CN108227257B - 一种减薄装置及减薄方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种减薄装置及减薄方法，利用承载装置固定显示面板，利用高度调节装置调节显示面板与液体仓内侵蚀液之间的距离，通过使显示面板的第一基板分阶段与侵蚀液接触，逐步减薄第一基板，其中，在第一减薄阶段实现初步减薄，在第二减薄阶段实现快速减薄，在第三减薄阶段实现微减薄，这样第一基板上的缺陷不会过早被侵蚀液完全侵蚀，从而避免缺陷放大，相应的，无需额外进行抛光工序即可消除显示面板表面的凹点、划伤等不良，简化显示面板减薄工序，而且能够避免抛光工序产生的碎屑问题，从而增加产品良率，提高显示效果。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种减薄装置及减薄方法。
背景技术
液晶显示面板的发展日新月异，已成为人们生活中不可缺失的一部分。由于其具有视角面积大、体积均匀小巧、低压微功耗、平板型结构、被动显示器、显示信息量大、易于彩色化、无电磁辐射以及长寿命的优点，液晶显示面板的涉及领域也在逐步拓展。随着工艺技术和设备的不断更新，显示效果得到了大幅度的提升，为我们的生活和工作带来了极大的便捷。
随着市场轻薄化的发展趋势，显示面板在对盒工序后需要进行薄化处理，目前针对显示面板减薄过程是通过HF(氢氟酸)鼓泡的方式进行整体的薄化，但是这种减薄方式会在HF侵蚀基板的过程中将显示面板上原有的凹点、划伤等缺陷放大，因此需要在减薄工序之后增加抛光工序，用以消除显示面板表面的缺陷。
由于要消除凹点、划伤等外观不良，一方面对抛光的压力和时间等参数都有较高要求，另一方面针对于设计强度较弱的产品来说，在抛光过程中隔垫物容易与阵列基板上的取向膜发生摩擦产生碎屑，影响显示效果和产品良率。
因此亟需一种减薄装置及减薄方法以解决上述问题。
发明内容
本发明针对现有技术中存在的上述不足，提供一种减薄装置及减薄方法，用以至少部分解决现有显示面板减薄工序复杂，产品良率和显示效果差的问题。
本发明为解决上述技术问题，采用如下技术方案：
本发明提供一种减薄装置，包括：高度调节装置、刻蚀速率调节单元、用于固定显示面板的承载装置和用于盛放侵蚀液的液体仓，所述承载装置位于所述液体仓内，并通过所述高度调节装置与所述液体仓的顶盖连接；
所述高度调节装置用于，调节所述承载装置与所述侵蚀液的液面之间的距离，用以在第一减薄阶段使所述显示面板的第一基板部分浸没于所述侵蚀液，以被减薄第一厚度，以及，用以在第二减薄阶段使所述显示面板的第一基板部分浸没于所述侵蚀液，以被减薄第二厚度，以及，用以在第三减薄阶段使所述显示面板的第一基板部分浸没于所述侵蚀液，以被减薄第三厚度；
所述刻蚀速率调节单元与所述液体仓相连，用于调节所述液体仓内所述侵蚀液的浓度和流速，以使第二减薄阶段的侵蚀速率大于第一减薄阶段和第三减薄阶段的侵蚀速率。
优选的，所述刻蚀速率调节单元包括第一角度调节装置、用于存储所述侵蚀液的存储仓和用于回收所述侵蚀液的回收仓，所述第一角度调节装置用于，在第一减薄阶段和第三减薄阶段控制所述液体仓处于水平状态，以及，在第二减薄阶段控制所述液体仓倾斜第一角度；
所述存储仓和所述回收仓分别与所述液体仓的两端密封连接；在第二减薄阶段，所述存储仓和所述回收仓与所述液体仓连通，且所述液体仓朝向所述回收仓倾斜第一角度。
进一步的，所述减薄装置还包括第二角度调节装置，所述承载装置还通过所述第二角度调节装置与所述液体仓的顶盖连接；
所述第二角度调节装置用于，在第二减薄阶段的第一时段控制所述承载装置倾斜所述第一角度，以使所述显示面板与所述侵蚀液的液面平行；以及，在第一时段结束后、第二时段开始前，控制所述承载装置在其所在平面内旋转第二角度，以使所述显示面板的第一基板在第二减薄阶段的第二时段以旋转后的形态部分浸没于所述侵蚀液；
所述高度调节装置具体用于，在第二减薄阶段的第一时段使所述显示面板的第一基板浸没所述侵蚀液第四厚度，并在第二减薄阶段的第二时段使所述显示面板的第一基板浸没所述侵蚀液第五厚度，所述第四厚度与所述第五厚度之和等于所述第二厚度。
优选的，所述第二角度为180度。
本发明还提供一种减薄方法，所述方法用于减薄显示面板，所述显示面板为第一基板和第二基板已对盒完成的显示面板，所述方法包括减薄所述第一基板的步骤，所述减薄所述第一基板包括：
