JP3145080B2 - 薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ用ガラスの自動エッチング装置 - Google Patents
薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ用ガラスの自動エッチング装置Info
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- JP3145080B2 JP3145080B2 JP32746398A JP32746398A JP3145080B2 JP 3145080 B2 JP3145080 B2 JP 3145080B2 JP 32746398 A JP32746398 A JP 32746398A JP 32746398 A JP32746398 A JP 32746398A JP 3145080 B2 JP3145080 B2 JP 3145080B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、ＴＦＴ（Ｔｈｉ
ｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）ＬＣＤ（Ｌｉｑ
ｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）、すなわ
ち、薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ（以下、「ＴＦ
Ｔ−ＬＣＤ」という）に用いるガラスを自動エッチング
するための装置に関する。
ｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）ＬＣＤ（Ｌｉｑ
ｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）、すなわ
ち、薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ（以下、「ＴＦ
Ｔ−ＬＣＤ」という）に用いるガラスを自動エッチング
するための装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般にＦＰＤ（Ｆｌａｔ Ｐａｎｎｅｌ
Ｄｉｓｐｌａｙ）に使用されるＴＦＴ−ＬＣＤは、下
板（下ガラス）に該当するＴＦＴと上板（上ガラス）に
該当するＣＦ（Ｃｏｌｏｒ Ｆｉｌｔｅｒ）の間に液晶
が挿入されたセル（Ｃｅｌｌ）形態に製造されている。
ＴＦＴ−ＬＣＤを製造するにあたって、ＴＦＴにＣＦを
合体させたセルガラスの表面をエッチングによって薄く
し、ＴＦＴ−ＬＣＤの軽量化を図ることが行われてい
た。
Ｄｉｓｐｌａｙ）に使用されるＴＦＴ−ＬＣＤは、下
板（下ガラス）に該当するＴＦＴと上板（上ガラス）に
該当するＣＦ（Ｃｏｌｏｒ Ｆｉｌｔｅｒ）の間に液晶
が挿入されたセル（Ｃｅｌｌ）形態に製造されている。
ＴＦＴ−ＬＣＤを製造するにあたって、ＴＦＴにＣＦを
合体させたセルガラスの表面をエッチングによって薄く
し、ＴＦＴ−ＬＣＤの軽量化を図ることが行われてい
た。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これま
で行われていたエッチング装置（以下、「従来のエッチ
ング装置」という）は、次の問題を抱えていた。すなわ
ち、第１の問題は、従来のエッチング装置では、セルガ
ラス表面を均一にエッチングできない場合があり、第２
の問題は、従来のエッチング装置等では、セルガラス内
部に組み込まれた回路を破損する場合がある、というこ
とである。さらに、第３の問題として、従来のエッチン
グ装置等は、エッチング溶液としてＨＦ（弗化水素）溶
液を用いるが、このＨＦ溶液は一般的に揮発性が高く毒
