CN103043913B - 一种使用可控流体场的玻璃蚀刻设备 - Google Patents
一种使用可控流体场的玻璃蚀刻设备 Download PDFInfo
- Publication number
- CN103043913B CN103043913B CN201310022627.2A CN201310022627A CN103043913B CN 103043913 B CN103043913 B CN 103043913B CN 201310022627 A CN201310022627 A CN 201310022627A CN 103043913 B CN103043913 B CN 103043913B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- etching
- liquid
- reaction tank
- controlled fluid
- fluid field
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000005530 etching Methods 0.000 title claims abstract description 76
- 239000012530 fluid Substances 0.000 title claims abstract description 18
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 15
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 51
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 40
- 235000008733 Citrus aurantifolia Nutrition 0.000 claims abstract description 15
- 235000011941 Tilia x europaea Nutrition 0.000 claims abstract description 15
- 239000004571 lime Substances 0.000 claims abstract description 15
- 238000011084 recovery Methods 0.000 claims abstract description 12
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 6
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 claims description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 3
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 claims description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 230000008676 import Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 238000004886 process control Methods 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Weting (AREA)
Abstract
一种使用可控流体场的玻璃蚀刻设备，包括蚀刻液供给设备、蚀刻液回收设备以及蚀刻反应槽，蚀刻液供给设备通过输送管连接到蚀刻反应槽，蚀刻液供给设备设有至少两组，分别输出不同反应液，在蚀刻反应槽的前侧面及后侧面及底面共三个面上分别设置有多组的液体进出口，每组的液体进出口分别与反应液输出管道的输送管连接，每组输送管上连接一流量控制器，反应液在蚀刻反应槽与各个流量控制器与连接管路之间形成可控流体场，所述的流量控制器与蚀刻液回收设备之间还设有一回收管。本发明的使用可控流体场的玻璃蚀刻设备，采用在三个方向都设置进出液的管道，并使用多组不同的反应液的结构,保证蚀刻反应的均匀。
Description
技术领域：
本发明属于显示设备上液晶板的制造设备，具体涉及的是一种使用可控流体场的玻璃蚀刻设备。
背景技术：
随着科技的进步，越来越多的显示设备采用液晶屏幕，同时，对于一些超薄的电子产品，其液晶玻璃板是需要进行减薄操作的，目前采用较多的是蚀刻减薄，为了保证蚀刻的过程可控制及蚀刻效果好，一般采用将玻璃板浸泡在定向流动的蚀刻箱体中，但这样的方法也有一些缺陷，在液体的反应路径上，反应液浓度会随着反应的进行而降低，在路径的后段，蚀刻反应较弱，而造成后段的玻璃厚度较厚，整个蚀刻反应不均匀。
发明内容：
针对现有技术存在的缺陷，本发明的目的是提供一种可以使蚀刻反应均匀的使用可控流体场的玻璃蚀刻设备。
本发明解决其技术问题所采取的技术方案是：一种使用可控流体场的玻璃蚀刻设备，所述的蚀刻设备包括蚀刻液供给设备、蚀刻液回收设备以及蚀刻反应槽，所述的蚀刻液供给设备通过输送管连接到蚀刻反应槽，关键所述的蚀刻液供给设备设有至少两组，分别输出不同反应液，在蚀刻反应槽的前侧面及后侧面及底面共三个面上分别设置有多组的液体进出口，每组的液体进出口分别与反应液输出管道的输送管连接，所述的蚀刻液供给设备还包括有多个的流量控制器，每组输送管上连接一流量控制器，流量控制器对每组输送管进行单独的顺逆流动控制，反应液在蚀刻反应槽与各个流量控制器与连接管路之间形成可控流体场，所述的流量控制器与蚀刻液回收设备之间还设有一回收管。
所述的每组的液体进出口包括有两个或以上的进出通道，反应槽外设置有接液槽。多个的进出通道可使液体的流动更细化更平稳，可有效得减少流动的冲击性，使反应更均匀。
所述的在蚀刻反应槽的三个侧面上设置的多组液体进出口为两组，分别为酸性蚀刻液和中性水。
所述的在蚀刻反应槽的三个侧面上设置的多组液体进出口为三组，分别为酸性蚀刻液、中性水及碱性反应液。
本发明的使用可控流体场的玻璃蚀刻设备，采用在三个方向都设置进出液的管道，并使用多组不同的反应液的结构，假如设多组的反应液为n，则可实现为“2x3n+1”种，其中的“1”为三个面都正向流动，最后的反应液从顶部溢出，进入到接液槽中，由于采用正反流动可控制的蚀刻结构，避免在反应后段的反应液浓度减低也使反应不完全，前后两端都可均匀反应到，同时，底部的进出口可进一步缩小反应的不均衡性。
