JPH10223593A - 枚葉式ウェハ洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 洗浄時間の大幅な短縮化を図ることができる
とともに、枚葉式でありながらも洗浄処理能力を向上さ
せること。 【解決手段】 ウェハ３０の上下面に対して洗浄槽２０
内部に設けられた噴出ノズル２２と、ステージ５０側に
設けた噴出口５１とから洗浄液を噴き付けるようにした
ので、ウェハ３０の上下面には絶えず純粋な洗浄液が供
給されることになり、それぞれの処理工程にて生じた金
属粉、有機物、付着粒子物等の洗浄が上下面同時に確実
に行われる。また、複数の洗浄槽２０ａ〜２０ｃを縦方
向に積み重ねて配設し、一度に複数のウェハ３０の洗浄
を行わせるようにした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、ウェハを薬液等
によって洗浄する枚葉式ウェハ洗浄装置に係り、特に、
ウェハの上下面を同時に洗浄するとともに、洗浄を複数
枚のウェハに対して行う枚葉式ウェハ洗浄装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】周知のように、それぞれの処理工程にお
けるウェハは、薬液、有機溶剤、純水等の洗浄液により
洗浄される。

【０００３】これは、異物の除去はもとより金属汚染や
有機物汚染を除去するためであり、このようなウェハの
洗浄を行う洗浄装置として、バッチ式と枚葉式とがあ
る。

【０００４】バッチ式の洗浄装置は、複数枚のウェハを
起立状態に並列させ洗浄槽内に浸漬することで洗浄を行
うものである。

【０００５】一方、枚葉式は、ウェハを一枚づつ洗浄槽
内に搬入し、ウェハの表面に遠心スプレーやジェットス
プレーすることで洗浄を行うものである。

【０００６】ところで、上記バッチ式の場合は、一度に
複数枚のウェハの洗浄処理を行えるという利点があるも
のの、ウェハの部位により反応に遅速を生じ、むらを発
生したり、使用により次第に汚染されてくる洗浄液の入
替等の対策も講じなければならなかったり、ウェハの直
径が大きくなると、複数枚をまとめて取り扱うことは難
しい等の問題がある。

【０００７】一方、枚葉式の場合は、バッチ式に比べて
洗浄液の入替等の対策を講じる必要がない等の点で有利
であるが、遠心スプレーやジェットスプレーによって洗
浄を行う方法であるため、ウェハの表面全体に洗浄液が
均一に分布せず、縞状、線状等のむらを生じることがあ
る。

【０００８】そこで、特開平５−３４７２８９号公報で
は、むら等を生じることなく枚葉式に洗浄できるように
したウェハ洗浄方法およびその装置を提案している。

【０００９】これは、ウェハを回転させながら、被洗浄
面に沿って横方向から洗浄液を供給し、被洗浄面に均一
な流れの洗浄液層を形成してウェハの洗浄を行わせるよ
うにしたものである。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】ところが、上述した従
来の枚葉式の洗浄方法では、ウェハの一面に対して横方
向から洗浄液を供給する方法であるため、ウェハの一面
に供給された洗浄液の排液がウェハの周縁から他面側に
回り込んでしまうと、その他面側が汚染されてしまうお
それがあり、他面側に排液が回り込まないような手段を
講じる必要性がある。

【００１１】この場合、ウェハの一面側の洗浄を終えた
後、ウェハを反転させて他面側の洗浄を行うことで汚染
対策を講じることは可能となるものの、そのためにウェ
ハを反転させるための機構が別途必要となるばかりか、
洗浄に要する時間が反転に要する時間を含め通常の倍強
掛かることになるため、洗浄時間の短縮化を図る上での
妨げとなっている。

【００１２】また、枚葉式はバッチ式に比べて１枚づつ
の洗浄方法をとるため、洗浄処理能力が低いといった欠
点もある。

【００１３】この発明は、かかる現状に鑑み創案された
ものであって、その目的とするところは、洗浄時間の大
幅な短縮化を図ることができるとともに、枚葉式であり
ながらも洗浄処理能力を向上させることができる枚葉式
ウェハ洗浄装置を提供しようとするものである。