性が強いので、その取り扱いに相当の注意が必要となる
点である。本発明が解決しようとする技術的課題は、上
述した問題を解決することにある。すなわち、セルガラ
ス表面を均一にエッチングできるとともに、セルガラス
内部に組み込まれた回路を破損させずに製造でき、さら
に、ＨＦ溶液を外部に発散させないようにできるＴＦＴ
−ＬＣＤ用ガラスの自動エッチング装置（以下、単に
「本エッチング装置」という）を提供することにある。
で行われていたエッチング装置（以下、「従来のエッチ
ング装置」という）は、次の問題を抱えていた。すなわ
ち、第１の問題は、従来のエッチング装置では、セルガ
ラス表面を均一にエッチングできない場合があり、第２
の問題は、従来のエッチング装置等では、セルガラス内
部に組み込まれた回路を破損する場合がある、というこ
とである。さらに、第３の問題として、従来のエッチン
グ装置等は、エッチング溶液としてＨＦ（弗化水素）溶
液を用いるが、このＨＦ溶液は一般的に揮発性が高く毒
性が強いので、その取り扱いに相当の注意が必要となる
点である。本発明が解決しようとする技術的課題は、上
述した問題を解決することにある。すなわち、セルガラ
ス表面を均一にエッチングできるとともに、セルガラス
内部に組み込まれた回路を破損させずに製造でき、さら
に、ＨＦ溶液を外部に発散させないようにできるＴＦＴ
−ＬＣＤ用ガラスの自動エッチング装置（以下、単に
「本エッチング装置」という）を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載した発明
の構成 請求項１に記載した発明に係る薄膜トランジスタ液晶デ
ィスプレイ用ガラスの自動エッチング装置（以下、「請
求項１のエッチング装置」という）は、エッチング溶液
（たとえば、弗化水素溶液）を貯溜するエッチング溶液
槽と、当該エッチング溶液を攪拌するために当該エッチ
ング溶液槽の底部に設けられた気泡発生装置と、エッチ
ング後に洗浄するための洗浄装置と、洗浄後に乾燥する
ための乾燥装置と、を備える薄膜トランジスタ液晶ディ
スプレイ用ガラスの自動エッチング装置において、前記
エッチング溶液槽は、その上端開口部を覆う蓋部を備
え、かつ、当該上端開口部の周縁に溝部を備え、前記蓋
部は、上面板と、当該上面板の周縁部から下方に延びる
周縁壁と、を備え、前記溝部は、密閉用液体を貯溜する
ように構成され、前記蓋部は、前記エッチング溶液槽を
覆う際に前記周縁壁の下端部が前記密閉用液体内に浸る
ように構成されていることを特徴とする。
の構成 請求項１に記載した発明に係る薄膜トランジスタ液晶デ
ィスプレイ用ガラスの自動エッチング装置（以下、「請
求項１のエッチング装置」という）は、エッチング溶液
（たとえば、弗化水素溶液）を貯溜するエッチング溶液
槽と、当該エッチング溶液を攪拌するために当該エッチ
ング溶液槽の底部に設けられた気泡発生装置と、エッチ
ング後に洗浄するための洗浄装置と、洗浄後に乾燥する
ための乾燥装置と、を備える薄膜トランジスタ液晶ディ
スプレイ用ガラスの自動エッチング装置において、前記
エッチング溶液槽は、その上端開口部を覆う蓋部を備
え、かつ、当該上端開口部の周縁に溝部を備え、前記蓋
部は、上面板と、当該上面板の周縁部から下方に延びる
周縁壁と、を備え、前記溝部は、密閉用液体を貯溜する
ように構成され、前記蓋部は、前記エッチング溶液槽を
覆う際に前記周縁壁の下端部が前記密閉用液体内に浸る
ように構成されていることを特徴とする。
【０００５】請求項２に記載した発明の構成 請求項２に記載した発明に係る薄膜トランジスタ液晶デ
ィスプレイ用ガラスの自動エッチング装置（以下、「請
求項２のエッチング装置」という）は、請求項１のエッ
チング装置の構成に限定が加わり、前記気泡発生装置