在第一减薄阶段，利用侵蚀液侵蚀所述第一基板的第一表面，以减薄第一厚度；
在第二减薄阶段，利用侵蚀液侵蚀所述第一基板的第一表面，以减薄第二厚度；
在第三减薄阶段，利用侵蚀液侵蚀所述第一基板的第一表面，以减薄第三厚度；
其中，第二减薄阶段的侵蚀速率大于第一减薄阶段和第三减薄阶段的侵蚀速率。
优选的，所述利用侵蚀液侵蚀所述第一基板的第一表面，以减薄第一厚度，具体包括：将所述第一基板的第一表面浸没所述侵蚀液第一厚度，并静置第一时长；和/或，
所述利用侵蚀液侵蚀所述第一基板的第一表面，以减薄第三厚度，具体包括：将所述第一基板的第一表面浸没所述侵蚀液第三厚度，并静置第二时长。
优选的，所述第一时长与所述第二时长相等；所述第一厚度与所述第三厚度相等。
优选的，所述在第二减薄阶段，利用侵蚀液侵蚀所述第一基板的第一表面，以减薄第二厚度，具体包括：
在第二减薄阶段的第一时段，控制所述侵蚀液的液面倾斜第一角度，控制所述显示面板倾斜第一角度，并将所述第一基板的第一表面浸没所述侵蚀液第四厚度；
在第一时段结束后、第二时段开始前，控制所述显示面板在所述显示面板所在平面内旋转第二角度；
在第二减薄阶段的第二时段，将所述第一基板的第一表面浸没所述侵蚀液第五厚度；其中，所述第四厚度与所述第五厚度之和等于所述第二厚度。
优选的，所述第四厚度与所述第五厚度相等；所述第一时段的时长和所述第二时段的时长相等。
进一步的，所述减薄方法还包括减薄所述第二基板的步骤，所述减薄所述第二基板包括：
在第四减薄阶段，利用侵蚀液侵蚀所述第二基板的第二表面，以减薄第一厚度；
在第五减薄阶段，利用侵蚀液侵蚀所述第二基板的第二表面，以减薄第二厚度；
在第六减薄阶段，利用侵蚀液侵蚀所述第二基板的第二表面，以减薄第三厚度；
其中，第五减薄阶段的侵蚀速率大于第四阶段和第六阶段的侵蚀速率。
本发明能够实现以下有益效果：
本发明提供的减薄装置及减薄方法，利用承载装置固定显示面板，利用高度调节装置调节显示面板与液体仓内侵蚀液之间的距离，通过使显示面板的第一基板分阶段与侵蚀液接触，逐步减薄第一基板，其中，在第一减薄阶段实现初步减薄，在第二减薄阶段实现快速减薄，在第三减薄阶段实现微减薄，这样第一基板上的缺陷不会过早被侵蚀液完全侵蚀，从而避免缺陷放大，相应的，无需额外进行抛光工序即可消除显示面板表面的凹点、划伤等不良，简化显示面板减薄工序，而且能够避免抛光工序产生的碎屑问题，从而增加产品良率，提高显示效果。
附图说明
图1为本发明提供的减薄装置的结构示意图；
图2为本发明提供的减薄装置调节显示面板角度的示意图；
图3为本发明提供的侵蚀液受力示意图；
图4a-4m为本发明提供的减薄流程示意图之二。
图例说明：
1、高度调节装置 2、承载装置 3、液体仓
4、显示面板 5、侵蚀液 6、第一角度调节装置
7、存储仓 8、回收仓 9、第二角度调节装置
10、机台 11、支撑体 21、吸孔
31、顶盖 32、仓体 41、第一基板
42、第二基板 101、第一阀门 102、第二阀门
103、液位传感器
具体实施方式
下面将结合本发明中的附图，对本发明中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明提供一种减薄装置，如图1所示，所述减薄装置包括：高度调节装置1、刻蚀速率调节单元、承载装置2和液体仓3，承载装置2用于固定显示面板4，液体仓3用于盛放侵蚀液5。承载装置2位于液体仓3内，并通过高度调节装置1与液体仓3的顶盖31连接。显示面板4包括第一基板41和与第一基板41对盒的第二基板42，第一基板41和第二基板42二者中一个为阵列基板，另一个为彩膜基板。在本发明实施例中，如图1所示，第一基板41位于显示面板4邻近侵蚀液5的一侧(即位于显示面板4的下方一侧)。
高度调节装置1用于，调节承载装置2与侵蚀液5的液面之间的距离，用以在第一减薄阶段使显示面板4的第一基板41部分浸没于侵蚀液5，以被减薄第一厚度，以及，用以在第二减薄阶段使显示面板4的第一基板41部分浸没于侵蚀液5，以被减薄第二厚度，以及，用以在第三减薄阶段使显示面板4的第一基板41部分浸没于侵蚀液5，以被减薄第三厚度。
