CN103043913B - 一种使用可控流体场的玻璃蚀刻设备 - Google Patents

一种使用可控流体场的玻璃蚀刻设备 Download PDF

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Abstract

一种使用可控流体场的玻璃蚀刻设备，包括蚀刻液供给设备、蚀刻液回收设备以及蚀刻反应槽，蚀刻液供给设备通过输送管连接到蚀刻反应槽，蚀刻液供给设备设有至少两组，分别输出不同反应液，在蚀刻反应槽的前侧面及后侧面及底面共三个面上分别设置有多组的液体进出口，每组的液体进出口分别与反应液输出管道的输送管连接，每组输送管上连接一流量控制器，反应液在蚀刻反应槽与各个流量控制器与连接管路之间形成可控流体场，所述的流量控制器与蚀刻液回收设备之间还设有一回收管。本发明的使用可控流体场的玻璃蚀刻设备，采用在三个方向都设置进出液的管道，并使用多组不同的反应液的结构,保证蚀刻反应的均匀。

Description

一种使用可控流体场的玻璃蚀刻设备
技术领域：
本发明属于显示设备上液晶板的制造设备，具体涉及的是一种使用可控流体场的玻璃蚀刻设备。
背景技术：
随着科技的进步，越来越多的显示设备采用液晶屏幕，同时，对于一些超薄的电子产品，其液晶玻璃板是需要进行减薄操作的，目前采用较多的是蚀刻减薄，为了保证蚀刻的过程可控制及蚀刻效果好，一般采用将玻璃板浸泡在定向流动的蚀刻箱体中，但这样的方法也有一些缺陷，在液体的反应路径上，反应液浓度会随着反应的进行而降低，在路径的后段，蚀刻反应较弱，而造成后段的玻璃厚度较厚，整个蚀刻反应不均匀。
发明内容：
针对现有技术存在的缺陷，本发明的目的是提供一种可以使蚀刻反应均匀的使用可控流体场的玻璃蚀刻设备。
本发明解决其技术问题所采取的技术方案是：一种使用可控流体场的玻璃蚀刻设备，所述的蚀刻设备包括蚀刻液供给设备、蚀刻液回收设备以及蚀刻反应槽，所述的蚀刻液供给设备通过输送管连接到蚀刻反应槽，关键所述的蚀刻液供给设备设有至少两组，分别输出不同反应液，在蚀刻反应槽的前侧面及后侧面及底面共三个面上分别设置有多组的液体进出口，每组的液体进出口分别与反应液输出管道的输送管连接，所述的蚀刻液供给设备还包括有多个的流量控制器，每组输送管上连接一流量控制器，流量控制器对每组输送管进行单独的顺逆流动控制，反应液在蚀刻反应槽与各个流量控制器与连接管路之间形成可控流体场，所述的流量控制器与蚀刻液回收设备之间还设有一回收管。
所述的每组的液体进出口包括有两个或以上的进出通道，反应槽外设置有接液槽。多个的进出通道可使液体的流动更细化更平稳，可有效得减少流动的冲击性，使反应更均匀。
所述的在蚀刻反应槽的三个侧面上设置的多组液体进出口为两组，分别为酸性蚀刻液和中性水。
所述的在蚀刻反应槽的三个侧面上设置的多组液体进出口为三组，分别为酸性蚀刻液、中性水及碱性反应液。
本发明的使用可控流体场的玻璃蚀刻设备，采用在三个方向都设置进出液的管道，并使用多组不同的反应液的结构，假如设多组的反应液为n，则可实现为“2x3n+1”种，其中的“1”为三个面都正向流动，最后的反应液从顶部溢出，进入到接液槽中，由于采用正反流动可控制的蚀刻结构，避免在反应后段的反应液浓度减低也使反应不完全，前后两端都可均匀反应到，同时，底部的进出口可进一步缩小反应的不均衡性。
附图说明：
图1为本发明的结构示意图。
图2为本发明的局部结构示意图。
具体实施方式：
如图1至图2所示，一种使用可控流体场的玻璃蚀刻设备，所述的蚀刻设备包括蚀刻液供给设备1、蚀刻液回收设备2以及蚀刻反应槽3，所述的蚀刻液供给设备通过输送管30连接到蚀刻反应槽，所述的蚀刻液供给设备设有至少两组，分别输出不同反应液，在蚀刻反应槽的前侧面及后侧面及底面共三个面上分别设置有多组的液体进出口31，每组的液体进出口分别与反应液输出管道的输送管30连接，所述的蚀刻液供给设备还包括有多个的流量控制器32，每组输送管上连接一流量控制器32，流量控制器对每组输送管进行单独的顺逆流动控制，反应液在蚀刻反应槽与各个流量控制器和与连接管路之间形成可控流体场，所述的流量控制器与蚀刻液回收设备之间还设有一回收管33。相同道理，为了实现流体的可逆流动，也可以在上述蚀刻反应槽的两个面设置正反流向的液体进出口，但控制效果自然差很多。反应时，基板的前端和后端以及下端都设置有液体进出口，侧面是不可以有液体冲击的。流量控制器32可采用电磁控制，同时配合液体泵，实现液体的流向控制。
设置多组的液体进出口，可以对反应过程的反应液浓度进行精确调整，对蚀刻反应进行变量控制。进一步优化反应后的基板光滑度。
所述的每组的液体进出口31包括有两个或以上的进出通道，反应槽3外设置有接液槽4。
所述的在蚀刻反应槽的三个侧面上设置的多组液体进出口为两组，分别为酸性蚀刻液和中性水。
所述的在蚀刻反应槽的三个侧面上设置的多组液体进出口为三组，分别为酸性蚀刻液、中性水及碱性反应液。

Claims (4)

1.一种使用可控流体场的玻璃蚀刻设备，所述的蚀刻设备包括蚀刻液供给设备(1)、蚀刻液回收设备(2)以及蚀刻反应槽(3)，所述的蚀刻液供给设备通过输送管(30)连接到蚀刻反应槽，其特征在于所述的蚀刻液供给设备设有至少两组，分别输出不同反应液，在蚀刻反应槽的前侧面及后侧面及底面共三个面上分别设置有多组的液体进出口(31)，每组的液体进出口(31)分别与反应液输出管道的输送管(30)连接，所述的蚀刻液供给设备还包括有多个的流量控制器(32)，在每组输送管(30)上连接一流量控制器(32)，流量控制器对每组输送管进行单独的顺逆流动控制，反应液在蚀刻反应槽与各个流量控制器与连接管路之间形成可控流体场，所述的流量控制器与蚀刻液回收设备之间还设有一回收管(33),流量控制器(32)采用电磁控制，同时配合液体泵，实现液体的流向控制。
2.根据权利要求1所述的使用可控流体场的玻璃蚀刻设备，其特征在于所述的每组的液体进出口(31)包括有两个或以上的进出通道，反应槽(3)外设置有接液槽(4)。
3.根据权利要求2所述的使用可控流体场的玻璃蚀刻设备，其特征在于所述的在蚀刻反应槽的三个侧面上设置的多组液体进出口为两组，分别为酸性蚀刻液和中性水。
4.根据权利要求2所述的使用可控流体场的玻璃蚀刻设备，其特征在于所述的在蚀刻反应槽的三个侧面上设置的多组液体进出口为三组，分别为酸性蚀刻液、中性水及碱性反应液。
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Denomination of invention: Glass etching apparatus using controllable fluid fields

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Pledgor: GUANGDONG TOPJET TECHNOLOGY CO., LTD.

Registration number: 2017440000008

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Granted publication date: 20151021

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