は、前記気泡を噴出するためのバブル板と、当該バブル
板の上方領域に位置し多数の小孔を有するパンチング板
と、を含み、前記パンチング板は、前記バブル板によっ
て噴出された気泡を均一分散させるように構成されてい
ることを特徴とする。
ィスプレイ用ガラスの自動エッチング装置（以下、「請
求項２のエッチング装置」という）は、請求項１のエッ
チング装置の構成に限定が加わり、前記気泡発生装置
は、前記気泡を噴出するためのバブル板と、当該バブル
板の上方領域に位置し多数の小孔を有するパンチング板
と、を含み、前記パンチング板は、前記バブル板によっ
て噴出された気泡を均一分散させるように構成されてい
ることを特徴とする。
【０００６】請求項３に記載した発明の構成 請求項３に記載した発明に係る薄膜トランジスタ液晶デ
ィスプレイ用ガラスの自動エッチング装置（以下、「請
求項３のエッチング装置」という）は、請求項１又は２
のエッチング装置の構成に限定が加わり、前記気泡は、
窒素ガスを主成分とすることを特徴とする。
ィスプレイ用ガラスの自動エッチング装置（以下、「請
求項３のエッチング装置」という）は、請求項１又は２
のエッチング装置の構成に限定が加わり、前記気泡は、
窒素ガスを主成分とすることを特徴とする。
【０００７】
【発明の実施の形態】次に、各図を参照しながら、本発
明の実施の形態（以下、「本実施形態」という）につい
て説明する。図１は本エッチング装置の概略構成図であ
り、図２はＨＦ溶液槽の概略断面図である。図３はパン
チング板の概略平面図であり、図４はバブル板の概略平
面図である。
明の実施の形態（以下、「本実施形態」という）につい
て説明する。図１は本エッチング装置の概略構成図であ
り、図２はＨＦ溶液槽の概略断面図である。図３はパン
チング板の概略平面図であり、図４はバブル板の概略平
面図である。
【０００８】図１に示すように本エッチング装置１００
は、弗化水素溶液（ＨＦ溶液）を入れておくためのＨＦ
溶液槽１と、エッチングしたセルガラスを洗浄するため
のＱＤＲ（Ｑｕｉｃｋ Ｄｕｍｐ Ｒｉｎｓｅ）槽２
と、洗浄したセルガラスを乾燥するための乾燥室３を備
えている。ＨＦ溶液槽１には、ＨＦ溶液槽１にＨＦ溶液
を供給するためのＨＦ供給タンク４が接続され、このＨ
Ｆ供給タンク４を介してＨＦ再生タンク５に貯蔵してあ
る再生ＨＦ溶液をＨＦ溶液槽１に供給するようになって
いる。ＨＦ供給タンク４には、約５０％濃度のＨＦ原液
を供給するための第１ＨＦ原液供給装置１０及び第２Ｈ
Ｆ原液供給装置１１が接続されている。
は、弗化水素溶液（ＨＦ溶液）を入れておくためのＨＦ
溶液槽１と、エッチングしたセルガラスを洗浄するため
のＱＤＲ（Ｑｕｉｃｋ Ｄｕｍｐ Ｒｉｎｓｅ）槽２
と、洗浄したセルガラスを乾燥するための乾燥室３を備
えている。ＨＦ溶液槽１には、ＨＦ溶液槽１にＨＦ溶液
を供給するためのＨＦ供給タンク４が接続され、このＨ
Ｆ供給タンク４を介してＨＦ再生タンク５に貯蔵してあ
る再生ＨＦ溶液をＨＦ溶液槽１に供給するようになって
いる。ＨＦ供給タンク４には、約５０％濃度のＨＦ原液
を供給するための第１ＨＦ原液供給装置１０及び第２Ｈ
Ｆ原液供給装置１１が接続されている。
【０００９】ＴＦＴ−ＬＣＤ用ガラスは、その用途によ
って色々な大きさがあるが、３５０Ｘ４５０ミリメート
ル、４５０Ｘ５５０ミリメートル、６００Ｘ７２０ミリ
メートル及び６５０Ｘ８３０ミリメートルの大きさが一
般的である。一方、これらのＴＦＴ−ＬＣＤガラスは、
エッチング前で通常１．２〜１．４ミリメートルの厚み
を持ち、エッチングによって薄くされ約０．９５０〜
１．０５０ミリメートルの厚みになる。
って色々な大きさがあるが、３５０Ｘ４５０ミリメート
ル、４５０Ｘ５５０ミリメートル、６００Ｘ７２０ミリ
メートル及び６５０Ｘ８３０ミリメートルの大きさが一
