108)에 대응하는 플레이트(112)의 일측면에 고정 설치되어 내부에 도어(152)가 수용되고, 구동부(156)에 의해 도어(152)가 상하 이동되는 내부 공간을 제공하는 도어 수납부(154)를 포함한다. 구동부(156)는 제어부(101)의 제어를 받아서 도어(152)를 개폐한다.
그리고 처리액 공급부재(160)는 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이, 밀폐 공간 내부에서 기판(W) 방향으로 건조 방지액을 공급하는 복수 개의 건조 방지액 노즐(162)들과, 밀폐 공간 내부에서 기판(W) 방향으로 퍼지 가스를 공급하는 복수 개의 퍼지 가스 노즐(164)과, 건조 방지액 노즐(162)들로 건조 방지액을 공급하는 건조 방지액 공급부(166) 및, 퍼지 가스 노즐(164)들로 퍼지 가스를 공급하는 퍼지 가스 공급부(168)를 포함한다. 건조 방지액은 예를 들어, 이소프로필 알코올(IPA) 용액, 순수(DIW) 등을 포함한다.
건조 방지액 노즐(162)과 퍼지 가스 노즐(164)은 상부 차단벽(142)의 내측면에 고정 설치된다. 건조 방지액 노즐(162)과 퍼지 가스 노즐(164)은 기판(W)의 상부에서 기판(W)의 전체 영역을 덮을 수 있는 바(bar) 타입의 노즐들로 각각 구비된다. 건조 방지액 노즐(162)과 퍼지 가스 노즐(164) 각각은 처리액 또는 퍼지 가스 를 균일하게 분사하도록 복수 개의 분사구(162a, 164a)들이 제공된다. 또 건조 방지액 노즐(162)은 1 유체 또는 2 유체 방식으로 처리액을 분사할 수 있다.
다른 실시예(100' 또는 200')의 처리액 공급부재(170)는 도 6에 도시된 바와 같이, 원형의 플레이트 형상(예를 들어, 샤워 헤드)으로 제공된다. 이 처리액 공급부재(170)는 핸드(124)에 안착, 고정된 기판(W)의 전체 영역을 덮을 수 있는 크기로 제공되어, 상부 차단벽(142)의 내측면에 고정 설치된다. 또 처리액 공급부재(170)는 처리액 및 퍼지 가스를 기판(W) 상부에서 기판(W)으로 토출하는 복수 개의 토출구(162b, 164b)들이 구비된다. 토출구(162b, 164b)들의 일부(162b)는 처리액을 토출하고 나머지(164b)는 퍼지 가스를 분사한다. 이러한 토출구(162b, 164b)들은 기판(W)의 전체 영역에 처리액 또는 퍼지 가스가 균일하게 공급되도록 균등한 간격으로 배치된다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 기판 처리 장치(10, 20)는 기판 이송 로봇(120)이 기판(W) 이송 중에 기판(W)을 외부와 차단시킴으로써, 습식 처리된 기판(W)을 초임계 유체를 이용하여 건조시키는 기판 건조부(14, 24)로 이송 중에 발생되는 기판(W) 건조를 방지할 수 있다.
계속해서 도 7은 본 발명에 따른 기판 처리 장치의 처리 수순을 도시한 흐름도이다.
도 7을 참조하면, 단계 S300에서 기판 처리 장치(10, 20)는 습식 처리부(12, 22)에서 기판(W)을 습식 처리한다. 예를 들어, 습식 처리부(12, 22)는 처리액을 이용하여 기판(W)을 세정 및 린스한다. 단계 S310에서 습식 처리된 기판(W)은 기판 이송부(100, 200)로 투입된다. 즉, 기판 이송부(100, 200)의 기판 이송 장치(120)는 핸드(124)를 이동하여 습식 처리부(12, 22)로부터 습식 처리된 기판(W)을 인출한다.
단계 S320에서 핸드(124)에 습식 처리된 기판(W)이 안착, 고정되면, 게이트 부재(150)를 구동시켜서 기판 이송 로봇(120)의 주변 공간을 밀폐한다.
단계 S330에서 밀폐된 내부 공간에서 기판 이송 중(S1)에 기판(W)이 건조되는 것을 방지하기 위해, 기판(W) 상부로부터 건조 방지액을 분사한다. 또 단계 S340에서 밀폐된 내부 공간의 습도를 일정하게 조절하기 위하여 퍼지 가스를 공급한다.
단계 S350에서 기판(W) 이송이 완료되면, 게이트 부재(150)를 구동시켜서 기판 이송부(100, 200)를 개방하고, 이어서 단계 S360에서 습식 처리된 기판(W)을 기판 건조부(14, 24)로 공급한다. 여기서 후속 수순은 도시되지 않았지만, 기판 건조부(14, 24)에서 기판(W)이 건조 완료되면, 다시 기판 이송부(100, 200)의 기판 이송 장치(120)를 이용하여 기판(W)을 인출하여 외부로 기판(W)을 이송한다.
이상에서, 본 발명에 따른 기판 이송 장치 및 이를 구비하는 기판 처리 장치의 구성 및 작용을 상세한 설명과 도면에 따라 도시하였지만, 이는 실시예를 들어 설명한 것에 불과하며, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화 및 변경이 가능하다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치의 개략적인 구성을 도시한 도면;
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 세정 장치의 개략적인 구성을 도시한 도면;
도 3은 도 1 또는 도 2에 도시된 기판 이송부의 구성을 도시한 측면도;
도 4는 도 3에 도시된 기판 이송부의 상세한 구성을 도시한 도면;
도 5는 도 4에 도시된 기판 이송부의 일 실시예에 따른 구성을 도시한 도면;
도 6은 도 4에 도시된 기판 이송부의 다른 실시예에 따른 구성을 도시한 도면; 그리고
도 7은 본 발명에 따른 초임계 유체를 이용하는 기판 세정 장치의 처리 수순을 도시한 흐름도이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호 설명 *
10, 20 : 기판 처리 장치 12, 22 : 습식 처리부
14, 24 : 기판 건조부 100, 200 : 기판 이송부
110 : 지지부 120 : 기판 이송 로봇
130 : 구동 장치 140 : 밀폐부재
150 : 게이트 부재 160 : 처리액 공급부재