刻蚀速率调节单元与液体仓3相连，用于调节液体仓3内侵蚀液5的浓度和流速，以使第二减薄阶段的侵蚀速率大于第一减薄阶段和第三减薄阶段的侵蚀速率。
本发明提供的减薄装置，利用承载装置2固定显示面板4，利用高度调节装置1调节显示面板4与液体仓3内侵蚀液5之间的距离，通过使显示面板4的第一基板41分阶段与侵蚀液5接触，逐步减薄第一基板41，其中，在第一减薄阶段实现初步减薄，在第二减薄阶段利用刻蚀速率调节单元调节液体仓3内侵蚀液5的浓度和流速，实现快速减薄，在第三减薄阶段实现微减薄，这样第一基板41上的缺陷不会过早被侵蚀液5完全侵蚀，从而避免缺陷放大，相应的，无需额外进行抛光工序即可消除显示面板4表面的凹点、划伤等不良，简化显示面板4减薄工序，而且能够避免抛光工序产生的碎屑问题，从而增加产品良率，提高显示效果。
如图1所示，液体仓3包括顶盖31和仓体32，侵蚀液5盛放在仓体32内，顶盖31能够与仓体32分离，当需要安装、更换显示面板4时，可以将顶盖31从仓体32上拆卸下来，并将顶盖31翻转180°，以露出显示面板4。顶盖31压覆在仓体32上之后，可以与仓体32形成密闭空间(即液体仓3)，该密闭空间即为侵蚀液5与显示面板4的反应空间。显示面板4固定在承载装置2的下表面，即显示面板4位于承载装置2与侵蚀液5之间。高度调节装置1的顶端固定在顶盖31的内壁上，高度调节装置1的底端与承载装置2的上表面固定连接，从而将承载装置2及其固定的显示面板4悬挂固定在液体仓3内。顶盖31一方面起到承载显示面板4的作用，另一方面可以与仓体32形成密闭的液体仓3，防止异物进入液体仓3造成侵蚀不均。
优选的，承载装置2为吸盘，包括多个均匀分布的吸孔21，利用吸孔21产生的吸力吸附固定显示面板4。各个吸孔21的压力相同，从而使显示面板4在各个吸附位置受力均匀。根据显示面板4的尺寸不同，一个吸盘可以承载1-8个相同规格的显示面板4。
侵蚀液5可以选用HF。
优选的，高度调节装置1可以选用伸缩轴，通过控制伸缩轴的伸长或缩短来控制显示面板4在垂直方向的高度，从而调节显示面板4与侵蚀液5的液面之间的距离。
进一步的，结合图1和图2所示，所述刻蚀速率调节单元包括第一角度调节装置6、用于存储侵蚀液5的存储仓7和用于回收侵蚀液5的回收仓8，第一角度调节装置6用于在第一减薄阶段和第三减薄阶段控制液体仓3处于水平状态，以及，在第二减薄阶段控制液体仓3倾斜第一角度θ。在第一减薄阶段和第三减薄阶段，如图1所示，液体仓3处于水平状态；在第二减薄阶段，如图2所示，液体仓3倾斜第一角度θ。在本发明实施例中，第一角度调节装置6位于液体仓3的底端。
如图1所示，存储仓7和回收仓8分别与液体仓3的两端密封连接。如图2所示，在第二减薄阶段，存储仓7和回收仓8与液体仓3连通，且液体仓3朝向回收仓8倾斜第一角度θ。具体的，存储仓7位于液体仓3的左侧，回收仓8位于液体仓3的右侧，存储仓7与液体仓3之间设置有第一阀门101，回收仓8与液体仓3之间设置有第二阀门102。在第二减薄阶段，通过开启第一阀门101和第二阀门102，可以实现存储仓7和回收仓8与液体仓3连通，从而使已发生反应的部分侵蚀液5从液体仓3流向回收仓8，并使未发生反应的部分侵蚀液5从存储仓7流向液体仓3，以保持侵蚀液5的高浓度状态。
通过在第二减薄阶段将液体仓3倾斜第一角度θ，并使侵蚀液5在液体仓3内保持流动，可以改变侵蚀液5的流速，并让侵蚀液5保持高浓度状态，从而加剧显示面板表面与侵蚀液5的化学反应，提高侵蚀速率。
进一步的，如图1所示，所述减薄装置还包括两个液位传感器103，液位传感器103设置在液体仓3内，用于检测侵蚀液5的液面高度。液位传感器103预先设置在液体仓3的预设高度位置，该高度即为侵蚀液5的液面的初始高度。当第一阀门101和第二阀门102均开启时，侵蚀液5从存储仓7流向液体仓3、再流向回收仓8的过程中，若液体仓3内侵蚀液5的液面升高触发液位传感器103，则第一阀门101和第二阀门102自动关闭，以使侵蚀液5的液面保持预设的初始高度。
进一步的，如图1所示，所述减薄装置还包括第二角度调节装置9，承载装置2还通过第二角度调节装置9与液体仓3的顶盖31连接，具体的，第二角度调节装置9与顶盖31直接连接，高度调节装置1位于第二角度调节装置9与承载装置2之间。