般的である。一方、これらのＴＦＴ−ＬＣＤガラスは、
エッチング前で通常１．２〜１．４ミリメートルの厚み
を持ち、エッチングによって薄くされ約０．９５０〜
１．０５０ミリメートルの厚みになる。
【００１０】ＴＦＴ−ＬＣＤ用ガラスは、通常、２０〜
２５枚を一単位として、１個のカセット内に収納され、
このＴＦＴ―ＬＣＤガラスが収納されたカセットはロボ
ット７０によってローディング部２０からＨＦ溶液槽１
内に移動される。すなわち、ＴＦＴ―ＬＣＤガラスが収
納されたカセットをローディング部２０からはさみあげ
たロボット７０は、そのままの姿勢で方向転換してＨＦ
溶液槽１の方向に向き、その後、アームを動かしてＴＦ
Ｔ−ＬＣＤガラスが垂直になるようにカセットをＨＦ溶
液槽１内に投入する。
２５枚を一単位として、１個のカセット内に収納され、
このＴＦＴ―ＬＣＤガラスが収納されたカセットはロボ
ット７０によってローディング部２０からＨＦ溶液槽１
内に移動される。すなわち、ＴＦＴ―ＬＣＤガラスが収
納されたカセットをローディング部２０からはさみあげ
たロボット７０は、そのままの姿勢で方向転換してＨＦ
溶液槽１の方向に向き、その後、アームを動かしてＴＦ
Ｔ−ＬＣＤガラスが垂直になるようにカセットをＨＦ溶
液槽１内に投入する。
【００１１】カセットが投入されると、ＨＦ溶液槽１に
蓋部３０（図２参照、後述）がされ、その後、エッチン
グが行われる。ＨＦ溶液槽１内におけるＴＦＴ―ＬＣＤ
ガラスのエッチングは、ＨＦ溶液を窒素気体によって発
生する気泡（Ｂｕｂｂｌｅ）で流動させるとともに、内
部温度上昇させながら行われる。つまり、窒素気体の気
泡によって温度を上昇させながら、この気泡の均一的な
分布と流動によってＴＦＴ−ＬＣＤガラスの表面を均一
にエッチングする。
蓋部３０（図２参照、後述）がされ、その後、エッチン
グが行われる。ＨＦ溶液槽１内におけるＴＦＴ―ＬＣＤ
ガラスのエッチングは、ＨＦ溶液を窒素気体によって発
生する気泡（Ｂｕｂｂｌｅ）で流動させるとともに、内
部温度上昇させながら行われる。つまり、窒素気体の気
泡によって温度を上昇させながら、この気泡の均一的な
分布と流動によってＴＦＴ−ＬＣＤガラスの表面を均一
にエッチングする。
【００１２】ＨＦ溶液槽１は、その上端開口部１ａを覆
う蓋部３０を備え、かつ、上端開口部１ａの周縁１ｂに
溝部２を備えている。蓋部３０は、上面板３０ａと、こ
の上面板３０ａの周縁部３０ｂから下方に延びる周縁壁
３１と、を備えている。溝部２は、密閉用液体を貯溜す
るように構成され、蓋部３０は、エッチング溶液槽１を
覆う際に周縁壁３１の下端部３１ｂが溝部２内に貯溜さ
れた密閉用液体内に浸るように構成されている。本実施
形態における密閉用液体は、超純水を用いている。周縁
壁３１の下端部３１ｂを、上述のように超純水の中に浸
せるように構成したのは、このように構成することによ
ってＨＦ溶液槽１内のＨＦ溶液から気化した弗化水素が
溝部２内の超純水によって外部に飛散しないようにする
ためである。なお、ＨＦ溶液槽１内の圧力が外気圧より
高くなった場合は、バルブＢを介して圧抜きするように
するとよい。圧抜きする際に、排出する弗化水素ガス
は、適当な方法によって飛散しないようにしなければな
らないことは言うまでもない。
う蓋部３０を備え、かつ、上端開口部１ａの周縁１ｂに
溝部２を備えている。蓋部３０は、上面板３０ａと、こ
の上面板３０ａの周縁部３０ｂから下方に延びる周縁壁
３１と、を備えている。溝部２は、密閉用液体を貯溜す
るように構成され、蓋部３０は、エッチング溶液槽１を
覆う際に周縁壁３１の下端部３１ｂが溝部２内に貯溜さ
れた密閉用液体内に浸るように構成されている。本実施
形態における密閉用液体は、超純水を用いている。周縁
壁３１の下端部３１ｂを、上述のように超純水の中に浸
せるように構成したのは、このように構成することによ
