JP6938248B2 - 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 - Google Patents
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Description
次に、第1ノズルアーム46により、薬液ノズル41がウエハWの中心部の真上の位置に移動する。また、基板保持機構30の駆動部33により、ウエハWを保持した保持部31が回転駆動され、これによりウエハWが鉛直軸線周りに回転する。この状態で、薬液供給機構71により薬液ノズル41に供給されたDHFが、薬液ノズル41からウエハWの表面の中心部に供給される。供給されたDHFは、ウエハWの表面を遠心力により周縁部に向かって広がりながら流れ、これによりウエハWの表面にDHFの液膜が形成された状態でウエハWに薬液処理が施される。ウエハWは、後述の乾燥工程が完了するまでの間、継続的に回転させられる。
薬液処理を所定時間行った後、薬液ノズル41からのDHF液の供給を停止し、これとほぼ同時に、リンス液供給機構72によりリンスノズル42に供給されたDIWが、リンスノズル42からウエハWの表面の中心部に供給される。供給されたDIWは、ウエハWの表面を遠心力により周縁部に向かって広がりながら流れ、これによりウエハWの表面にDIWの液膜が形成された状態でウエハWにリンス処理が施される。
次に、乾燥工程について説明する。なお、今後の説明の便宜のため、図4に示すように、第1及び第2乾燥液ノズル43,44から吐出されたIPAのウエハW表面への着液点P1,P2(これはこれらのノズルの吐出口の軸線とウエハW表面との交点と実質的に一致する)の位置、またはこれら着液点P1,P2のウエハWの回転中心Oからの距離R1,R2を、第1及び第2乾燥液ノズル43,44の位置を示す指標として用いることもある。また、ガスノズル45から吐出されるガスの主流が衝突するウエハWの表面上の位置であるガス衝突点Pg(これはガスノズル45の吐出口の軸線とウエハWの表面との交点と実質的に一致する)、またはガス衝突点PgのウエハWの回転中心Oからの距離Rgを、ガスノズル45の位置を示す指標として用いることとする。
4 制御装置
31 基板保持部(保持部)
33 回転機構(駆動部)
42 処理液ノズル(リンスノズル)
43 第1乾燥液ノズル
44 第2乾燥液ノズル
45 ガスノズル
72 処理液供給機構(リンス液供給機構)
73 第1乾燥液供給機構
74 第2乾燥液供給機構
75 ガス供給機構
46〜48,46A〜48A ノズル移動機構(ノズルアーム、昇降回転機構)
P1 第1乾燥液の供給位置(着液点)
P2 第2乾燥液の供給位置(着液点)
O 基板の回転中心
R1 OからP1までの距離
R2 OからP2までの距離
DC 乾燥領域(乾燥コア)
Claims (21)
- 基板を処理液によって処理する処理工程と、
回転する前記基板に前記処理液よりも揮発性が高い第1乾燥液を供給して液膜を形成した後に、前記基板上における前記基板の回転中心から前記第1乾燥液の供給位置までの距離が次第に大きくなるように前記第1乾燥液の前記供給位置を移動させ、これによって乾燥領域を同心円状に拡げてゆきながら前記基板を乾燥させる乾燥工程と、
を備え、
前記乾燥工程は、前記第1乾燥液を前記基板に供給しながら前記処理液よりも揮発性が高い第2乾燥液を前記基板に供給することを含み、このときの前記基板上における前記基板の回転中心から前記第2乾燥液の供給位置までの距離は、前記基板の回転中心から前記第1乾燥液の供給位置までの距離よりも大きく、