【００１４】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１に記載の発明は、ウェハを浮上させつつ所
定方向に回転させた状態で前記ウェハの洗浄を行う枚葉
式ウェハ洗浄装置を技術的前提とし、前記ウェハの上面
側から洗浄液を噴出する第１の噴出口を有した洗浄槽
と、この洗浄槽の内部に配設され、前記ウェハの下面側
から洗浄液を噴出する第２の噴出口を有したステージ
と、を具備し、前記第１及び第２の噴出口から噴出され
た洗浄液が前記ウェハの回転による遠心力によって前記
ウェハの上下面の全体に均一に広がることで洗浄が行わ
れるように構成したことを特徴とするものである。

【００１５】そして、この発明では、ウェハの上下面に
対して洗浄槽内部に設けられた第１の噴出口と、ステー
ジ側に設けられた第２の噴出口とから洗浄液が噴き付け
られると、ウェハに噴き付けられた洗浄液はウェハの回
転による遠心力によってウェハの上下面の全体に均一に
広がり、ウェハの外周縁から下方に流下する。

【００１６】このとき、ウェハの下面側に上面側からの
排液が回り込もうとしても下面側に噴出される洗浄液に
よってはじき出されるため、ウェハの上下面には絶えず
純粋な洗浄液が供給されることになり、それぞれの処理
工程にて生じた金属粉、有機物、付着粒子物等の洗浄が
上下面同時に確実に行われる。

【００１７】また、請求項２に記載の発明は、前記洗浄
槽が縦方向に積み重ねられて配設され、これら各洗浄槽
にて前記ウェハに対する上下面同時の洗浄が行われるよ
うに構成したことを特徴とするものである。

【００１８】この発明では、縦方向に積み重ねられて配
設されたウェハの上下面を同時に洗浄する複数の洗浄槽
により、枚葉式でありながらも一度に複数のウェハの洗
浄を行うことができる。

【００１９】また、複数の洗浄槽が縦方向に積み重ねら
れる構成とされるので、設置面積は１槽の洗浄槽分のス
ペースがあればよく、複数の洗浄槽を備えた構成であり
ながらも設置面積の縮小化が可能となる。

【００２０】さらに、請求項３に記載の発明は、前記洗
浄槽にはドライエアーを供給するドライエアー供給手段
が具備され、前記ウェハの洗浄終了後、前記ドライエア
ー供給手段によるドライエアーの供給により、乾燥処理
が行われるように構成したことを特徴とするものであ
る。

【００２１】この発明では、ウェハに対する洗浄が終了
すると、ドライエアー供給手段によって洗浄槽内部にド
ライエアーが送り込まれることにより、ウェハの乾燥処
理が行われる。

【００２２】またさらに、請求項４に記載の発明は、前
記洗浄槽内部に溜まった洗浄液の排液は、前記洗浄槽の
底部側に設けられた排液排出路を介して排液処理装置に
回収され、フィルタ処理されて再利用されるように構成
したことを特徴とするものである。

【００２３】この発明では、洗浄槽内部に溜まった薬品
等の洗浄液の排液を排液処理装置側に回収し、フィルタ
処理して再利用するようにしたので、薬品等の消費量の
低減が可能となる。

【００２４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態の詳細
を図面に基づいて説明する。図１は、本発明の枚葉式ウ
ェハ洗浄装置（以下、単に洗浄装置という）の一実施の
形態を示すものである。

【００２５】同図に示すように、洗浄装置１０の洗浄槽
２０の右上端部にはウェハ３０を搬入したり、洗浄を完
了したウェハ３０を取り出す際に開放されるシャッター
２１が設けられている。