ってＨＦ溶液槽１内のＨＦ溶液から気化した弗化水素が
溝部２内の超純水によって外部に飛散しないようにする
ためである。なお、ＨＦ溶液槽１内の圧力が外気圧より
高くなった場合は、バルブＢを介して圧抜きするように
するとよい。圧抜きする際に、排出する弗化水素ガス
は、適当な方法によって飛散しないようにしなければな
らないことは言うまでもない。
【００１３】図２〜４を参照しながら、バブル板５０及
びパンチング板６０について説明する。図２に示すよう
にＨＦ溶液槽１内の下端部には窒素気体を噴出させるた
めの多孔性（多空性）のバブル板５０が設置され、この
バブル板５０の上方領域にパンチング板６０が設置され
ている。パンチング板６０は、バブル板５０によって噴
出された窒素気体を多数の孔に通過させ、これによっ
て、、均一に分散させるために設置されている。パンチ
ング板６０を通過した多量の窒素気体の気泡の働きによ
って、ＨＦ溶液槽１内に収納されているＴＦＴ−ＬＣＤ
ガラス表面のエッチングが均一に行われる。
びパンチング板６０について説明する。図２に示すよう
にＨＦ溶液槽１内の下端部には窒素気体を噴出させるた
めの多孔性（多空性）のバブル板５０が設置され、この
バブル板５０の上方領域にパンチング板６０が設置され
ている。パンチング板６０は、バブル板５０によって噴
出された窒素気体を多数の孔に通過させ、これによっ
て、、均一に分散させるために設置されている。パンチ
ング板６０を通過した多量の窒素気体の気泡の働きによ
って、ＨＦ溶液槽１内に収納されているＴＦＴ−ＬＣＤ
ガラス表面のエッチングが均一に行われる。
【００１４】図１に戻り、第１ＨＦ原液供給装置１０及
び第２ＨＦ原液供給装置１１について説明する。第１Ｈ
Ｆ供給装置１０と第２ＨＦ供給装置１１とは、各々約５
０％のＨＦ原液を貯溜しており、これらのＨＦ原液を交
互にＨＦ供給タンク４に供給するようになっている。こ
のＨＦ原液は、ＨＦ供給タンク４及びＨＦ再生タンク５
内で必要な濃度（たとえば、１５乃至１７％）となるよ
うに希釈される。ＨＦ原液の希釈は、純水供給装置（図
示を省略）から供給される超純水（極めて純度が高い純
水）を溶媒として加えることによって行われ、超純水の
供給量は、ＨＦ濃度コントローラ６によって制御される
ようになっている。
び第２ＨＦ原液供給装置１１について説明する。第１Ｈ
Ｆ供給装置１０と第２ＨＦ供給装置１１とは、各々約５
０％のＨＦ原液を貯溜しており、これらのＨＦ原液を交
互にＨＦ供給タンク４に供給するようになっている。こ
のＨＦ原液は、ＨＦ供給タンク４及びＨＦ再生タンク５
内で必要な濃度（たとえば、１５乃至１７％）となるよ
うに希釈される。ＨＦ原液の希釈は、純水供給装置（図
示を省略）から供給される超純水（極めて純度が高い純
水）を溶媒として加えることによって行われ、超純水の
供給量は、ＨＦ濃度コントローラ６によって制御される
ようになっている。
【００１５】エッチングが完了したＴＦＴ−ＬＣＤガラ
スは、ロボット７０によってＨＦ溶液槽１からＱＤＲ槽
２に移送されここで洗浄される。この移送は、速やかに
行われる必要があり、速やかに行われないとＴＦＴ−Ｌ
ＣＤガラスの表面に縞が発生する場合があるので充分に
注意する。また、ＨＦ溶液槽１内にエッチングによって
発生した大きいスラリーは、ＨＦ溶液槽１に接続された
配管を通じてＨＦ再生タンク５内に排出される。
スは、ロボット７０によってＨＦ溶液槽１からＱＤＲ槽
２に移送されここで洗浄される。この移送は、速やかに
行われる必要があり、速やかに行われないとＴＦＴ−Ｌ
ＣＤガラスの表面に縞が発生する場合があるので充分に
注意する。また、ＨＦ溶液槽１内にエッチングによって
発生した大きいスラリーは、ＨＦ溶液槽１に接続された
配管を通じてＨＦ再生タンク５内に排出される。