第二角度调节装置9用于，在第二减薄阶段的第一时段控制承载装置2倾斜第一角度θ，以使显示面板4与侵蚀液5的液面平行；以及，在第一时段结束后、第二时段开始前，控制承载装置2在其所在平面内旋转第二角度，以使显示面板4的第一基板41在第二减薄阶段的第二时段以旋转后的形态部分浸没于侵蚀液5。
优选的，第二角度为180°。
高度调节装置1具体用于，在第二减薄阶段的第一时段使显示面板4的第一基板41浸没侵蚀液5第四厚度，并在第二减薄阶段的第二时段使显示面板4的第一基板41浸没侵蚀液5第五厚度，其中，第四厚度与第五厚度之和等于第二厚度。
也就是说，在第二减薄阶段的第一时段，液体仓3和第一基板41均朝同一方向倾斜第一角度θ，此时第一基板41与侵蚀液5的液面平行，高度调节装置1调节承载装置2与侵蚀液5的液面之间的距离，以使第一基板41的第一表面(即下表面)浸没于侵蚀液5的液面以下第四厚度，用以将第一基板41减薄第四厚度。然后，在第二减薄阶段的第二时段开始之前，高度调节装置1通过调节承载装置2，使第一基板41从侵蚀液5中完全露出，第二角度调节装置9控制承载装置2在其所在平面内旋转180°，即第一基板41以呈第一角度θ倾斜的形态旋转180°，旋转后，第一基板41的倾斜方向与液体仓3的倾斜方向相反。在第二减薄阶段的第二时段，高度调节装置1调节承载装置2与侵蚀液5的液面之间的距离，以使第一基板41的第一表面(即下表面)浸没于侵蚀液5的液面以下第五厚度，用以将第一基板41减薄第五厚度。
优选的，第二角度调节装置9可以选用转动轴，转动轴能够带动承载装置2及其固定的显示面板4旋转。
如图1所示，所述减薄装置还可以包括机台10和支撑体11，第一角度调节装置6设置在机台10上，机台10用于承载整个减薄装置，使减薄装置处于水平状态。支撑体11连接液体仓3和机台10，并与第一角度调节装置6配合共同控制液体仓3的倾斜角度。
以下结合图2和图3，对本发明的工作原理进行详细说明。
如图2所示，液体仓3的倾斜角度决定了侵蚀液5的流动速度及侵蚀液5的液面的倾斜角度，因此可以根据液体仓3的倾斜角度，来控制第二角度调节装置9调节承载装置2的倾斜的角度，从而控制显示面板4的倾斜角度，最终让显示面板4和侵蚀液5液面的倾斜角度保持一致(均为第一角度θ)，即显示面板4和侵蚀液5的液面处于平行状态，如此确保侵蚀液5对显示面板4整体的侵蚀深度一致。
如图3所示，将液体仓3内的侵蚀液5为A、B、C、D、E、F共6等份，每个部分受到的重力G相同，将重力分解为平行于液面的力G1和垂直于液面的力G2，即每个部分受到的G1大小相同。G1＝ma，V＝at2/2，则V＝G1*t2/2m，m为每个部分的侵蚀液5的质量，t为每个部分侵蚀液流动的时间。根据上述公式可知，由于每个部分在G1作用下的时间不同(即t不同)，如此造成了每个部分的流速V不一样，即从A到F处于逐级加速状态。若A、B、C、D、E、F的流速大小分别为V1、V2、V3、V4、V5、V6，则V1＜V2＜V3＜V4＜V5＜V6。
若A、B、C、D、E、F的侵蚀液的浓度大小分别为C1、C2、C3、C4、C5、C6，由于F部分的侵蚀液与显示面板4反应的时间最长，故其浓度最小；A部分的侵蚀液与显示面板4反应的时间最短，故其浓度最大，因此C1＞C2＞C3＞C4＞C5＞C6。
将液体仓3和显示面板4同步倾斜是为了让显示面板4整体的侵蚀效果达到一致。比如，A部分的侵蚀液5流速较慢，但是浓度较大，F部分的侵蚀液5流速较快，但是浓度较小。通过将液体仓3倾斜，可以合理设置侵蚀液5的流速和浓度，可让显示面板4的每一部分达到相同的侵蚀程度。如果液体仓3和显示面板4不倾斜，侵蚀液5的每个部分只能保持相同的流速，但每个部分的侵蚀液5浓度却不同，如此导致显示面板4的每个部分受到的侵蚀程度则会不同。
液体仓3和显示面板4的倾斜角度(即第一角度θ)与侵蚀液的浓度C和侵蚀液的流速V的乘积正相关，第一角度θ为经验值，优选为2°。
如图2所示，两个液位传感器103能够感应液体仓3两侧侵蚀液5的液面距离液体仓3底部的高度，若左侧液面高度为H1，右侧液面为H2，液体仓3的长度为L，侵蚀液5的液面与水平面的夹角为θ，θ即为显示面板4需要倾斜的角度。根据三角函数关系可知：tgθ＝(H1-H2)/L，由此可以得到两个液位传感器103的高度差(H1-H2)，H1-H2＝L*arctanθ。