【００２６】また、このシャッター２１部分には、ドラ
イエアーを供給するためのドライエアー供給装置６０の
供給口６１が近接配置されており、上記ウェハ３０の洗
浄終了後、その供給口６１からドライエアーが洗浄槽２
０内部に送り込まれ、ウェハ３０の乾燥処理が行われる
ようになっている。

【００２７】さらに、このときの洗浄槽２０内部の換気
は、洗浄槽２０の側面に取り付けられている換気ダクト
２３によって行われるようになっている。

【００２８】洗浄槽２０の内部上面側には、ウェハ３０
の略中心部分に向けて洗浄液を噴出する噴出ノズル２２
が配設されている。

【００２９】ここで、洗浄液としては、薬液、有機溶
剤、純水等が使用される。尚、これらの洗浄液は、それ
ぞれの処理工程毎に、適宜用いられるものである。

【００３０】また、薬液としては、次の（１）〜（１
０）が使用される。 （１）ＡＰＭ（ＮＨ₄ ＯＨ／Ｈ₂ Ｏ₂ ／Ｈ₂ Ｏ） （２）Ｍｏｄｉｆｉｅｄ ＡＰＭ（ＮＨ₄ ＯＨ／Ｏ₃ ／
Ｈ₂ Ｏ） （３）ＨＰＭ（ＨＣｌ／Ｈ₂ Ｏ₂ ／Ｈ₂ Ｏ） （４）ＦＰＭ（ＨＦ／Ｈ₂ Ｏ₂ ／Ｈ₂ Ｏ） （５）ＤＨＦ（ＨＦ／Ｈ₂ Ｏ） （６）ＢＨＦ（ｗｉｔｈ／ｗｉｔｈｏｕｔ ｓｕｒｆａ
ｃｔａｎｔ） （７）ＳＰＭ（Ｈ₂ ＳＯ₄ ／Ｈ₂ Ｏ₂ ／Ｈ₂ Ｏ） （８）Ｍｏｄｉｆｉｅｄ ＳＰＭ（Ｈ₂ ＳＯ₄ ／Ｏ₃ ／
Ｈ₂ Ｏ） （９）ＵＰＷ（Ｕｌｔｒａ Ｐｕｒｅ Ｗａｔｅｒ） （１０）ＨＵＰＷ（Ｈｏｔ Ｕｌｔｒａ Ｐｕｒｅ Ｗ
ａｔｅｒ）

【００３１】洗浄槽２０内部には、ウェハ３０を洗浄す
る洗浄液の排液を受ける排液収容槽４０が配設されてい
る。また、この排液収容槽４０は、ウェハ３０上の洗浄
液が排液収容槽４０外に飛び散らない程度の高さ寸法と
されている。さらに、排液収容槽４０の上面側は開放さ
れており、上記の噴出ノズル２２からの洗浄液が排液収
容槽４０に邪魔されることなくウェハ３０の上面側に直
接噴き付けられるようになっている。

【００３２】排液収容槽４０の底部中央には下方側から
洗浄液を供給するための洗浄液供給路４１が設けられて
いる。この洗浄液供給路４１は、洗浄槽２０の底部側か
ら導かれたものであり、その下流側は、図示しない洗浄
液供給装置側へと導かれている。

【００３３】洗浄液供給路４１の両側には、ウェハ３０
に噴き付けた洗浄液の排液を図示しない排液処理装置側
に導くための排液排出路４２が設けられている。尚、こ
れら排液排出路４２によって排出された排液は、排液収
容装置側のフィルタによって不純物等が取り除かれた
後、上記の図示しない洗浄液供給装置側に送られ、再利
用されるようになっている。

【００３４】排液収容槽４０内部には、ウェハ３０を載
置するためのステージ５０が配設されている。ステージ
５０の中央部分には、ウェハ３０の下面側の略中央部分
をめがけて洗浄液を噴出する噴出口５１が設けられてい
る。

