KR20180110850A - 배치식 기판 처리 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 배치식 기판 처리 장치에 있어서 다수의 기판을 수용하는 카세트를 탑재하고 약액이 담긴 배스에 출입하는 리프트를 기울여 경사면을 따라 배수가 용이하게 이루어지도록 하고 산화막 등의 공정불량의 발생을 방지하는 것을 목적으로 한다.
이를 구현하기 위해 본 발명은, 약액을 수용하는 배스; 상기 배스를 출입하도록 승강하는 리프트; 상기 리프트의 일측에 회전 가능하게 연결되며 복수 매의 기판이 탑재된 카세트를 지지하고 상기 리프트와 함께 승강하여 상기 배스를 출입하는 회전판; 및 상기 리프트와 상기 회전판을 연결하며 상기 회전판의 회전 중심이 되는 회전축을 포함한다.

Description

배치식 기판 처리 장치{BATCH TYPE APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE}
본 발명은 배치식 기판 처리 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 배치식 세정공정에서 다수의 기판을 수용하는 카세트를 탑재하고 약액이 담긴 배스에 출입하는 리프트의 한쪽을 기울여 와류로 인한 오버플로우를 방지할 뿐 아니라 경사면을 따라 배수가 원활히 이루어지도록 하여 공정의 효율을 높일 수 있는 배치식 기판 처리 장치에 대한 것이다.
일반적으로 석유나 석탄과 같은 화석 에너지 자원의 고갈이 예측되고, 환경오염이 대두되면서 이를 대체할 수 있는 대체 에너지에 대한 관심이 높아지고 있으며, 그 중에서도 태양 에너지 자원은 무한히 이용할 수 있고, 환경오염에 대한 문제가 없으므로, 많은 연구가 진행되고 있다.
이러한 태양 에너지를 이용하여 발전하는 방법에는 태양빛을 열로 받아들여 발전하는 태양열 발전과, 반도체의 성질을 이용하여 태양광(photons) 에너지를 전기로 변환하는 태양광 발전으로 구분할 수 있으며, 보통 태양전지(solar cells)라고 하면 태양광 전지를 의미한다.
태양전지의 종류는 크게 실리콘 반도체를 재료로 사용하는 것과 화합물 반도체를 재료로 사용하는 것으로 구분된다. 태양전지의 기술 개발에 관해서는 변환효율의 향상이나 가격조정 등이 중요한 과제이며, 실리콘 및 화합물 반도체 태양전지 또한 변환효율을 높이고, 가격을 낮출 수 있는 박막 태양전지의 개발에 집중하고 있다.
실리콘 반도체를 재료로 사용하는 태양전지의 경우, 솔라 웨이퍼(solar wafer)를 기반으로 세정, 증착, 식각 등의 여러 단위공정으로 구성되어 있다. 그 중 세정공정은 수많은 단위공정 사이사이에 수없이 이루어지며 그 중요성이 날로 증대되고 있는데, 완성품의 성능과 가치는 잔류하는 불순물이나 표면 얼룩 등에 큰 영향을 받기 때문이다.
세정공정은 다시 습식(Wet type) 세정공정과 건식(Dry type) 세정공정으로 나누어 볼 수 있다. 최근에는 보통 화학약품을 이용한 습식 세정공정을 주로 수행하고, 건식 세정공정은 습식 세정공정과 병용하여 오염의 물리적, 기계적 제거에 이용하고 있다.
일반적으로 반도체 웨이퍼의 습식 세정 장치는 배치식(Batch type)과 매엽식(Single type)으로 구분된다. 배치식 세정 장치는 화학용액이 채워진 세정조(Bath) 내에 복수의 기판을 침지하여 처리하는 방법으로, 세정 효율이 낮은 대신 생산 효율이 높다는 특징이 있다. 이에 반해, 매엽식 세정 장치는 한 장의 기판을 회전시키면서 세정액을 분사하여 처리하는 방법으로, 생산 효율이 낮은 대신 세정 효율이 높다는 특징이 있다.
배치식 방법을 통한 종래의 기판 처리 장치는, 도 1 내지 도3에 나타난 바와 같이, 세정액을 수용하는 배스(200)와, 상기 배스(200)에 출입하는 리프트(300), 상기 리프트(300)를 구동시키는 구동부(미도시)를 포함한다.
상기 기판 처리 장치를 통한 기판 처리 방법은 상기 리프트(300)의 승강에 의해 이루어진다. 도 1에 나타난 바와 같이, 상기 리프트(300)가 복수의 기판이 탑재된 카세트(100)를 지지하고 하강한다. 도 2에 나타난 바와 같이, 상기 카세트(100)가 상기 배스(200) 내부의 상기 세정액에 완전히 잠기도록 하여 세정을 실시하고, 상기 리프트(300)를 다시 상승시킨다.