本发明还提供一种减薄方法，所述方法用于减薄显示面板，所述显示面板为第一基板和第二基板已对盒完成的显示面板，所述方法应用于如前所述的减薄装置。
所述方法包括减薄第一基板的步骤，在减薄第一基板41之前，如图4a所示，根据显示面板4的尺寸大小选择性开启承载装置2上的吸孔21，如此可以避免闲置吸孔21对液体仓3内气流的影响。将显示面板4放置于承载装置2上，吸孔21固定住第二基板42的位置。减薄之前，显示面板4的第一基板41和第二基板42的厚度均为0.5mm。如图4b所示，将顶盖31翻转180°，让显示面板4朝向仓体32。如图4c所示，第二阀门102呈关闭状态，打开第一阀门101，使侵蚀液5从存储仓7流向液体仓3，当侵蚀液5达到预设深度后触发液面传感器103，自动关闭第一阀门101，在此过程中，高度调节装置1保持不动，显示面板4与侵蚀液5不接触。
所述减薄第一基板的步骤包括：
步骤11，在第一减薄阶段，利用侵蚀液5侵蚀第一基板41的第一表面，以减薄第一厚度。
具体的，将第一基板41的第一表面浸没侵蚀液5第一厚度，并静置第一时长。其中，第一时长为45-90分钟，优选为60分钟，第一厚度为0.05mm。如图4d所示，高度调节装置1调节承载装置2与侵蚀液5的液面之间的距离，使承载装置2带动显示面板4向侵蚀液5的方向运动(即竖直向下运动)，直至侵蚀液5浸没第一基板41的第一表面0.05mm。
步骤11完成之后，第一基板41的第一表面完成初步减薄过程。
步骤12，在第二减薄阶段，利用侵蚀液5侵蚀第一基板41的第一表面，以减薄第二厚度。
具体的，在第二减薄阶段的第一时段，控制侵蚀液5的液面倾斜第一角度θ，控制显示面板4倾斜第一角度θ，并将第一基板41的第一表面浸没侵蚀液5第四厚度；在第一时段结束后、第二时段开始前，控制显示面板4在显示面板4所在平面内旋转第二角度；在第二减薄阶段的第二时段，将第一基板41的第一表面浸没侵蚀液5第五厚度；其中，第四厚度与第五厚度之和等于第二厚度。优选的，第四厚度与第五厚度相等，为0.1mm；优选的，第一时段的时长和第二时段的时长相等，为90分钟。
如图4e所示，高度调节装置1调节承载装置2与侵蚀液5的液面之间的距离，使承载装置2带动显示面板4向远离侵蚀液5的方向运动(即竖直向上运动)，使显示面板4返回初始位置。打开第一阀门101和第二阀门102，在存储仓7的泵压作用下，让侵蚀液5匀速从存储仓7经由液体仓3流动至回收仓8，侵蚀液5的液面始终与显示面板4保持平行(即处于水平状态)。
如图4f所示，左侧的第一角度调节装置6做伸长运动，右侧的第一角度调节装置6做收缩运动，液体仓3倾斜2°，相应的，侵蚀液5的液面也倾斜2°。
如图4g所示，高度调节装置1调节承载装置2与侵蚀液5的液面之间的距离，使承载装置2带动显示面板4向侵蚀液5的方向运动(即竖直向下运动)，直至侵蚀液5浸没第一基板41的第一表面0.1mm，此时第一基板41露出侵蚀液5的液面以上部分的厚度为0.35mm。静置90分钟后，第二减薄阶段的第一时段结束，第一基板41被侵蚀掉0.1mm，第一基板41的厚度为0.35mm。
如图4h所示，高度调节装置1调节承载装置2与侵蚀液5的液面之间的距离，使承载装置2带动显示面板4向远离侵蚀液5的方向运动(即竖直向上运动)，使显示面板4返回初始位置。第二角度调节装置9控制显示面板4在显示面板4所在平面内旋转180°。
如图4i所示，高度调节装置1调节承载装置2与侵蚀液5的液面之间的距离，使承载装置2带动显示面板4向侵蚀液5的方向运动(即竖直向下运动)，直至侵蚀液5浸没第一基板41的第一表面0.1mm，此时第一基板41露出侵蚀液5的液面以上部分的厚度为0.25mm。静置90分钟后，第二减薄阶段的第二时段结束，第一基板41被侵蚀掉0.1mm，第一基板41的厚度为0.25mm。
需要说明的是，第二减薄阶段的第二时段结束后，高度调节装置1调节承载装置2与侵蚀液5的液面之间的距离，使承载装置2带动显示面板4向远离侵蚀液5的方向运动(即竖直向上运动)，使显示面板4返回初始位置，至此，步骤12完成。
步骤12完成之后，第一基板41的第一表面完成快速减薄过程。
步骤13，在第三减薄阶段，利用侵蚀液5侵蚀第一基板41的第一表面，以减薄第三厚度。其中，第二减薄阶段的侵蚀速率大于第一减薄阶段和第三减薄阶段的侵蚀速率。