【００３５】また、ステージ５０の噴出口５１の周囲に
は、洗浄の際にウェハ３０を浮上させる浮上用噴出口
（図示省略）とウェハ３０に対して回転力を与えるため
の回転用噴出口（図示省略）とが設けられている。尚、
これら浮上用噴出口（図示省略）や回転用噴出口（図示
省略）から噴出される媒体としては、純水やエアー等を
使用することができる。また、これら浮上用噴出口や回
転用噴出口からの噴出圧は適宜設定可能であり、これら
の圧をコントロールすることで、ウェハ３０の浮上量や
回転速度等を夫々の処理工程において調整することがで
きる。

【００３６】さらに、ステージ５０の外周部には、浮上
したウェハ３０のセンタリング等をとるためのセンタリ
ングピン５２が突設されている。

【００３７】続いて、以上のような構成のウェハ洗浄装
置１０によるウェハ３０の洗浄動作について説明する。

【００３８】先ず、ウェハ３０が図示しない搬送ロボッ
トによって洗浄装置本体２０内部に搬入され、さらにス
テージ５０上に載置されると、上述した浮上用噴出口
（図示省略）や回転用噴出口（図示省略）から純水やエ
アー等が噴き出される。

【００３９】尚、これら浮上用噴出口や回転用噴出口か
らの純水やエアー等の噴出タイミングにあっては、ステ
ージ５０上や洗浄槽２０内部にウェハ３０の搬入を検出
する検出センサを設け、この検出センサの検出結果に基
づいた時間を設定することで、時間の設定が容易とな
る。また、搬送ロボットによる搬送動作に連動させたタ
イミングで噴出時間を設定することもできる。

【００４０】そして、浮上用噴出口や回転用噴出口から
の純水やエアー等の噴出によって、ウェハ３０が浮上し
つつ回転を開始すると、これに連動し、洗浄槽２０の内
部上面側の噴出ノズル２２とステージ５０の中央部分の
噴出口５１とから処理工程に応じた薬液や純水等の洗浄
液がウェハ３０の上下面の略中央部分をめがけて噴き出
される。

【００４１】このとき、噴出ノズル２２から吹き出され
る洗浄液の噴付け力によってウェハ３０に対し下方への
押圧力が作用するが、ウェハ３０の下面側からは噴出口
５１からの洗浄液の噴付け力と浮上用噴出口からの純水
やエアー等の噴出し力により平衡状態が維持されるよう
になっている。

【００４２】そして、ウェハ３０の上下面の略中央部分
に噴き付けられた洗浄液はウェハ３０の回転による遠心
力によってウェハ３０の上下面の全体に均一に広がり、
ウェハ３０の外周縁から下方に流下する。

【００４３】このとき、ウェハ３０の下面側に上面側か
らの排液が回り込もうとしても下面側に噴出される洗浄
液によってはじき出されるため、ウェハ３０の上下面に
は絶えず純粋な洗浄液が供給されることになる。これに
より、夫々の処理工程にて生じた金属粉、有機物、付着
粒子物等の洗浄が上下面同時に確実に行われる。

【００４４】また、排液収容槽４０内部に溜まった排液
は、排液排出路４２によって排出され、排液処理装置側
に送られた後、フィルタ処理によって不純物等が取り除
かれて再利用される。

【００４５】ウェハ３０に対する洗浄が終了すると、ド
ライエアー供給装置６０の供給口６１からドライエアー
が洗浄槽２０内部に送り込まれ、ウェハ３０の乾燥処理
が行われる。このときの洗浄槽２０内部の換気は、洗浄
槽２０の側面に取り付けられている換気ダクト２３によ
って行われる。

【００４６】そして、乾燥処理の終えたウェハ３０が搬
送ロボットによりステージ５０上から次の処理工程に移
送されると、新たなウェハ３０がステージ５０上に載置
され、上記と同様の手順で洗浄及び乾燥処理が行われ
る。