前記乾燥工程において、前記第1乾燥液は第1乾燥液ノズル移動機構により移動させられる第1乾燥液ノズルから供給され、前記第2乾燥液は第2乾燥液ノズル移動機構により移動させられる第2乾燥液ノズルから供給され、前記第1乾燥液ノズルの移動速度および前記第2乾燥液ノズルの移動速度が、前記第1乾燥液ノズル移動機構および前記第2乾燥液ノズル移動機構によりそれぞれ個別に調整される、基板処理方法。 - 前記第1乾燥液と前記第2乾燥液は同じ成分を有する液である、請求項1記載の基板処理方法。
- 前記第1乾燥液及び前記第2乾燥液はIPA(イソプロピルアルコール)である、請求項2記載の基板処理方法。
- 前記第1乾燥液と前記第2乾燥液は異なる成分を有する液である、請求項1記載の基板処理方法。
- 前記第1乾燥液を前記基板に供給しながら前記第2乾燥液を前記基板に供給するときにおける前記第1乾燥液の温度は、前記第2乾燥液の温度よりも高い、請求項1から4のうちのいずれか一項に記載の基板処理方法。
- 前記第1乾燥液を前記基板に供給しながら前記第2乾燥液を前記基板に供給するときにおける前記第2乾燥液の流量は、前記第1乾燥液の流量よりも大きい、請求項1から4のうちのいずれか一項に記載の基板処理方法。
- 前記基板上における前記基板の回転中心から前記第1乾燥液の供給位置までの距離が大きくなるに伴い前記第1乾燥液の流量を大きくする、請求項1から4のうちのいずれか一項に記載の基板処理方法。
- 前記第1乾燥液を前記基板に供給しながら前記第2乾燥液を前記基板に供給するときにおいて、前記第1乾燥液の温度は前記第2乾燥液の温度よりも高く、前記第2乾燥液の流量は前記第1乾燥液の流量よりも大きい、請求項1から4のうちのいずれか一項に記載の基板処理方法。
- 前記乾燥工程は、前記乾燥領域に向けて乾燥ガスを基板に供給することをさらに含む、請求項1から8のうちのいずれか一項に記載の基板処理方法。
- 前記乾燥ガスが前記乾燥領域とその外側の非乾燥領域との間の界面の近傍に向けて供給されるよう、前記乾燥ガスの供給位置を移動させてゆく、請求項9記載の基板処理方法。
- 基板を処理液によって処理する処理工程と、
回転する前記基板に前記処理液よりも揮発性が高い第1乾燥液を供給して液膜を形成した後に、前記基板上における前記基板の回転中心から前記第1乾燥液の供給位置までの距離が次第に大きくなるように前記第1乾燥液の前記供給位置を移動させ、これによって乾燥領域を同心円状に拡げてゆきながら前記基板を乾燥させる乾燥工程と、
を備え、
前記乾燥工程は、前記第1乾燥液を前記基板に供給しながら前記処理液よりも揮発性が高い第2乾燥液を前記基板に供給することを含み、このときの前記基板上における前記基板の回転中心から前記第2乾燥液の供給位置までの距離は、前記基板の回転中心から前記第1乾燥液の供給位置までの距離よりも大きく、
前記第1乾燥液と前記第2乾燥液は異なる成分を有する液である、基板処理方法。 - 基板を処理液によって処理する処理工程と、
回転する前記基板に前記処理液よりも揮発性が高い第1乾燥液を供給して液膜を形成した後に、前記基板上における前記基板の回転中心から前記第1乾燥液の供給位置までの距離が次第に大きくなるように前記第1乾燥液の前記供給位置を移動させ、これによって乾燥領域を同心円状に拡げてゆきながら前記基板を乾燥させる乾燥工程と、
を備え、
前記乾燥工程は、前記第1乾燥液を前記基板に供給しながら前記処理液よりも揮発性が高い第2乾燥液を前記基板に供給することを含み、このときの前記基板上における前記基板の回転中心から前記第2乾燥液の供給位置までの距離は、前記基板の回転中心から前記第1乾燥液の供給位置までの距離よりも大きく、
前記第1乾燥液を前記基板に供給しながら前記第2乾燥液を前記基板に供給するときにおける前記第1乾燥液の温度は、前記第2乾燥液の温度よりも高い、基板処理方法。 - 基板を処理液によって処理する処理工程と、