Claims (13)

  1. 기판 이송 장치에 있어서:
    기판이 안착, 고정되는 적어도 하나의 핸드를 구비하여 기판을 이송하는 기판 이송 로봇과;
    상기 기판 이송 로봇의 하단에 배치되어 상기 기판 이송 로봇을 지지하는 지지부 및;
    상기 지지부와 결합되어 내부 공간에 상기 기판 이송 로봇이 수용되고, 상기 내부 공간을 밀폐시켜서 기판 이송 중에 기판이 건조되는 것을 방지하는 기판 건조 방지 장치를 포함하되;
    상기 기판 건조 방지 장치는,
    상기 내부 공간에 설치되어 기판으로 건조 방지액을 공급하는 건조 방지액 노즐과;
    상기 내부 공간으로 퍼지 가스를 공급하는 퍼지 가스 노즐과;
    상기 내부 공간의 습도를 감지하는 센서와;
    상기 센서로부터 감지된 상기 내부 공간의 습도에 따라 건조 방지액 또는 퍼지가스 중 적어도 어느 하나를 공급하여 상기 내부공간의 습도가 조절되도록 상기 건조 방지액 노즐과 상기 퍼지가스 노즐을 제어하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 기판 건조 방지 장치는;
    상기 기판 이송 로봇의 상부에 배치되는 상부 차단벽과;
    상단이 상기 상부 차단벽의 하부면 가장자리와 결합되고, 하단이 상기 지지부와 결합되어 상기 내부 공간을 밀폐시키고, 상기 핸드의 이동 경로 상에 대응되는 일면에 기판이 출입되는 출입구가 제공되는 측벽 및;
    상기 출입구를 개폐시켜는 도어를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 장치.
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 제 2 항에 있어서,
    상기 건조 방지액 노즐 및 상기 퍼지 가스 노즐은 상기 상부 차단벽의 내측면에 설치되는 것을 특징으로 하는 기판 이송 장치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 기판 건조 방지 장치는;
    상기 지지부의 상부면에 설치되어 상기 건조 방지액 또는 상기 퍼지 가스를 회수하는 드레인 컵을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 장치.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 드레인 컵 및 상기 지지부는 내부에 상기 건조 방지액 또는 상기 퍼지 가스를 드레인하는 유로가 제공되는 것을 특징으로 하는 기판 이송 장치.
  8. 기판 처리 장치에 있어서:
    기판을 습식 처리하는 습식 처리부와;
    습식 처리된 기판을 건조하는 기판 건조부 및;
    기판을 이송하는 기판 이송 로봇을 제공하고, 상기 기판 이송 로봇으로 상기 습식 처리부로부터 습식 처리된 기판을 인출하여 상기 기판 건조부로 공급하도록 이송하는 기판 이송부를 포함하되;
    상기 기판 이송부는 습식 처리된 기판을 상기 기판 이송 로봇이 이송 중 상기 기판 이송부의 내부 기류와 차단시켜서 기판을 이송하고,
    상기 기판 이송부는;
    상기 기판 이송 로봇의 하단에 배치되어 상기 기판 이송 로봇을 지지하는 지지부 및;
    상기 지지부와 결합되어 내부 공간에 상기 기판 이송 로봇이 수용되고, 상기 내부 공간을 밀폐시켜서 기판 이송 중에 기판이 건조되는 것을 방지하는 기판 건조 방지 장치를 포함하되;
    상기 기판 건조 방지 장치는,
    상기 내부 공간에 설치되어 기판으로 건조 방지액을 공급하는 건조 방지액 노즐과;
    상기 내부 공간으로 퍼지 가스를 공급하는 퍼지 가스 노즐과;
    상기 내부 공간의 습도를 감지하는 센서와;
    상기 센서로부터 감지된 상기 내부 공간의 습도에 따라 건조 방지액 또는 퍼지 가스 중 적어도 어느 하나를 공급하여 상기 내부공간의 습도가 조절되도록 상기 건조 방지액 노즐과 상기 퍼지 가스 노즐을 제어하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  9. 삭제
  10. 제 8 항에 있어서,
    상기 기판 건조 방지 장치는;
    상기 기판 이송 로봇의 상부에 배치되는 상부 차단벽과;
    상단이 상기 상부 차단벽의 하부면 가장자리와 결합되고, 하단이 상기 지지부와 결합되어 상기 내부 공간을 밀폐시키고, 상기 기판 이송 로봇의 이동 경로 상에 대응되는 일면에 기판이 출입되는 출입구가 제공되는 측벽과;
    상기 출입구를 개폐시켜는 도어를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 도어는 상기 기판 이송 로봇이 기판 이송 중에 폐쇄되어 상기 내부 공간을 밀폐하고;
    상기 건조 방지액 노즐은 상기 내부 공간이 밀폐되고, 상기 기판 이송 로봇이 기판을 상기 기판 건조부로 이송 중에 상기 건조 방지액을 기판으로 공급하는 기판 처리 장치.
  12. 기판 처리 장치의 처리 방법에 있어서:
    상기 기판 처리 장치는 기판을 처리액으로 습식 처리하는 습식 처리부와, 습식 처리된 기판을 건조하는 기판 건조부 및, 상기 습식 처리부로부터 상기 기판 건조부로 기판을 이송하는 기판 이송 로봇을 구비하는 기판 이송부를 포함하고,
    상기 기판 이송 로봇이 상기 습식 처리부로부터 습식 처리된 기판을 상기 기판 건조부로 이송 시, 습식 처리된 기판을 수용하는 내부 공간을 밀폐시켜서 상기 기판 이송부의 기류와 차단하고, 상기 내부 공간의 습도를 감지하며, 습식 처리된 기판이 건조되는 것을 방지하도록 기판으로 건조 방지액과 퍼지가스 중 적어도 어느 하나가 분사되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치의 처리 방법.
  13. 삭제
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150060126A (ko) * 2013-11-26 2015-06-03 주식회사 케이씨텍 분사식 웨이퍼의 웨팅 장치
WO2017116686A1 (en) * 2015-12-30 2017-07-06 Mattson Technology, Inc. Fluid leakage detection for a millisecond anneal system