具体的，将第一基板41的第一表面浸没侵蚀液5第三厚度，并静置第二时长。其中，第二时长为45-90分钟，优选为60分钟，第三厚度为0.05mm。
如图4j所示，关闭第一阀门101和第二阀门102，且第一角度调节装置6复位，让液体仓3保存水平状态，从而使侵蚀液5的液面保持水平。高度调节装置1调节承载装置2与侵蚀液5的液面之间的距离，使承载装置2带动显示面板4向侵蚀液5的方向运动(即竖直向下运动)，直至侵蚀液5浸没第一基板41的第一表面0.05mm，此时第一基板41露出侵蚀液5的液面以上部分的厚度为0.2mm。静置60分钟后，第三减薄阶段结束，第一基板41被侵蚀掉0.05mm，第一基板41的厚度为0.2mm。
如图4k所示，高度调节装置1调节承载装置2与侵蚀液5的液面之间的距离，使承载装置2带动显示面板4向远离侵蚀液5的方向运动(即竖直向上运动)，使显示面板4返回初始位置。打开第二阀门102，使液体仓3内的侵蚀液5流入回收仓8内。
如图4l所示，顶盖31上升，与仓体32分离。
如图4m所示，顶盖31翻转180°，让显示面板4朝上，送至清洗槽内完成最终清洗、烘干。
通过步骤11-13可以看出，本发明提供的减薄方法，通过使显示面板4的第一基板41分阶段与侵蚀液5接触，逐步减薄第一基板41，其中，在第一减薄阶段实现初步减薄，在第二减薄阶段通过调节液体仓3内侵蚀液5的浓度和流速实现快速减薄，在第三减薄阶段实现微减薄，这样第一基板41的上缺陷不会过早被侵蚀液5完全侵蚀，从而避免缺陷放大，相应的，无需额外进行抛光工序即可消除显示面板4表面的凹点、划伤等不良，简化显示面板4减薄工序，而且能够避免抛光工序产生的碎屑问题，从而增加产品良率，提高显示效果。
进一步的，所述减薄方法还包括减薄第二基板42的步骤，所述减薄第二基板42的步骤包括：
步骤21，在第四减薄阶段，利用侵蚀液5侵蚀第二基板42的第二表面，以减薄第一厚度。
步骤22，在第五减薄阶段，利用侵蚀液5侵蚀第二基板42的第二表面，以减薄第二厚度。
步骤23，在第六减薄阶段，利用侵蚀液5侵蚀第二基板42的第二表面，以减薄第三厚度，其中，第五减薄阶段的侵蚀速率大于第四阶段和第六阶段的侵蚀速率。
减薄第二基板42的步骤与减薄第一基板41的步骤相同，在此不再赘述。
通过步骤21-23，第二基板42减薄后的厚度为0.2mm，整个显示面板4的厚度为0.4mm。
需要说明的是，减薄第一基板41的步骤和减薄第二基板42的步骤的执行顺序不限。
本发明提供的减薄装置及减薄方法，通过显示面板4渐入式接触侵蚀液5，避免显示面板4的缺陷处过早接触侵蚀液5，让显示面板4的表面初步平坦化。再通过调整液体仓3的倾斜角度及泵压改变侵蚀液5的流速，加剧显示面板4表面与侵蚀液5的化学反应，实现快速减薄。然后使侵蚀液5的液面与显示面板4保持平行，再进行深度侵蚀，从而达到让显示面板4整体平坦化的目的。此减薄方式稳定高效的同时也能省去抛光工序，在提升显示面板外观品质的同时节约成本。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。
Claims (9)
1.一种减薄装置，其特征在于，包括：高度调节装置、刻蚀速率调节单元、用于固定显示面板的承载装置和用于盛放侵蚀液的液体仓，所述承载装置位于所述液体仓内，并通过所述高度调节装置与所述液体仓的顶盖连接；
所述高度调节装置用于，调节所述承载装置与所述侵蚀液的液面之间的距离，用以在第一减薄阶段使所述显示面板的第一基板部分浸没于所述侵蚀液，以被减薄第一厚度，以及，用以在第二减薄阶段使所述显示面板的第一基板部分浸没于所述侵蚀液，以被减薄第二厚度，以及，用以在第三减薄阶段使所述显示面板的第一基板部分浸没于所述侵蚀液，以被减薄第三厚度；
所述刻蚀速率调节单元与所述液体仓相连，用于调节所述液体仓内所述侵蚀液的浓度和流速，以使第二减薄阶段的侵蚀速率大于第一减薄阶段和第三减薄阶段的侵蚀速率；
其中，所述刻蚀速率调节单元包括第一角度调节装置、用于存储所述侵蚀液的存储仓和用于回收所述侵蚀液的回收仓，所述存储仓和所述回收仓分别与所述液体仓的两端密封连接，所述存储仓与所述液体仓之间设置有第一阀门，所述回收仓与所述液体仓之间设置有第二阀门；所述第一角度调节装置用于，在第一减薄阶段和第三减薄阶段控制所述液体仓处于水平状态，以及，在第二减薄阶段控制所述液体仓倾斜第一角度；在第二减薄阶段，所述第一阀门和所述第二阀门开启，所述存储仓和所述回收仓与所述液体仓连通，且所述液体仓朝向所述回收仓倾斜第一角度。