回転する前記基板に前記処理液よりも揮発性が高い第1乾燥液を供給して液膜を形成した後に、前記基板上における前記基板の回転中心から前記第1乾燥液の供給位置までの距離が次第に大きくなるように前記第1乾燥液の前記供給位置を移動させ、これによって乾燥領域を同心円状に拡げてゆきながら前記基板を乾燥させる乾燥工程と、
を備え、
前記乾燥工程は、前記第1乾燥液を前記基板に供給しながら前記処理液よりも揮発性が高い第2乾燥液を前記基板に供給することを含み、このときの前記基板上における前記基板の回転中心から前記第2乾燥液の供給位置までの距離は、前記基板の回転中心から前記第1乾燥液の供給位置までの距離よりも大きく、
前記第1乾燥液を前記基板に供給しながら前記第2乾燥液を前記基板に供給するときにおける前記第2乾燥液の流量は、前記第1乾燥液の流量よりも大きい、基板処理方法。 - 基板を処理液によって処理する処理工程と、
回転する前記基板に前記処理液よりも揮発性が高い第1乾燥液を供給して液膜を形成した後に、前記基板上における前記基板の回転中心から前記第1乾燥液の供給位置までの距離が次第に大きくなるように前記第1乾燥液の前記供給位置を移動させ、これによって乾燥領域を同心円状に拡げてゆきながら前記基板を乾燥させる乾燥工程と、
を備え、
前記乾燥工程は、前記第1乾燥液を前記基板に供給しながら前記処理液よりも揮発性が高い第2乾燥液を前記基板に供給することを含み、このときの前記基板上における前記基板の回転中心から前記第2乾燥液の供給位置までの距離は、前記基板の回転中心から前記第1乾燥液の供給位置までの距離よりも大きく、
前記基板上における前記基板の回転中心から前記第1乾燥液の供給位置までの距離が大きくなるに伴い前記第1乾燥液の流量を大きくする、基板処理方法。 - 基板を処理液によって処理する処理工程と、
回転する前記基板に前記処理液よりも揮発性が高い第1乾燥液を供給して液膜を形成した後に、前記基板上における前記基板の回転中心から前記第1乾燥液の供給位置までの距離が次第に大きくなるように前記第1乾燥液の前記供給位置を移動させ、これによって乾燥領域を同心円状に拡げてゆきながら前記基板を乾燥させる乾燥工程と、
を備え、
前記乾燥工程は、前記第1乾燥液を前記基板に供給しながら前記処理液よりも揮発性が高い第2乾燥液を前記基板に供給することを含み、このときの前記基板上における前記基板の回転中心から前記第2乾燥液の供給位置までの距離は、前記基板の回転中心から前記第1乾燥液の供給位置までの距離よりも大きく、
前記第1乾燥液を前記基板に供給しながら前記第2乾燥液を前記基板に供給するときにおいて、前記第1乾燥液の温度は前記第2乾燥液の温度よりも高く、前記第2乾燥液の流量は前記第1乾燥液の流量よりも大きい、基板処理方法。 - 基板を処理液によって処理する処理工程と、
回転する前記基板に前記処理液よりも揮発性が高い第1乾燥液を供給して液膜を形成した後に、前記基板上における前記基板の回転中心から前記第1乾燥液の供給位置までの距離が次第に大きくなるように前記第1乾燥液の前記供給位置を移動させ、これによって乾燥領域を同心円状に拡げてゆきながら前記基板を乾燥させる乾燥工程と、
を備え、
前記乾燥工程は、前記第1乾燥液を前記基板に供給しながら前記処理液よりも揮発性が高い第2乾燥液を前記基板に供給することを含み、このときの前記基板上における前記基板の回転中心から前記第2乾燥液の供給位置までの距離は、前記基板の回転中心から前記第1乾燥液の供給位置までの距離よりも大きく、
前記乾燥工程は、前記乾燥領域に向けて乾燥ガスを基板に供給することをさらに含み、前記乾燥ガスが前記乾燥領域とその外側の非乾燥領域との間の界面の近傍に向けて供給されるよう、前記乾燥ガスの供給位置を移動させてゆく、基板処理方法。 - 基板を水平に保持するための基板保持部と、
前記基板保持部を鉛直軸周りに回転させるための回転機構と、