【００１６】ＨＦ再生タンク５内に流入したＨＦ再生溶
液は、ＨＦ供給タンク４内に残っているＨＦ溶液と再度
混合され、エッチングのために適切な濃度に再調整され
るようになっている。ＨＦ供給タンク４は、冷却管内を
循環する工程冷却水（Ｐｒｏｃｅｓｓ Ｃｏｏｌｉｎｇ
Ｗａｔｅｒ）によって冷却されるようになっており、
この工程冷却水は、冷却が終わると外部に排出されるよ
うになっている。
液は、ＨＦ供給タンク４内に残っているＨＦ溶液と再度
混合され、エッチングのために適切な濃度に再調整され
るようになっている。ＨＦ供給タンク４は、冷却管内を
循環する工程冷却水（Ｐｒｏｃｅｓｓ Ｃｏｏｌｉｎｇ
Ｗａｔｅｒ）によって冷却されるようになっており、
この工程冷却水は、冷却が終わると外部に排出されるよ
うになっている。
【００１７】ＨＦ溶液は揮発性が強く毒性を持っている
ので、ＨＦ供給タンク４から発生するＨＦ気体を、適当
な方法により採取して飛散しないようにすることが好ま
しい。また、ＨＦ溶液の発熱に伴う気化を抑制するため
に、ＨＦ溶液の温度管理には充分に注意する。
ので、ＨＦ供給タンク４から発生するＨＦ気体を、適当
な方法により採取して飛散しないようにすることが好ま
しい。また、ＨＦ溶液の発熱に伴う気化を抑制するため
に、ＨＦ溶液の温度管理には充分に注意する。
【００１８】次に、ＱＤＲ槽２内における洗浄工程につ
いて説明する。ＱＤＲ槽２内に移送されたＴＦＴ−ＬＣ
Ｄガラスを収納するカセットは、シャワー装置（図示を
省略する）による超純水の噴射によって、表面に付着し
ている不要物とＨＦ溶液等が洗浄される。洗浄に使われ
た超純水は、洗浄した不要物等が再びＴＦＴ−ＬＣＤガ
ラスの表面に付着しないうちに速やかに排出されるよう
にしておくことが好ましい。超純水による洗浄は、１回
だけで終了するようにしてもよいし、複数回行うように
してもよい。
いて説明する。ＱＤＲ槽２内に移送されたＴＦＴ−ＬＣ
Ｄガラスを収納するカセットは、シャワー装置（図示を
省略する）による超純水の噴射によって、表面に付着し
ている不要物とＨＦ溶液等が洗浄される。洗浄に使われ
た超純水は、洗浄した不要物等が再びＴＦＴ−ＬＣＤガ
ラスの表面に付着しないうちに速やかに排出されるよう
にしておくことが好ましい。超純水による洗浄は、１回
だけで終了するようにしてもよいし、複数回行うように
してもよい。
【００１９】ＨＦ溶液槽１で用いたのと同じような多孔
性バブル板５０とパンチング板６０とを、ＱＤＲ槽の底
部に設け、ここから窒素気体を噴出するように構成する
と、この窒素気体の働きによってＴＦＴ−ＬＣＤガラス
の洗浄効果を高めることができる。ＱＤＲ槽２内におけ
る洗浄が終了したＴＦＴ−ＬＣＤガラスは、ロボット７
０によって乾燥室３内に移動される。
性バブル板５０とパンチング板６０とを、ＱＤＲ槽の底
部に設け、ここから窒素気体を噴出するように構成する
と、この窒素気体の働きによってＴＦＴ−ＬＣＤガラス
の洗浄効果を高めることができる。ＱＤＲ槽２内におけ
る洗浄が終了したＴＦＴ−ＬＣＤガラスは、ロボット７
０によって乾燥室３内に移動される。
【００２０】乾燥室３内に移送されたＴＦＴ−ＬＣＤガ
ラスは、乾燥室３内に噴出される窒素気体によって乾燥
される。乾燥に使用された窒素気体は、排気管を通じて
外部に排出される。乾燥が終了したＴＦＴ−ＬＣＤガラ
スは、カセットに収納されたままロボット７０によって
アンローディング部２１に移送される。
ラスは、乾燥室３内に噴出される窒素気体によって乾燥
される。乾燥に使用された窒素気体は、排気管を通じて
外部に排出される。乾燥が終了したＴＦＴ−ＬＣＤガラ
スは、カセットに収納されたままロボット７０によって
アンローディング部２１に移送される。
【００２１】なお、ＨＦ溶液槽１と、その上端部に設け
られた蓋３０との隙間に、ウオーターポケット４０を形
