JP2002334829A

JP2002334829A - 洗浄乾燥装置

Info

Publication number: JP2002334829A
Application number: JP2001139857A
Authority: JP
Inventors: Yoshiharu Yamamoto; 義治山本
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 2001-05-10
Filing date: 2001-05-10
Publication date: 2002-11-22

Abstract

(57)【要約】【課題】被洗浄物を洗浄後に手間を掛けずに汚染や酸化
を抑制しながら乾燥することのできる洗浄乾燥装置を提
供する。【解決手段】洗浄液を噴射する噴射器２１と、噴射器及
び被洗浄物を収容し、上部に被洗浄物が通過可能な開口
４ｂを有する洗浄室２と、洗浄室の上部に固定され、開
口を介して洗浄室と連通する乾燥室３と、洗浄室内を昇
降可能であって、被洗浄物を支持可能な上面を有し、上
昇時に開口を気密に封じる遮蔽板１２とを備えることを
特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、半導体製造用の
マスク、同じくレチクル、及びそれらを収納するケース
などのように、高い清浄度が要求される被洗浄物を洗浄
し乾燥する洗浄乾燥装置に属する。

【０００２】

【従来の技術】従来、半導体製造用のマスクやマスクケ
ースは、アルコールや温水などの洗浄液を噴射したり、
洗浄装置に備え付けのブラシで汚れを落としたりするこ
とにより、洗浄されていた。そして、洗浄後は、洗浄装
置と異なる場所に置かれた乾燥装置に被洗浄物を搬送し
て乾燥していた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来の洗
浄及び乾燥方法では、被洗浄物を洗浄装置から乾燥装置
まで搬送する手間が掛かる上、搬送の過程で被洗浄物が
汚染されたり酸化されたりする。それ故、この発明の課
題は、被洗浄物を洗浄後に手間を掛けずに汚染や酸化を
抑制しながら乾燥することのできる洗浄乾燥装置を提供
することにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】その課題を解決するため
に、この発明の洗浄乾燥装置は、洗浄液を噴射して被洗
浄物を洗浄する装置において、洗浄液を噴射する噴射器
と、噴射器及び被洗浄物を収容し、上部に被洗浄物が通
過可能な開口を有する洗浄室と、洗浄室の上部に固定さ
れ、開口を介して洗浄室と連通する乾燥室と、洗浄室内
を昇降可能であって、被洗浄物を支持可能な上面を有
し、上昇時に開口を気密に封じる遮蔽板とを備えること
を特徴とする。

【０００５】この発明の洗浄乾燥装置によれば、洗浄室
内で遮蔽板の上面に被洗浄物を支持した状態で噴射器よ
り洗浄液を噴射することにより洗浄することができる。
被洗浄物は遮蔽板とともに昇降可能であるから、噴射器
の噴射範囲より被洗浄物のほうが上下方向に長くても被
洗浄物の対象面全体を洗浄することができる。そして、
洗浄後、被洗浄物を遮蔽板から取り外すことなく、その
まま遮蔽板とともに上昇させて開口を通過させる。被洗
浄物が乾燥室に収容されると同時に、開口が遮蔽板で気
密に封じられる。洗浄室から乾燥室への移動時間は僅か
であるので、その間での被洗浄物の汚染や酸化が抑制さ
れる。従って、清浄さを保って乾燥することができる。

【０００６】この発明において、前記開口及び遮蔽板が
同方向に傾斜していると、遮蔽板の上面に洗浄液が溜ま
らないので、乾燥効率が良くなって好ましい。また、前
記噴射器は、洗浄室内で被洗浄物に向かって被洗浄物表
面と垂直な面内で揺動可能であって且つ被洗浄物表面と
平行方向に往復動可能であると、被洗浄物の表面に凹凸
が存在しても、噴射器を常に被洗浄物に対して適切な距
離に配置することができるし、また被洗浄物が幅広であ
っても、被洗浄物の幅方向全体に洗浄液を噴射すること
ができる。

【０００７】この発明の洗浄乾燥装置は、前記各構成要
素に加えて、前記遮蔽板を昇降させる昇降装置を前記乾
燥室の外側に備えれば、乾燥室の密閉構造を容易に実現
することができる。

【０００８】

【発明の実施の形態】この発明の洗浄乾燥装置の実施形
態を図１及び図２に鉛直方向断面図として、図３に図２
のＡ−Ａ’断面図として示す。図１は被洗浄物着脱操作
時及び乾燥時の状態を示し、図２は洗浄時の状態を示
す。

【０００９】洗浄乾燥装置１は、半導体製造用レチクル
ケース１０を洗浄し乾燥する装置であって、洗浄室２と
その上部に直結された乾燥室３とからなる。両室２，３
は、乾燥室３の底板４に設けられた開口４ｂを介して連
通している。底板４は、乾燥室３前面の扉５に向かって
下降するように傾斜しており、洗浄室２の天井の一部を
も兼ねる。開口４ｂの大きさは、レチクルケース１０を
直立させた状態で容易に通過させることのできるように
設計されている。