2.如权利要求1所述的减薄装置，其特征在于，还包括第二角度调节装置，所述承载装置还通过所述第二角度调节装置与所述液体仓的顶盖连接；
所述第二角度调节装置用于，在第二减薄阶段的第一时段控制所述承载装置倾斜所述第一角度，以使所述显示面板与所述侵蚀液的液面平行；以及，在第一时段结束后、第二时段开始前，控制所述承载装置在其所在平面内旋转第二角度，以使所述显示面板的第一基板在第二减薄阶段的第二时段以旋转后的形态部分浸没于所述侵蚀液；
所述高度调节装置具体用于，在第二减薄阶段的第一时段使所述显示面板的第一基板浸没所述侵蚀液第四厚度，并在第二减薄阶段的第二时段使所述显示面板的第一基板浸没所述侵蚀液第五厚度，所述第四厚度与所述第五厚度之和等于所述第二厚度。
3.如权利要求2所述的减薄装置，其特征在于，所述第二角度为180度。
4.一种减薄方法，所述方法应用于如权利要求1-3任一项所述的减薄装置，用于减薄显示面板，所述显示面板为第一基板和第二基板已对盒完成的显示面板，所述方法包括减薄所述第一基板的步骤，其特征在于，所述减薄所述第一基板包括：
在第一减薄阶段，利用侵蚀液侵蚀所述第一基板的第一表面，以减薄第一厚度；
在第二减薄阶段，利用侵蚀液侵蚀所述第一基板的第一表面，以减薄第二厚度；
在第三减薄阶段，利用侵蚀液侵蚀所述第一基板的第一表面，以减薄第三厚度；
其中，第二减薄阶段的侵蚀速率大于第一减薄阶段和第三减薄阶段的侵蚀速率。
5.如权利要求4所述的减薄方法，其特征在于，所述利用侵蚀液侵蚀所述第一基板的第一表面，以减薄第一厚度，具体包括：将所述第一基板的第一表面浸没所述侵蚀液第一厚度，并静置第一时长；和/或，
所述利用侵蚀液侵蚀所述第一基板的第一表面，以减薄第三厚度，具体包括：将所述第一基板的第一表面浸没所述侵蚀液第三厚度，并静置第二时长。
6.如权利要求5所述的减薄方法，其特征在于，所述第一时长与所述第二时长相等；所述第一厚度与所述第三厚度相等。
7.如权利要求6所述的减薄方法，其特征在于，所述在第二减薄阶段，利用侵蚀液侵蚀所述第一基板的第一表面，以减薄第二厚度，具体包括：
在第二减薄阶段的第一时段，控制所述侵蚀液的液面倾斜第一角度，控制所述显示面板倾斜第一角度，并将所述第一基板的第一表面浸没所述侵蚀液第四厚度；
在第一时段结束后、第二时段开始前，控制所述显示面板在所述显示面板所在平面内旋转第二角度；
在第二减薄阶段的第二时段，将所述第一基板的第一表面浸没所述侵蚀液第五厚度；其中，所述第四厚度与所述第五厚度之和等于所述第二厚度。
8.如权利要求7所述的减薄方法，其特征在于，所述第四厚度与所述第五厚度相等；所述第一时段的时长和所述第二时段的时长相等。
9.如权利要求4-8任一项所述的减薄方法，其特征在于，还包括减薄所述第二基板的步骤，所述减薄所述第二基板包括：
在第四减薄阶段，利用侵蚀液侵蚀所述第二基板的第二表面，以减薄第一厚度；
在第五减薄阶段，利用侵蚀液侵蚀所述第二基板的第二表面，以减薄第二厚度；
在第六减薄阶段，利用侵蚀液侵蚀所述第二基板的第二表面，以减薄第三厚度；
其中，第五减薄阶段的侵蚀速率大于第四阶段和第六阶段的侵蚀速率。
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Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4555302A (en) * | 1984-08-24 | 1985-11-26 | Urbanik John C | Method and apparatus for ultrasonic etching of printing plates |
| KR20120023919A (ko) * | 2010-09-03 | 2012-03-14 | 아프로시스템 주식회사 | 에칭공법에 의한 글라스 커팅방법 및 그 장치 |