成し、ここに超純水をためて隙間から有毒なＨＦ気体が
飛散しないようにすることが好ましい。さらに、ＨＦ溶
液槽１内のエッチング効果やＱＤＲ槽２内の洗浄効果を
上げるために、前述した窒素気体の代わりに超音波振動
子（図示せず）等を設けて超音波洗浄するように構成す
ることもできる。
られた蓋３０との隙間に、ウオーターポケット４０を形
成し、ここに超純水をためて隙間から有毒なＨＦ気体が
飛散しないようにすることが好ましい。さらに、ＨＦ溶
液槽１内のエッチング効果やＱＤＲ槽２内の洗浄効果を
上げるために、前述した窒素気体の代わりに超音波振動
子（図示せず）等を設けて超音波洗浄するように構成す
ることもできる。
【００２２】
【発明の効果】本発明によれば、ＴＦＴ−ＬＣＤガラス
のエッチングを均一に行うことができるとともに、ガラ
ス内部に組み込まれた回路を破損させることもない。さ
らに、ＨＦ溶液を外部に発散させることもない。
のエッチングを均一に行うことができるとともに、ガラ
ス内部に組み込まれた回路を破損させることもない。さ
らに、ＨＦ溶液を外部に発散させることもない。
【図１】 本エッチング装置の概略構成図である。
【図２】 ＨＦ溶液槽の概略断面図である。
【図３】 パンチング板の概略平面図である。
【図４】 バブル板の概略平面図である。
１ ＨＦ溶液槽 ２ ＱＤＲ槽 ３ 乾燥室 ４ ＨＦ供給タンク ５ ＨＦ再生タンク １０ 第１ＨＦ原液供給装置 １１ 第２ＨＦ原液供給装置 ３０ 蓋部 ３１ 周縁壁 ５０ バブル板 ６０ パンチング板 ７０ ロボット １００ 自動エッチング装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C03C 15/00 - 23/00 H01L 21/304 H01L 21/306 - 21/308
Claims (3)
- 【請求項１】 エッチング溶液を貯溜するエッチング溶
液槽と、当該エッチング溶液を攪拌するために当該エッ
チング溶液槽の底部に設けられた気泡発生装置と、エッ
チング後に洗浄するための洗浄装置と、洗浄後に乾燥す
るための乾燥装置と、を備える薄膜トランジスタ液晶デ
ィスプレイ用ガラスの自動エッチング装置において、前記エッチング溶液槽は、その上端開口部を覆う蓋部を
備え、かつ、当該上端開口部の周縁に溝部を備え、 前記蓋部は、上面板と、当該上面板の周縁部から下方に
延びる周縁壁と、を備え、 前記溝部は、密閉用液体を貯溜するように構成され、 前記蓋部は、前記エッチング溶液槽を覆う際に前記周縁
壁の下端部が前記密閉用液体内に浸る ように構成されて
いることを特徴とする薄膜トランジスタ液晶ディスプレ
イ用ガラスの自動エッチング装置。 - 【請求項２】 前記気泡発生装置は、前記気泡を噴出す
るためのバブル板と、当該バブル板の上方領域に位置し
多数の小孔を有するパンチング板と、を含み、 前記パンチング板は、前記バブル板によって噴出された
気泡を均一分散させるように構成されていることを特徴
とする請求項１に記載した薄膜トランジスタ液晶ディス
プレイ用ガラスの自動エッチング装置。 - 【請求項３】 前記気泡は、窒素ガスを主成分とするこ
とを特徴とする請求項１又は２に記載した薄膜トランジ
スタ液晶ディスプレイ用ガラスの自動エッチング装置。
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| JP32746398A JP3145080B2 (ja) | 1998-11-02 | 1998-11-02 | 薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ用ガラスの自動エッチング装置 |
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