【０００１０】洗浄室２内には、レチクルケース１０を
直立させて固定する枠１１を上面１２ａに取り付けた遮
蔽板１２が昇降可能に設けられている。図１に示すよう
に、遮蔽板１２が最上位にあるときは開口４ｂの周縁に
装着されたシール材４ａとで開口４ｂを閉じ、洗浄室２
と乾燥室３との間の気液の出入りが遮断されるととも
に、レチクルケース１０全体が乾燥室３内の雰囲気に覆
われる。

【００１１】遮蔽板１２の昇降は、乾燥室３の背面に設
けられた昇降装置によって制御される。昇降装置は、図
３に示すように乾燥室３の背面中央に立てられたボール
ねじ６、その両側に平行に立てられた２本のリニアガイ
ドレール７、リフトベース８及び２本のリフト軸９から
なる。リフトベース８は、乾燥室３の背面から両側面に
各々延びるリフト軸ホルダー８ａを有し、ボールねじ６
のナットに接続された移動体６ａに固定されてリニアガ
イドレール７によって案内されながら昇降する。２本の
リフト軸９は、そのリフト軸ホルダー８ａの左右方向両
端に洗浄室２の天井を貫通して下方に延びるように取り
付けられ、その下端に遮蔽板１２が固定されている。

【００１２】洗浄乾燥装置１は、枠１１に固定されたレ
チクルケース１０の前方に２個の高周波液噴射器２１及
び２個のブローノズル２３、同じく後方に４個の噴射ノ
ズル２２及び５個のブローノズル２４を備えている。２
個の高周波液噴射器２１はレチクルケース１０の表面１
０ｂと平行且つ水平に設けられた回転軸２１ｂを中心と
して同期して揺動可能である。また、２個のブローノズ
ル２３も回転軸２１ｂと平行な回転軸２３ｂを中心とし
て同期して揺動可能である。但し、噴射器２１とブロー
ノズル２３とは、個別に揺動する。一方、後方の噴射ノ
ズル２２及びブローノズル２４はすべて、回転軸２１ｂ
と平行な単一の回転軸２２ｂを中心として同期して揺動
する。更に図略のリンク機構によって高周波液噴射器２
１、噴射ノズル２２及びブローノズル２３，２４は、各
々の回転軸の方向に変位可能である。

【００１３】高周波液噴射器２１からは、切換弁２１ａ
を介して供給される洗浄液が噴射器２１内部の振動子の
作用で８００ＫＨｚ〜２ＭＨｚの高周波を伝搬しながら
噴射される。噴射ノズル２２からも同じ洗浄液２９が切
換弁２２ａを介して噴射される。尚、レチクルケース１
０の裏面の洗浄度を上げるために噴射ノズル２２の代わ
りに高周波液噴射器を取り付けても良い。ブローノズル
２３，２４からは各々切換弁２３ａ，２４ａを介してク
リーンエア２８が吹き出される。

【００１４】乾燥室３の背面には、切換弁３１ａを介し
て真空ポンプ２５に接続する排気口３１と、切換弁３２
ａ又は切換弁３３ａを介して窒素ガス２６又はオゾンガ
ス２７を供給する供給口３２が設けられている。

【００１５】この実施形態の洗浄乾燥装置１は、これを
用いてレチクルケース１０を洗浄し乾燥する場合、以下
のように動作する。図１のように遮蔽板１２を乾燥室３
に移動させておき、扉５を開いてレチクルケース１０を
乾燥室３に入れ、その蓋１０ａを開いた状態にして枠１
１に固定する。扉５を閉じて図略のモーターを駆動させ
てボールねじ６を回転させ、移動体６ａを下降させる。
レチクルケース１０の表面をオゾンガス２７で改質する
場合は移動体６ａを下降させる前に乾燥室３が密閉され
た状態で切換弁３３ａを切り換えてオゾンガス２７を乾
燥室３に導入し、改質処理終了後に移動体６ａを下降さ
せる。

【００１６】移動体６ａと共にリフトベース８、リフト
軸９及び遮蔽板１２が下降する。図２に示すようにレチ
クルケース１０が洗浄室２に入ると、遮蔽板１２を回避
していた高周波噴射器２１及び噴射ノズル２２がレチク
ルケース１０に接近し、レチクルケース１０の下降中に
洗浄液２７を噴射する。高周波噴射器２１及び噴射ノズ
ル２２は、センサーによって位置が検出されながら図略
の制御プログラムによって制御され、各々の回転軸の方
向に往復運動すると同時に、レチクルケース１０の表面
１０ｂ及び裏面１０ｃの凹凸に対して距離が常にほぼ一
定になるように揺動する。こうしてレチクルケース１０
の蓋１０ａ、表面１０ｂ及び裏面１０ｃがほぼ均一に洗
浄される。

【００１７】洗浄し終わると、遮蔽板１２が停止し、上
昇し始める。遮蔽板１２が傾斜しているので、その上面
１２ａに洗浄液２９が溜まることなく速やかに流れ落ち
る。高周波液噴射器２１及び噴射ノズル２２がレチクル
ケース１０から遠ざかり、代わってブローノズル２３，
２４が接近し、レチクルケース１０の上昇中にクリーン
エア２８を吹き付ける。このときもレチクルケース１０
の表面１０ｂ及び裏面１０ｃの凹凸に対してクリーンエ
ア２８吹き出し口との距離がほぼ一定となるようにブロ
ーノズル２３，２４が揺動する。こうしてレチクルケー
ス１０に付着していた液滴が飛ばされる。