【００４７】このように、この実施の形態例では、ウェ
ハ３０の上下面に対して洗浄槽２０内部に設けた第１の
噴出口としての噴出ノズル２２と、ステージ５０側に設
けた第２の噴出口としての噴出口５１とから洗浄液を噴
き付けると、その噴き付けられた洗浄液はウェハ３０の
回転による遠心力によってウェハ３０の上下面の全体に
均一に広がり、ウェハ３０の外周縁から下方に流下す
る。

【００４８】従って、ウェハ３０の下面側に上面側から
の排液が回り込もうとしても下面側に噴き付けらる洗浄
液によってはじき出されるため、ウェハ３０の上下面に
は絶えず純粋な洗浄液が供給されることになり、それぞ
れの処理工程にて生じた金属粉、有機物、付着粒子物等
の洗浄が上下面同時に確実に行われる。

【００４９】また、ウェハ３０に対する洗浄が終了する
と、ドライエアー供給手段としてのドライエアー供給装
置６０によって洗浄槽２０内部にドライエアーが送り込
まれ、ウェハ３０の乾燥処理が行われる。

【００５０】その結果、ウェハ３０の表面吸着元素の制
御（水素ターミネイト）や表面状態の制御（親水、疎水
性、表面粗さ）が適切に行われるとともに、例えば、エ
ッチング等の処理の均一性が図れる。

【００５１】さらに、排液収容槽４０内部に溜まった排
液を、排液排出路４２によって排出し、排液処理装置側
に送った後、フィルタ処理によって不純物等を取り除い
て再利用するようにしたので、薬品等の消費量の低減を
図ることができ、製品のコストダウンを図ることが可能
となる。

【００５２】図２及び図３は、図１の枚葉式ウェハ洗浄
装置の構成を変えた場合の他の実施の形態を示す図であ
る。なお、以下に説明する図において、図１と共通する
部分には同一符号を付し重複する説明を省略する。

【００５３】これらの図に示す洗浄装置１０の洗浄装置
本体２０Ａの右上端部には、操作パネル２４が設けられ
ている。この操作パネル２４は、洗浄装置本体２０Ａの
各種内部機構の動作タイミング等をそれぞれの処理に応
じてコントロールする際に操作されるものである。

【００５４】操作パネル２４の下方には、洗浄を行うた
めのウェハ３０を載置する載置部２５が設けられてい
る。

【００５５】載置部２５の近傍には、シャッター２１Ａ
が設けられており、ウェハ３０が洗浄装置本体２０Ａ内
部に搬入される際に開放されるようになっている。

【００５６】また、洗浄装置本体２０Ａ内部には、図示
しない搬送ロボットが矢印２６で示す上下方向に移動可
能なスペース２７が設けられており、載置部２５に載置
されているウェハ３０を受け取ると、スペース２７内を
上下動し後述する洗浄槽２０ａ〜２０ｃ側にウェハ３０
を搬入するようになっている。

【００５７】洗浄装置本体２０ａ内部には、洗浄槽２０
ａ〜２０ｃが縦方向に３槽積み重ねられて配設されてい
る。なお、これら洗浄槽２０ａ〜２０ｃにあっては、３
槽に限らず、２槽あるいは４槽以上であってもよい。

【００５８】また、図示しない洗浄液供給装置からの洗
浄液は、洗浄液供給路４３から分岐した分岐路４３ａ〜
４３ｃを介し洗浄槽２０ａ〜２０ｃの内部上面側の噴出
ノズル２２から下方に向けて噴出されるようになってい
る。

【００５９】また、洗浄液供給路４３から分岐された分
岐路４４ａ〜４４ｃは、上述した洗浄液供給路４１に導
かれ、ステージ５０の噴出口５１から上方に向けて噴出
されるようになっている。