前記基板保持部に保持された基板の表面に処理液を供給する処理液ノズルと、
前記基板を乾燥させるための第1乾燥液を供給する第1乾燥液ノズルと、
前記基板を乾燥させるための第2乾燥液を供給する第2乾燥液ノズルと、
前記処理液ノズルに前記処理液を供給する処理液供給機構と、
前記第1乾燥液ノズルに前記第1乾燥液を供給する第1乾燥液供給機構と、
前記第2乾燥液ノズルに前記第2乾燥液を供給する第2乾燥液供給機構と、
前記処理液ノズルを水平方向に移動させる処理液ノズル移動機構と、
前記第1乾燥液ノズルを水平方向に移動させる第1乾燥液ノズル移動機構と、
前記第2乾燥液ノズルを水平方向に移動させる第2乾燥液ノズル移動機構と、
前記処理液供給機構、前記第1乾燥液供給機構、前記第2乾燥液供給機構、前記処理液ノズル移動機構、前記第1乾燥液ノズル移動機構および前記第2乾燥液ノズル移動機構を個別に制御して、請求項1から8のうちのいずれか一項に記載の基板処理方法を実行させる制御部と、
を備えた基板処理装置。 - 前記基板を乾燥させるための乾燥ガスを供給するガスノズルと、前記ガスノズルに前記乾燥ガスを供給する乾燥ガス供給機構と、前記ガスノズルを水平方向に移動させるガスノズル移動機構と、をさらに備え、
前記制御部は、前記乾燥ガス供給機構および前記ガスノズル移動機構も制御して、請求項9または10に記載の基板処理方法を実行させる、請求項17記載の基板処理装置。 - 基板を水平に保持するための基板保持部と、
前記基板保持部を鉛直軸周りに回転させるための回転機構と、
前記基板保持部に保持された基板の表面に処理液を供給する処理液ノズルと、
前記基板を乾燥させるための第1乾燥液を供給する第1乾燥液ノズルと、
前記基板を乾燥させるための第2乾燥液を供給する第2乾燥液ノズルと、
前記処理液ノズルに前記処理液を供給する処理液供給機構と、
前記第1乾燥液ノズルに前記第1乾燥液を供給する第1乾燥液供給機構と、
前記第2乾燥液ノズルに前記第2乾燥液を供給する第2乾燥液供給機構と、
前記処理液ノズル、前記第1乾燥液ノズル及び前記第2乾燥液ノズルを水平方向に移動させるノズル移動機構と、
前記処理液供給機構、前記第1乾燥液供給機構、前記第2乾燥液供給機構及び前記ノズル移動機構を制御して、請求項11から15のうちのいずれか一項に記載の基板処理方法を実行させる制御部と、
を備えた基板処理装置。 - 基板を水平に保持するための基板保持部と、
前記基板保持部を鉛直軸周りに回転させるための回転機構と、
前記基板保持部に保持された基板の表面に処理液を供給する処理液ノズルと、
前記基板を乾燥させるための第1乾燥液を供給する第1乾燥液ノズルと、
前記基板を乾燥させるための第2乾燥液を供給する第2乾燥液ノズルと、
前記基板を乾燥させるための乾燥ガスを供給するガスノズルと、
前記処理液ノズルに前記処理液を供給する処理液供給機構と、
前記第1乾燥液ノズルに前記第1乾燥液を供給する第1乾燥液供給機構と、
前記第2乾燥液ノズルに前記第2乾燥液を供給する第2乾燥液供給機構と、
前記ガスノズルに前記乾燥ガスを供給する乾燥ガス供給機構と、
前記処理液ノズル、前記第1乾燥液ノズル、前記第2乾燥液ノズル及び前記ガスノズルを水平方向に移動させるノズル移動機構と、
前記処理液供給機構、前記第1乾燥液供給機構、前記第2乾燥液供給機構、前記乾燥ガス供給機構及び前記ノズル移動機構を制御して、請求項16に記載の基板処理方法を実行させる制御部と、
を備えた基板処理装置。 - 基板処理装置の動作を制御するためのコンピュータにより実行されたときに、前記コンピュータが前記基板処理装置を制御して請求項1から20のうちのいずれか一項に記載の基板処理方法を実行させるプログラムが記録された記憶媒体。
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