KR100897547B1 - 기판 처리 장치 및 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (10)
- 기판이 안착되는 지지부재; 및상기 지지부재의 상부에 구비되고, 상기 기판을 처리하는 처리액을 상기 기판에 미세 입자 형태로 분사하여 상기 기판을 건조하는 처리액 공급부를 포함하고,상기 처리액 공급부는,상기 처리액을 공급받는 제1 공급 노즐;처리 가스를 공급받는 제2 공급 노즐; 및상기 제1 공급 노즐로부터 상기 처리액이 유입되는 약액 유로 및 상기 약액 유로를 둘러싸고 상기 제2 공급 노즐로부터의 상기 처리 가스가 유입되는 가스 유로가 형성되고, 상기 처리 가스의 기류를 조절하여 배출함과 동시에 상기 처리액을 배출하여 상기 처리 가스를 통해 상기 처리액을 미세 입자 형태로 분해하는 분사 노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 분사 노즐은,상기 제1 공급 노즐과 연결되고, 내부에 상기 약액 유로가 형성되며, 상기 처리액을 배출하는 제1 분사구가 형성된 제1 노즐부; 및상기 제1 노즐부를 둘러싸고, 상기 제2 공급 노즐과 연결되며, 상기 제1 노즐부와의 사이에 상기 가스 유로가 형성되고, 상기 제1 분사구를 둘러싼 제2 분사구가 형성되어 상기 처리 가스를 배출하는 제2 노즐부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제2항에 있어서, 상기 제2 노즐부는 상기 제2 분사구가 형성된 하단부가 상기 제1 노즐부 측으로 절곡된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제2항에 있어서, 제1 노즐부는,상기 약액 유로가 형성되어 상기 제1 공급 노즐과 연결되고, 원통 형상을 갖는 바디부; 및상기 바디부의 외벽에 형성되고, 상기 제2 노즐부의 내벽과 결합하며, 상기 제2 분사구와 인접하여 위치하고, 상기 처리 가스의 기류를 변경시키는 다수의 가이드홀이 형성된 가스 가이드부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제4항에 있어서, 상기 가이드 홀들은 서로 이격되어 위치하고, 상기 바디부를 중심으로 나선 구조로 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제4항에 있어서, 상기 가이드 홀들은 서로 이격되어 위치하고, 상기 바디부를 중심으로 방사상으로 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 지지부재에 기판을 안착시키는 단계;상기 기판의 상부에 분사 노즐을 배치하는 단계; 및상기 분사 노즐이 처리액을 미세 입자 형태로 분사하여 상기 기판을 건조하는 단계를 포함하고,상기 기판을 건조하는 단계는,상기 분사 노즐의 약액 유로에 상기 처리액이 유입됨과 동시에, 상기 약액 유로를 둘러싼 상기 분사 노즐의 가스 유로에 처리 가스가 유입되는 단계; 및상기 가스 유로에 유입된 상기 처리 가스의 기류를 조절하여 상기 기판에 배출함과 동시에, 상기 약액 유로의 상기 처리액을 상기 기판에 배출하여 상기 처리액을 미세 입자 형태로 분해하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
- 제7항에 있어서, 상기 처리 가스는 기류 조절을 통해 상기 분사 노즐로부터 배출되는 처리액 측으로 분사되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
- 삭제
- 지지부재에 기판을 안착시키는 단계; 및상기 기판에 이소프로필 알코올을 제공하여 상기 기판을 건조하되, 처리 가스를 이용하여 상기 이소프로필 알코올을 분무 방식으로 상기 기판에 제공하는 단계를 포함하고,상기 기판을 건조하는 단계는,상기 기판의 상부에 분사 노즐을 배치시키는 단계;상기 분사 노즐의 약액 유로에 상기 이소프로필 알코올을 유입시키는 동시에, 상기 약액 유로를 둘러싼 상기 분사 노즐의 가스 유로에 상기 처리 가스를 유입시키는 단계; 및상기 가스 유로에 유입된 상기 처리 가스의 기류를 조절하여 상기 기판에 배출함과 동시에, 상기 약액 유로의 상기 이소프로필 알코올을 상기 기판에 배출하여 상기 이소프로필 알코올을 미세 입자 형태로 분해하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
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