【００６０】さらに、各洗浄槽２０ａ〜２０ｃの換気
は、それぞれの分岐管２３ａ〜２３ｃに連結された換気
ダクト２３によって行われるようになっている。

【００６１】さらにまた、洗浄装置本体２０Ａ内部の洗
浄槽２０ｃ近傍には、ドライエアー供給装置６０が配設
されており、ウェハ３０の洗浄終了後、その供給口６１
からのドライエアーが洗浄槽２０ｃのシャッター２１部
分から内部に送り込まれ、ウェハ３０の乾燥処理が行わ
れるようになっている。また、その洗浄槽２０ｃ内部に
送り込まれたドライエアーは、上方の洗浄槽２０ａ及び
２０ｂにも循環され、それぞれの槽内のウェハ３０の乾
燥処理も同時に行われるようになっている。

【００６２】さらに、各洗浄槽２０ａ〜２０ｃの底部側
には、排液を排出するための排液排出路４２が設けられ
ており、これらの排液排出路４２は共通の排出路４２Ａ
を伝って図示しない排液処理装置側に送られ、上記同様
にフィルタ処理された後、図示しない洗浄液供給装置側
に送られ、再利用される。

【００６３】続いて、このような構成の洗浄装置１０の
動作について説明する。先ず、ウェハ３０が各洗浄槽２
０ａ〜２０ｃ内部に順次搬入され、それぞれのステージ
５０上に載置される。

【００６４】そして、それぞれのステージ５０上にウェ
ハ３０が載置されると、上述した浮上用噴出口や回転用
噴出口から純水やエアー等が吹き出され、ウェハ３０が
浮上しつつ回転を開始する。

【００６５】これと略同時に、上述した薬液や純水等の
処理工程に応じた洗浄液がそれぞれの洗浄槽２０ａ〜２
０ｃの噴出ノズル２２とステージ５０の中央部分の噴出
口５１とから、各ウェハ３０の上下面の略中央部分をめ
がけて噴き出され、各ウェハ３０の洗浄が行われる。

【００６６】各ウェハ３０の上下面に噴き付けられた洗
浄液は、上記同様に、ウェハ３０の回転による遠心力に
よってウェハ３０の上下面の全体に均一に広がり、各ウ
ェハ３０の外周縁から下方に流下する。

【００６７】このとき、ウェハ３０の下面側に上面側か
らの排液が回り込もうとしても、上記同様に、下面側に
噴出される洗浄液によってはじき出されるため、各ウェ
ハ３０の上下面には絶えず純粋な洗浄液が供給されるこ
とになり、それぞれの処理工程にて生じた金属粉、有機
物、付着粒子物等の洗浄が上下面同時に且つ確実に行わ
れる。

【００６８】また、それぞれの洗浄槽２０ａ〜２０ｃ内
部に溜まった排液は、排液排出路４２から共通の排出路
４２Ａを伝って図示しない排液処理装置側に送られ、上
記同様に、フィルタ処理された後、図示しない洗浄液供
給装置側に送られ、再利用される。

【００６９】ウェハ３０に対する洗浄が終了すると、洗
浄槽２０ａの右上端部のシャッター２１が開放され、ド
ライエアー供給装置６０からのドライエアーが洗浄槽２
０ａ内部に送り込まれる。この送り込まれたドライエア
ーは、上部の各洗浄槽２０ｂ，２０ｃ内部にも循環さ
れ、それぞれの洗浄槽２０ａ〜２０ｃ内部のウェハ３０
の乾燥処理が行われる。

【００７０】そして、乾燥処理の終えたウェハ３０が搬
送ロボットによりステージ５０上から次の処理工程に順
次移送されると、新たなウェハ３０が上記同様に順次各
ステージ５０上に載置され、上記同様の洗浄及び乾燥処
理が行われる。

【００７１】このように、この実施の形態では、洗浄槽
２０ａ〜２０ｃを縦方向に積み重ねられて配設し、それ
ぞれの洗浄槽２０ａ〜２０ｃにてウェハ３０の上下面を
同時に洗浄するようにしたので、枚葉式でありながらも
一度に複数のウェハ３０の洗浄を行うことができ、枚葉
式でありながらも洗浄処理能力の向上が図れる。