그런데 상기 리프트(300)의 승강은 상기 리프트(300)의 넓고 평평한 바닥면이 수평을 이루는 상태에서 진행되므로 다음과 같은 문제점이 있었다.
수평방향 성분만을 가지고 있는 평평한 바닥면은, 도 3에 나타난 바와 같이, 세정액이 담긴 상기 배스(200) 내부에서 상하로 움직일 때 거센 저항을 받는다. 거센 저항은 거센 흐름을 발생시키고, 거센 흐름은 와류와 오버플로우를 발생시켜 약액이 낭비되었다.
또한, 상기 세정 공정을 마친 상기 리프트(300)와 상기 카세트(100)에는 배수되지 못한 물기가 많이 남아있어 산화막 등의 공정불량이 발생할 수 있었다.
또한, 상기 리프트(300)에 지속적으로 가해지는 유압으로 인해 상기 리프트(300)가 뒤틀어지거나, 상기 리프트(300)가 승강하며 상기 배스(200) 내벽에 부딪혀 밀리거나 떨리는 경우가 발생하기도 하였다.
상기한 종래의 배치식 기판 처리 장치가 나타난 기술로는 대한민국 등록특허 제10-1541865호가 공개되어 있다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 배치식 기판 처리 장치에 있어서 다수의 기판을 수용하는 카세트를 탑재하고 약액이 담긴 배스에 출입하는 리프트를 기울여 경사면을 따라 배수가 용이하게 이루어지도록 하고 산화막 등의 공정불량의 발생을 방지하는 것을 목적으로 한다.
또한, 배스에 출입하는 리프트를 기울여 배스 내부의 약액으로부터 압력을 받는 면적을 줄이고 배스 내부의 와류 발생을 방지하여 약액의 오버플로우로 인한 경제적인 손실을 방지하는 것을 목적으로 한다.
또한, 리프트의 가장자리에 롤러를 설치하여 리프트와 배스 내벽 사이의 마찰을 줄이고 미세조정볼트로 롤러의 위치를 조절하여 배스 내부에 리프트가 딱 맞게 들어가도록 함으로써 리프트를 안정적으로 승강시키는 것을 목적으로 한다.
상술한 바와 같은 목적을 구현하기 위해 본 발명의 배치식 기판 처리 장치는, 약액을 수용하는 배스; 상기 배스를 출입하도록 승강하는 리프트; 상기 리프트의 일측에 회전 가능하게 연결되며 복수 매의 기판이 탑재된 카세트를 지지하고 상기 리프트와 함께 승강하여 상기 배스를 출입하는 회전판; 및 상기 리프트와 상기 회전판을 연결하며 상기 회전판의 회전 중심이 되는 회전축을 포함한다.
상기 회전판과 수평면이 이루는 경사를 일정하게 고정하는 경사고정부를 더 포함하여 구성될 수 있다.
상기 회전판의 양측에는 가이드가 구비되고, 상기 경사고정부는, 상기 리프트의 양측 상단에 설치되는 각도스토퍼이고, 상기 회전판이 회전하면 상기 가이드의 끝단이 상기 각도스토퍼의 하단에 닿아 상기 회전판의 기울기의 최대치가 정해지도록 구성될 수 있다.
상기 회전판의 끝단이 상기 배스 바닥에 떨어져 공정사고가 발생하는 것을 방지하는 추락방지부를 더 포함하여 구성될 수 있다.
상기 추락방지부는 상기 배스 내부에 설치되는 하부스토퍼이고, 상기 리프트가 하강하여 상기 회전판의 끝단이 상기 하부스토퍼의 상단에 닿으면 상기 하부스토퍼에 높이에 맞추어 상기 리프트를 더 하강시켜 상기 회전판이 수평을 이루고 상기 카세트가 상기 배스 내부의 상기 약액에 완전히 잠기도록 할 수 있다.
상기 카세트가 상기 회전판으로 로딩 또는 상기 회전판으로부터 언로딩되는 과정에서 상기 회전판이 수평을 유지하도록 하는 수평유지부를 더 포함하여 구성될 수 있다.
상기 회전판의 양측에는 가이드가 구비되되, 상기 가이드는 상기 회전판의 끝단에서 시작하여 상기 회전축의 상측을 지나 상기 리프트의 수직축에 이르도록 구비되고, 상기 수평유지부는 배스에 설치되는 상부스토퍼로서, 상기 가이드의 상측이며 상기 회전축을 기준으로 상기 회전판의 끝단의 반대방향에 위치하고, 상기 리프트가 상승할 때 상기 가이드의 상단이 상기 상부스토퍼의 하단에 눌려 시소의 원리로 상기 회전판의 수평이 유지되는 것으로 구성될 수 있다.
상기 리프트의 가장자리에 롤러를 구비하고, 상기 롤러의 위치를 조정하는 미세조정볼트를 더 구비하여, 상기 리프트와 상기 배스 사이의 마찰을 최소화할 수 있다.