| US9640566B2 (en) * | 2012-11-01 | 2017-05-02 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film transistor array panel and manufacturing method thereof |
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Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20060077334A (ko) * | 2004-12-30 | 2006-07-05 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시장치용 식각장치 |
| CN101051603A (zh) * | 2006-04-07 | 2007-10-10 | 悦城科技股份有限公司 | 面板蚀刻制程的方法及其装置 |
| KR20080070449A (ko) * | 2007-01-26 | 2008-07-30 | 삼성전자주식회사 | 습식 식각 장치 및 이를 이용한 식각 방법 |
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| KR100889949B1 (ko) * | 2008-04-10 | 2009-03-20 | 주식회사 엠엠테크 | 하향식 기판 박형화장치 및 이를 이용한 박형화 시스템 |
| CN202558772U (zh) * | 2012-05-14 | 2012-11-28 | 深圳市拓捷科技发展有限公司 | 一种玻璃薄化设备 |
| CN103043913B (zh) * | 2013-01-21 | 2015-10-21 | 汕头市拓捷科技有限公司 | 一种使用可控流体场的玻璃蚀刻设备 |
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Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4555302A (en) * | 1984-08-24 | 1985-11-26 | Urbanik John C | Method and apparatus for ultrasonic etching of printing plates |
| KR20120023919A (ko) * | 2010-09-03 | 2012-03-14 | 아프로시스템 주식회사 | 에칭공법에 의한 글라스 커팅방법 및 그 장치 |
| US9640566B2 (en) * | 2012-11-01 | 2017-05-02 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film transistor array panel and manufacturing method thereof |
| CN106873219A (zh) * | 2017-02-28 | 2017-06-20 | 京东方科技集团股份有限公司 | 基板减薄方法及显示面板减薄方法 |
| CN106816096A (zh) * | 2017-04-14 | 2017-06-09 | 京东方科技集团股份有限公司 | 基板的减薄方法以及显示面板的减薄方法 |
| CN107640907A (zh) * | 2017-10-27 | 2018-01-30 | 惠州市清洋实业有限公司 | 一种玻璃减薄的预处理方法 |
Non-Patent Citations (3)
| Title |
|---|
| TFT-LCD面板化学刻蚀薄化研究及产品可靠性分析;姜明俊，尚进，李荣玉;《现代显示》;20090605(第5期);第35-38页 * |
| 平板显示玻璃化学减薄工艺及不良案例分析;李青，王俊峰;《玻璃与搪瓷》;20171231;第45卷(第6期);第16-19页 * |
| 玻璃减薄技术分析;顾丽琴，吕文卿，薛于平;《中国玻璃》;20151231(第2期);第16-18页 * |
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