JP2013026381A - 基板処理装置および基板処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板に処理液を吐出する処理が終了して待機位置に帰還した処理液ノズルの吐出ヘッド61を下降させて待機ポット70の収容部75に収容する。洗浄液噴出部76から吐出ヘッド61に向けて洗浄液を噴出し、処理中に吐出ヘッド61に付着した処理液を洗い流す。続いて、洗浄液噴出を停止し、待機ポット70に設けられた乾燥ガス噴出部77から斜め下方に向けて乾燥用ガスを噴出する。そして、収容部75から吐出ヘッド61を徐々に引き上げる。その吐出ヘッド61に乾燥用ガスを吹き付けることによって、吐出ヘッド61に付着していた洗浄液を吹き飛ばして乾燥させる。洗浄後に処理位置に移動した吐出ヘッド61から基板上に洗浄液が落下するのを防止することができる。
【選択図】図10
Description
3 制御部
10 チャンバー
11 側壁
15 仕切板
20 スピンチャック
21 スピンベース
22 スピンモータ
28 下面処理液ノズル
40 処理カップ
41 内カップ
42 中カップ
43 外カップ
60 上面処理液ノズル
61,81 吐出ヘッド
62,82 ノズルアーム
63,83 旋回駆動部
64,84 昇降駆動部
70,90 待機ポット
75,95 収容部
76,96 洗浄液噴出部
77,97 乾燥ガス噴出部
78,98 アーム乾燥部
80 二流体ノズル
85 気体ヘッド
86 支持部材
W 基板
Claims (6)
- 基板を略水平姿勢に保持して回転させる基板保持手段と、
前記基板保持手段の周囲を取り囲むカップと、
前記基板保持手段に保持された基板に処理液を吐出する吐出ヘッドを先端に備えたノズルアームと、
前記基板保持手段に保持された基板の上方の処理位置と前記カップよりも外側の待機位置との間で前記吐出ヘッドが移動するように前記ノズルアームを旋回させる旋回駆動部と、
前記待機位置に配置され、前記吐出ヘッドを収容する待機ポットと、
前記待機ポットに設けられ、前記待機ポットに収容された前記吐出ヘッドに洗浄液を供給して洗浄する洗浄手段と、
前記待機ポットに設けられ、前記洗浄手段によって洗浄された後の前記吐出ヘッドに乾燥用ガスを吹き付けて乾燥させる乾燥手段と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1記載の基板処理装置において、
前記ノズルアームおよび前記吐出ヘッドを昇降させる昇降駆動部をさらに備え、
前記乾燥手段は、前記昇降駆動部によって前記待機ポットから引き上げられている前記吐出ヘッドに乾燥用ガスを吹き付けることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1または請求項2に記載の基板処理装置において、
前記ノズルアームに乾燥用ガスを吹き付けるアーム乾燥手段を前記待機ポットにさらに設けることを特徴とする基板処理装置。 - 吐出ヘッドを先端に備えたノズルアームを旋回させて前記吐出ヘッドを基板保持手段に略水平姿勢に保持されて回転される基板の上方の処理位置に移動させ、前記吐出ヘッドから前記基板に処理液を吐出する処理工程と、
前記ノズルアームを旋回させて前記吐出ヘッドを前記処理位置から前記基板保持手段の周囲を取り囲むカップよりも外側の待機位置に帰還させ、前記待機位置に配置された待機ポットに前記吐出ヘッドを収容する帰還工程と、
前記待機ポットに設けられた洗浄手段から前記待機ポットに収容された前記吐出ヘッドに洗浄液を供給して洗浄する洗浄工程と、
前記待機ポットに設けられた乾燥手段から前記洗浄工程にて洗浄された前記吐出ヘッドに乾燥用ガスを吹き付けて乾燥させる乾燥工程と、
を備えることを特徴とする基板処理方法。 - 請求項4記載の基板処理方法において、
前記乾燥工程では、前記待機ポットから前記吐出ヘッドを引き上げつつ、前記乾燥手段から前記吐出ヘッドに乾燥用ガスを吹き付けることを特徴とする基板処理方法。 - 請求項4または請求項5に記載の基板処理方法において、
前記乾燥工程は、前記待機ポットに設けられたアーム乾燥手段から前記ノズルアームに乾燥用ガスを吹き付けるアーム乾燥工程を含むことを特徴とする基板処理方法。
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