JP6400766B2 - 液処理方法、液処理装置および記憶媒体 - Google Patents
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そして、受渡部14に載置された処理済のウェハWは、基板搬送装置13によってキャリア載置部11のキャリアCへ戻される。
まず、ウェハWの中心部の真上に薬液ノズル401が位置し、薬液ノズル401からウェハWの表面の中心部にDHFが所定時間にわたって供給される(図4(a)を参照)。
供給されたDHFは遠心力により広がりウェハWの外方に向けて流れる。このとき、ウェハWの表面の全域はDHFの液膜により覆われる。ウェハWの表面に存在する不要な自然酸化膜またはシリコン酸化膜が、DHFにより除去される。
次に、DHFの供給を停止するとともに、ウェハWの中心部の真上にリンスノズル402が位置し、リンスノズル402からウェハWの表面の中心部にDIWが所定時間にわたって供給される(図4(b)を参照)。供給されたDIWは遠心力により広がりウェハWの外方に向けて流れる。このとき、ウェハWの表面の全域はDIWの液膜により覆われる。これによりウェハWの表面上に残存する薬液(DHF)および薬液処理時の反応生成物が、DIWにより洗い流されてウェハW表面から除去される。遅くともこのリンス処理の終了時点において、ウェハWの表面は疎水性になっている。
リンス処理が終了したら、乾燥処理を実行する。この乾燥処理は、乾燥用液体としてのIPAをウェハWに供給してウェハW表面上に残存するDIWをIPAで置換する段階(乾燥用液体供給工程)と、IPAを振り切るかあるいは蒸発させてウェハW上からIPAを除去することによってウェハWを乾燥させる段階(乾燥工程)との2つの段階に大別される。
リンス処理の終期から引き続き説明を行う。リンスノズル402からウェハWに所定時間DIWを供給した後、DIWの供給を停止する。そして、ウェハWの中心部の真上に第1乾燥用液体ノズル403が位置し、第1乾燥用液体ノズル403からウェハWの表面の中心部にIPAが、ウェハWの表面全域にIPAの液膜を形成するのに十分な大流量(第1の流量)で、第1の所定時間にわたって供給される(図4(c)を参照)。供給されたIPAは遠心力により広がりウェハWの外方に向けて流れる。このとき、ウェハWの表面の全域はIPAの液膜により覆われる。これによりウェハWの表面上に残存するDIWが、IPAに置換されてゆく。
また、ノズル(第2乾燥用液体ノズル404)がウェハW半径方向外側に移動しながらIPAを吐出する際に、IPAの吐出流量が小さければ、吐出したIPAがウェハWの表面で跳ね返ることによって生じた液滴がウェハW表面の既に乾燥した部分に再付着することを防止または抑制することができる。なお、ウェハW表面の既に乾燥した部分にIPAが再付着するとパーティクル発生の原因となり得る。
この場合、大径の第1乾燥用液体ノズル403に対応する流量制御弁432の開度を調節することにより、第1乾燥用液体ノズル403から吐出されるIPAの流量を変化させることができる。なお、第2実施形態は、第2乾燥用液体ノズル404およびこれに対応する構成要素440,441,442が廃止されている点を除き第1実施形態と同じであることは図6より明らかであり、第2実施形態において第1実施形態と同じ構成要素の重複説明は省略する。
30 基板保持機構
40a、40b ノズル移動機構(ノズルアーム、ガイドレール)
402,420,421,422 リンス液供給部
403,430,431,432,404,440,441,442 乾燥用液体供給部
402 リンスノズル
403 乾燥用液体ノズル
Claims (5)
- 基板を回転させながらリンス液をリンスノズルから基板に供給して、前記基板にリンス処理を施すリンス工程と、
前記リンス工程の後に、前記基板を回転させながら、前記リンス液よりも表面張力が低くかつ揮発性が高い乾燥用液体を乾燥用液体ノズルから前記基板に供給して、前記基板の上にある前記リンス液を前記乾燥用液体で置換する乾燥用液体供給工程と、
前記基板を回転させながら、前記乾燥用液体供給工程において供給された乾燥用液体を除去する乾燥工程と、を備え、
前記リンス工程の終期と前記乾燥用液体供給工程の始期とが時間的にオーバーラップしており、このオーバーラップ期間において、前記リンスノズルおよび前記乾燥用液体ノズルは前記リンス液および前記乾燥用液体を同時に供給し、このとき、前記リンスノズルは回転している前記基板の中心部に前記リンス液を供給し、前記乾燥用液体ノズルは、前記基板の半径方向に関して、回転している前記基板の中心部のやや外側の位置に前記乾燥用液体を供給し、
前記オーバーラップ期間において、前記リンスノズルは前記基板の中心部の真上に位置し、前記乾燥用液体ノズルは、前記基板の半径方向に関して、前記リンスノズルのやや外側に位置し、
前記オーバーラップ期間中に、前記乾燥用液体ノズルを前記基板の中心部の真上の位置に向けて移動させ、前記乾燥用液体ノズルが前記基板の中心部の真上に位置したときに、前記リンスノズルからの前記リンス液の供給を停止する、
液処理方法。 - 前記オーバーラップ期間中に前記乾燥用液体ノズルを前記基板の中心部の真上の位置に向けて移動させることは、前記リンスノズルを前記基板の中心部の真上の位置から移動させながら行われる、請求項1記載の液処理方法。
- 共通のノズルアームによって保持された前記リンスノズル及び前記乾燥用液体ノズルを用いて行われる、請求項1または2記載の液処理方法。
- 液処理装置の動作を制御するためのコンピュータにより実行されたときに、前記コンピュータが前記液処理装置を制御して請求項1から3のうちのいずれか一項に記載の液処理方法を実行させるプログラムが記録された記憶媒体。
- 基板を水平に保持して回転させる基板保持機構と、
前記基板保持機構により保持された基板にリンス液を供給するリンスノズルを含むリンス液供給部と、
前記基板保持機構により保持された基板に前記リンス液よりも表面張力が低くかつ揮発性が高い乾燥用液体を供給する乾燥用液体ノズルを含む乾燥用液体供給部と、
前記リンスノズル及び乾燥用液体ノズルを移動させるノズル移動機構と、
前記リンス液供給部、乾燥用液体供給部及び前記ノズル移動機構を制御して、請求項1から3のうちのいずれか一項に記載の液処理方法を実行させる制御部と、を備えた液処理装置。
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