【００７２】また、複数の洗浄槽２０ａ〜２０ｃが縦方
向に積み重ねられる構成とされるので、設置面積は１槽
の洗浄槽分のスペースがあればよく、複数の洗浄槽２０
ａ〜２０ｃを備えた構成でありながらも設置面積の縮小
化が可能となる。

【００７３】さらに、上記同様に、洗浄槽２０ａ〜２０
ｃ内部に溜まった薬品等の洗浄液の排液を排液処理装置
側に回収し、フィルタ処理して再利用するようにしたの
で、薬品等の消費量の低減が可能となる。

【００７４】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の枚葉式ウ
ェハ洗浄装置によれば、ウェハの上下面に対して洗浄槽
内部に設けられた第１の噴出口と、ステージ側に設けら
れた第２の噴出口とから洗浄液を噴き付けるようにした
ので、ウェハの上下面には絶えず純粋な洗浄液が供給さ
れることになり、それぞれの処理工程にて生じた金属
粉、有機物、付着粒子物等の洗浄が上下面同時に確実に
行われることから、洗浄時間の大幅な短縮化を図ること
ができる。

【００７５】また、複数の洗浄槽を縦方向に積み重ねて
配設し、一度に複数のウェハの洗浄を行わせるようにし
たので、枚葉式でありながらも洗浄処理能力を向上させ
ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の枚葉式ウェハ洗浄装置の一実施の形
態を示す図である。

【図２】図１の枚葉式ウェハ洗浄装置の構成を変えた場
合の他の実施の形態を示す図である。

【図３】図２の各装置本体の詳細を示す図である。

【符号の説明】

１０ 洗浄装置 ２０, ２０ａ，２０ｂ，２０ｃ 洗浄槽 ２０Ａ 洗浄装置本体 ２１ シャッター ２２ 噴出ノズル ２３ 換気ダクト ３０ ウェハ ４０ 排液収容槽 ４１ 洗浄液供給路 ４２ 排液排出路 ４４ａ〜４４ｃ 分岐路 ５０ ステージ ５１ 噴出口 ５２ センタリングピン ６０ ドライエアー供給装置 ６１ 供給口

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ウェハを浮上させつつ所定方向に回転さ
   せた状態で前記ウェハの洗浄を行う枚葉式ウェハ洗浄装
   置であって、前記ウェハの上面側から洗浄液を噴出する
   第１の噴出口を有した洗浄槽と、この洗浄槽の内部に配
   設され、前記ウェハの下面側から洗浄液を噴出する第２
   の噴出口を有したステージと、を具備し、前記第１及び
   第２の噴出口から噴出された洗浄液が前記ウェハの回転
   による遠心力によって前記ウェハの上下面の全体に均一
   に広がることで洗浄が行われることを特徴とする枚葉式
   ウェハ洗浄装置。
2. 【請求項２】 前記洗浄槽が縦方向に積み重ねられて配
   設され、これら各洗浄槽にて前記ウェハに対する上下面
   同時の洗浄が行われることを特徴とする請求項１に記載
   の枚葉式ウェハ洗浄装置。
3. 【請求項３】 前記洗浄槽には、ドライエアーを供給す
   るドライエアー供給手段が具備され、前記ウェハの洗浄
   終了後、前記ドライエアー供給手段によるドライエアー
   の供給により、乾燥処理が行われることを特徴とする請
   求項１又は請求項２のいずれかに記載の枚葉式ウェハ洗
   浄装置。
4. 【請求項４】 前記洗浄槽内部に溜まった洗浄液の排液
   は、前記洗浄槽の底部側に設けられた排液排出路を介し
   て排液処理装置に回収され、フィルタ処理されて再利用
   されることを特徴とする請求項１又は請求項２のいずれ
   かに記載の枚葉式ウェハ洗浄装置。