附图说明：
图1为本发明的结构示意图。
图2为本发明的局部结构示意图。
具体实施方式：
如图1至图2所示，一种使用可控流体场的玻璃蚀刻设备，所述的蚀刻设备包括蚀刻液供给设备1、蚀刻液回收设备2以及蚀刻反应槽3，所述的蚀刻液供给设备通过输送管30连接到蚀刻反应槽，所述的蚀刻液供给设备设有至少两组，分别输出不同反应液，在蚀刻反应槽的前侧面及后侧面及底面共三个面上分别设置有多组的液体进出口31，每组的液体进出口分别与反应液输出管道的输送管30连接，所述的蚀刻液供给设备还包括有多个的流量控制器32，每组输送管上连接一流量控制器32，流量控制器对每组输送管进行单独的顺逆流动控制，反应液在蚀刻反应槽与各个流量控制器和与连接管路之间形成可控流体场，所述的流量控制器与蚀刻液回收设备之间还设有一回收管33。相同道理，为了实现流体的可逆流动，也可以在上述蚀刻反应槽的两个面设置正反流向的液体进出口，但控制效果自然差很多。反应时，基板的前端和后端以及下端都设置有液体进出口，侧面是不可以有液体冲击的。流量控制器32可采用电磁控制，同时配合液体泵，实现液体的流向控制。
设置多组的液体进出口，可以对反应过程的反应液浓度进行精确调整，对蚀刻反应进行变量控制。进一步优化反应后的基板光滑度。
所述的每组的液体进出口31包括有两个或以上的进出通道，反应槽3外设置有接液槽4。
所述的在蚀刻反应槽的三个侧面上设置的多组液体进出口为两组，分别为酸性蚀刻液和中性水。
所述的在蚀刻反应槽的三个侧面上设置的多组液体进出口为三组，分别为酸性蚀刻液、中性水及碱性反应液。
Claims (4)
1.一种使用可控流体场的玻璃蚀刻设备，所述的蚀刻设备包括蚀刻液供给设备(1)、蚀刻液回收设备(2)以及蚀刻反应槽(3)，所述的蚀刻液供给设备通过输送管(30)连接到蚀刻反应槽，其特征在于所述的蚀刻液供给设备设有至少两组，分别输出不同反应液，在蚀刻反应槽的前侧面及后侧面及底面共三个面上分别设置有多组的液体进出口(31)，每组的液体进出口(31)分别与反应液输出管道的输送管(30)连接，所述的蚀刻液供给设备还包括有多个的流量控制器(32)，在每组输送管(30)上连接一流量控制器(32)，流量控制器对每组输送管进行单独的顺逆流动控制，反应液在蚀刻反应槽与各个流量控制器与连接管路之间形成可控流体场，所述的流量控制器与蚀刻液回收设备之间还设有一回收管(33),流量控制器(32)采用电磁控制，同时配合液体泵，实现液体的流向控制。
2.根据权利要求1所述的使用可控流体场的玻璃蚀刻设备，其特征在于所述的每组的液体进出口(31)包括有两个或以上的进出通道，反应槽(3)外设置有接液槽(4)。
3.根据权利要求2所述的使用可控流体场的玻璃蚀刻设备，其特征在于所述的在蚀刻反应槽的三个侧面上设置的多组液体进出口为两组，分别为酸性蚀刻液和中性水。
4.根据权利要求2所述的使用可控流体场的玻璃蚀刻设备，其特征在于所述的在蚀刻反应槽的三个侧面上设置的多组液体进出口为三组，分别为酸性蚀刻液、中性水及碱性反应液。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201310022627.2A CN103043913B (zh) | 2013-01-21 | 2013-01-21 | 一种使用可控流体场的玻璃蚀刻设备 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201310022627.2A CN103043913B (zh) | 2013-01-21 | 2013-01-21 | 一种使用可控流体场的玻璃蚀刻设备 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN103043913A CN103043913A (zh) | 2013-04-17 |
| CN103043913B true CN103043913B (zh) | 2015-10-21 |
Family
ID=48056801
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201310022627.2A Expired - Fee Related CN103043913B (zh) | 2013-01-21 | 2013-01-21 | 一种使用可控流体场的玻璃蚀刻设备 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN103043913B (zh) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108227257B (zh) * | 2018-02-06 | 2021-01-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种减薄装置及减薄方法 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100336182C (zh) * | 2002-09-17 | 2007-09-05 | m.FSI株式会社 | 蚀刻液的再生方法、蚀刻方法和蚀刻系统 |
| CN101140374A (zh) * | 2006-09-08 | 2008-03-12 | 三星电子株式会社 | 蚀刻液供应装置、蚀刻装置及蚀刻方法 |
| CN101546701A (zh) * | 2008-03-27 | 2009-09-30 | 大日本网屏制造株式会社 | 基板处理装置及基板处理方法 |
| CN102653451A (zh) * | 2011-03-01 | 2012-09-05 | 三福化工股份有限公司 | 玻璃基板连续结晶式化学蚀刻方法与设备 |
| CN203007131U (zh) * | 2013-01-21 | 2013-06-19 | 汕头市拓捷科技有限公司 | 一种使用可控流体场的玻璃蚀刻设备 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3145080B2 (ja) * | 1998-11-02 | 2001-03-12 | システム テクノロジー インコーポレイティッド | 薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ用ガラスの自動エッチング装置 |
-
2013