【００１８】表面１０ｂ及び裏面１０ｃの下端までブロ
ーされると、ブローノズル２３，２４へのクリーンエア
２８の供給を停止し、ブローノズル２３，２４はレチク
ルケース１０から遠ざかるように揺動して遮蔽板１２と
の干渉を回避する。遮蔽板１２が更に上昇し、レチクル
ケース１０が乾燥室３に移送される。遮蔽板１２の上面
１２ａがシール材４ａに密着したところでボールねじ６
の駆動が停止し、乾燥室３内が図１に示すように密閉さ
れる。この状態で切換弁３１ａを開いて真空ポンプ２５
で乾燥室３内を減圧することにより、レチクルケース１
０を乾燥させる。その後、扉５を開いてレチクルケース
１０を取り出す。

【００１９】以上の操作において、洗浄前から乾燥後に
至るまでレチクルケース１０を別の場所に搬送すること
はもちろん、手で触れる必要も無い。レチクルケース１
０に代わってレチクルが被洗浄物となる場合、レチクル
表面の酸化や汚染を抑制するために、洗浄操作の前後の
適時に切換弁３１ａ及び切換弁３２ａを開いて洗浄室２
及び乾燥室３を減圧しながら窒素ガスなどの不活性気体
２６を導入し、レチクルの周囲の気体を不活性気体２６
で置換するとよい。尚、この不活性気体導入は、ブロー
ノズル２３，２４によって行っても良い。

【００２０】

【発明の効果】この発明の洗浄乾燥装置は、洗浄室と乾
燥室とが開口を介して直結しているので、洗浄後直ちに
乾燥することができる。従って、洗浄過程から乾燥過程
に至るまでの間での被洗浄物の汚染や酸化が抑制され
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】被洗浄物着脱時又は乾燥時における、この発
明の洗浄乾燥装置の実施形態を示す鉛直方向断面図であ
る。

【図２】被洗浄物洗浄時における、この発明の洗浄乾
燥装置の実施形態を示す鉛直方向断面図である。

【図３】図２のＡ−Ａ’断面図である。

【符号の説明】

１洗浄乾燥装置２洗浄室３乾燥室４底板４ａシール材４ｂ開口５扉６ボールねじ６ａ移動体７リニアガイドレール８リフトベース８ａリフト軸ホルダー９リフト軸１０レチクルケース１０ａ蓋１０ｂ表面１０ｃ裏面１１枠１２遮蔽板１２ａ上面２１高周波液噴射器２２噴射ノズル２３，２４ブローノズル２１ａ，２２ａ．２３ａ，２４ａ切換弁２１ｂ，２２ｂ，２３ｂ回転軸２５真空ポンプ２６窒素ガス２７オゾンガス２８クリーンエア２９洗浄液３０ドレン３１排気口３２供給口３１ａ，３２ａ，３３ａ切換弁

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０３Ｆ 1/08 Ｈ０１Ｌ 21/304 ６５１ＧＨ０１Ｌ 21/304 ６５１６５１Ｋ 21/30 ５０３ＧＦターム(参考） 2H095 BA01 BB21 BB23 BB30 BB31 3B201 AA01 AB02 AB47 BB02 BB21 BB42 BB90 BB92 BB98 CC11 CD33 3L113 AA01 AB02 AC23 BA34 CB15 DA24 5F046 AA21 AA28 CB17

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】洗浄液を噴射して被洗浄物を洗浄し、乾燥
する装置において、洗浄液を噴射する噴射器と、噴射器及び被洗浄物を収容し、上部に被洗浄物が通過可
能な開口を有する洗浄室と、洗浄室の上部に固定され、開口を介して洗浄室と連通す
る乾燥室と、洗浄室内を昇降可能であって、被洗浄物を支持可能な上
面を有し、上昇時に開口を気密に封じる遮蔽板とを備え
ることを特徴とする洗浄乾燥装置。
【請求項２】前記開口及び遮蔽板は同方向に傾斜してい
る請求項１に記載の洗浄乾燥装置。
【請求項３】前記噴射器は、洗浄室内で被洗浄物に向か
って被洗浄物表面と垂直な面内で揺動可能であって且つ
被洗浄物表面と平行方向に往復動可能である請求項１又
は２に記載の洗浄乾燥装置。
【請求項４】更に、前記遮蔽板を昇降させる昇降装置を
前記乾燥室の外側に備える請求項１乃至３のいずれかに
記載の洗浄乾燥装置。
【請求項５】乾燥室の前面に被洗浄物を出し入れする扉
が付けられている請求項１乃至４のいずれかに記載の洗
浄乾燥装置。
【請求項６】更に、前記乾燥室内を減圧する手段を備え
る請求項１乃至５のいずれかに記載の洗浄乾燥装置。