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013254904A (ja) * 2012-06-08 2013-12-19 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置及び基板処理方法
KR102041312B1 (ko) * 2012-07-31 2019-11-06 세메스 주식회사 기판 건조 장치
JP6407629B2 (ja) * 2014-08-29 2018-10-17 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 搬送装置および基板処理装置
KR101895406B1 (ko) * 2018-01-04 2018-09-05 세메스 주식회사 반송유닛 및 기판 처리 장치
KR102357841B1 (ko) * 2020-05-26 2022-02-04 무진전자 주식회사 기판 이송 장치
KR102640371B1 (ko) 2021-09-03 2024-02-27 엘에스이 주식회사 기판 이송 장치
KR102670132B1 (ko) * 2021-10-01 2024-05-29 엘에스이 주식회사 기판 이송 장치
KR102606177B1 (ko) 2021-11-09 2023-11-29 엘에스이 주식회사 기판 이송 장치
KR102599614B1 (ko) 2021-12-02 2023-11-08 엘에스이 주식회사 기판 이송 장치
KR20230092188A (ko) 2021-12-17 2023-06-26 삼성전자주식회사 기판 처리 장치 및 방법
KR20230155691A (ko) 2022-05-04 2023-11-13 엘에스이 주식회사 기판 이송 장치

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06275585A (ja) * 1993-03-18 1994-09-30 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
JPH10247677A (ja) 1997-03-04 1998-09-14 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
JPH11251255A (ja) 1998-02-27 1999-09-17 Super Silicon Kenkyusho:Kk 半導体ウエハ製造方法及び装置
KR20020083462A (ko) * 2001-04-27 2002-11-02 가부시키가이샤 고베 세이코쇼 기판 처리 방법 및 기판 처리 설비

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06275585A (ja) * 1993-03-18 1994-09-30 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
JPH10247677A (ja) 1997-03-04 1998-09-14 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
JPH11251255A (ja) 1998-02-27 1999-09-17 Super Silicon Kenkyusho:Kk 半導体ウエハ製造方法及び装置
KR20020083462A (ko) * 2001-04-27 2002-11-02 가부시키가이샤 고베 세이코쇼 기판 처리 방법 및 기판 처리 설비

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150060126A (ko) * 2013-11-26 2015-06-03 주식회사 케이씨텍 분사식 웨이퍼의 웨팅 장치
KR102111592B1 (ko) 2013-11-26 2020-06-08 주식회사 케이씨텍 분사식 웨이퍼의 웨팅 장치
WO2017116686A1 (en) * 2015-12-30 2017-07-06 Mattson Technology, Inc. Fluid leakage detection for a millisecond anneal system

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