- 2013-01-21 CN CN201310022627.2A patent/CN103043913B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100336182C (zh) * | 2002-09-17 | 2007-09-05 | m.FSI株式会社 | 蚀刻液的再生方法、蚀刻方法和蚀刻系统 |
| CN101140374A (zh) * | 2006-09-08 | 2008-03-12 | 三星电子株式会社 | 蚀刻液供应装置、蚀刻装置及蚀刻方法 |
| CN101546701A (zh) * | 2008-03-27 | 2009-09-30 | 大日本网屏制造株式会社 | 基板处理装置及基板处理方法 |
| CN102653451A (zh) * | 2011-03-01 | 2012-09-05 | 三福化工股份有限公司 | 玻璃基板连续结晶式化学蚀刻方法与设备 |
| CN203007131U (zh) * | 2013-01-21 | 2013-06-19 | 汕头市拓捷科技有限公司 | 一种使用可控流体场的玻璃蚀刻设备 |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 傅建中等.微系统原理与技术.《微系统原理与技术》.机械工业出版社,2005,第44-47页. * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN103043913A (zh) | 2013-04-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN102937852B (zh) | 一种电容式内嵌触摸屏、其驱动方法及显示装置 | |
| KR101909985B1 (ko) | 액정 디스플레이 장치와 이의 구동방법 | |
| CN106094360A (zh) | 曲面液晶显示面板 | |
| CN105679805A (zh) | 一种显示面板、驱动方法及显示装置 | |
| CN102331896B (zh) | 电容式触摸屏显示器及其制作方法 | |
| CN103744567A (zh) | 电容式触摸屏及触控层的制造方法和电子设备 | |
| CN103336381A (zh) | 一种立体膜贴合对位的方法 | |
| CN104516109A (zh) | 提高液晶模组亮度均匀性的方法 | |
| CN101676770A (zh) | 液晶面板移载装置及方法 | |
| CN103043913B (zh) | 一种使用可控流体场的玻璃蚀刻设备 | |
| CN104182092A (zh) | 红外触摸屏定位方法及系统 | |
| CN203007131U (zh) | 一种使用可控流体场的玻璃蚀刻设备 | |
| CN201812117U (zh) | 液晶显示面板和液晶显示装置 | |
| CN103761017A (zh) | 单层多点电容式触摸屏及触控层的制造方法和电子设备 | |
| CN103305410B (zh) | 显微注射系统及坐标误差补偿和精确重复定位方法 | |
| CN108225204A (zh) | 一种在线测量玻璃板翘曲装置及方法 | |
| CN104597640A (zh) | 阵列基板及其断线修补方法 | |
| CN102681231B (zh) | 液晶显示面板及3d影像系统 | |
| CN203733452U (zh) | 阵列基板、显示面板和显示装置 | |
| CN102819155A (zh) | 双tft基板蓝相液晶显示面板 | |
| CN104950506B (zh) | Tft基板与cf基板的对位方法 | |
| CN203474951U (zh) | 恒温水槽控制装置 | |
| CN203764144U (zh) | 一种手持式中空纤维膜通量快速检测装置 | |
| CN208384546U (zh) | 一种便于贴合的电容式触摸屏 | |
| CN203382653U (zh) | 一种对横切机的刀轮划线压力进行分段控制的装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| C56 | Change in the name or address of the patentee | ||
| CP01 | Change in the name or title of a patent holder |
Address after: East Lake village in Guangdong province Haojiang District 515000 Shantou Nanhu Taiwanese Investment Zone Daming Road Patentee after: GUANGDONG TOPJET TECHNOLOGY CO., LTD. Address before: East Lake village in Guangdong province Haojiang District 515000 Shantou Nanhu Taiwanese Investment Zone Daming Road Patentee before: SHANTOU TOPJET TECHNOLOGY CO., LTD. |
|
| PE01 | Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right | ||
| PE01 | Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right |
Denomination of invention: Glass etching apparatus using controllable fluid fields Effective date of registration: 20170317 Granted publication date: 20151021 Pledgee: Longhu City, Shantou billion letter microfinance Limited Pledgor: GUANGDONG TOPJET TECHNOLOGY CO., LTD. Registration number: 2017440000008 |
|
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20151021 Termination date: 20200121 |