상기 회전판의 가장자리에 롤러를 구비하고, 상기 롤러의 위치를 조정하는 미세조정볼트를 더 구비하여, 상기 회전판과 상기 배스 사이의 마찰을 최소화할 수 있다.
상기 회전판의 상단에 위치하며 상기 카세트의 양끝단을 상기 회전판에 고정하는 카세트 고정장치를 더 포함하여 구성될 수 있다.
상기 회전판은 수평면을 기준으로 0°에서 -30°사이의 각도에서 회전이 가능하도록 구성될 수 있다.
본 발명에 따른 배치식 기판 처리 장치에 의하면, 다수의 기판을 수용하는 카세트를 탑재하고 약액이 담긴 배스에 출입하는 리프트를 기울여 경사면을 따라 배수가 용이하게 이루어지도록 하여 산화막 등의 공정불량의 발생을 방지할 수 있다.
또한, 배스에 출입하는 리프트를 기울여 배스 내부의 약액으로부터 압력을 받는 면적을 줄이고 배스 내부의 와류 발생을 방지하여 약액의 오버플로우로 인한 경제적인 손실을 방지할 수 있다.
또한, 리프트의 가장자리에 롤러를 설치하여 리프트와 배스 내벽 사이의 마찰을 줄이고 미세조정볼트로 롤러의 위치를 조절하여 배스 내부에 리프트가 딱 맞게 들어가도록 함으로써 리프트를 안정적으로 승강시킬 수 있다.
도 1은 종래 배치식 기판 처리 장치의 리프트가 하강한 상태를 보여주는 사시도이다.
도 2는 종래 배치식 기판 처리 장치의 리프트가 상승한 상태를 보여주는 사시도.
도 3은 종래 배치식 기판 처리 장치에서 와류 및 오버플로우 발생을 보여주는 단면도.
도 4는 본 발명에 의한 배치식 기판 처리 장치에서 카세트가 로딩되는 동안 회전판이 수평을 유지한 상태의 모습을 보여주는 정단면도.
도 5와 도 6은 본 발명에 의한 배치식 기판 처리 장치에서 회전판이 기울어져 하강하는 동작을 보여주는 정단면도.
도 7은 본 발명에 의한 배치식 기판 처리 장치에서 카세트가 약액에 완전히 잠겨 세정이 이루어지도록 회전판이 수평을 유지한 상태의 모습을 보여주는 정단면도.
도 8은 본 발명에 의한 배치식 기판 처리 장치의 측단면도.
도 9는 본 발명에 의한 배치식 기판 처리 장치의 평면도.
도 10은 본 발명에 의하여 배치식 기판 처리 장치에 장착되는 롤러와 미세조정볼트를 보여주는 도면.
도 11은 본 발명에 의한 배치식 기판 처리 장치의 동작 순서도.
이하 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대한 구성 및 작용을 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 4 내지 도 10을 참조하여 본 발명에 의한 배치식 기판 처리 장치에 대해 설명한다.
본 발명의 일실시예에 의한 배치식 기판 처리 장치는, 약액을 수용하는 배스(20)와, 상기 배스(20)를 출입하도록 승강하는 리프트(30), 상기 리프트(30)의 일측에 회전 가능하게 연결되며 복수 매의 기판(W)이 탑재된 카세트(10)를 지지하고 상기 리프트(30)와 함께 승강하여 상기 배스(20)를 출입하는 회전판(32), 상기 리프트(30)와 상기 회전판(32)을 연결하며 상기 회전판(32)의 회전 중심이 되는 회전축(31)을 포함한다.
상기 기판은 반도체 기판이 되는 실리콘 웨이퍼일 수 있다. 그러나 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 상기 기판은 LCD(liquid crystal display), PDP(plasma display panel)와 같은 평판 디스플레이 장치용으로 사용하는 유리 등의 투명 기판일 수 있다. 또한, 상기 기판은 형상 및 크기가 도면에 의해 한정되는 것은 아니며, 원형 및 사각형 플레이트 등 실질적으로 다양한 형상과 크기를 가질 수 있다.
상기 카세트(10)는 복수 매의 기판(W)을 수용할 수 있는 케이스로, 상기 기판의 제조 공정 중 기판의 세정, 적재, 보관, 이송 등에 사용되며, 용도와 기능 및 규격 등에 따라 다양한 종류의 제품이 시판되고 있다.
기판에서 세정 대상물을 제거하기 위한 액체 상태의 물질을 세정액이라 하며, 처리 대상의 종류에 따라 복수의 세정액이 사용될 수 있다. 예를 들면, 레지스트를 제거하기 위해서는 유기용제가 사용될 수 있다. 또한, 실리카(SiO)를 제거하기 위해서는 초순수(DI), 이소프로필 알코올(IPA) 등이 사용될 수 있다. 또한, 금속을 제거하기 위해서는 염산(HCl)이 사용될 수 있다. 이외에도 제거할 파티클의 종류에 따라 여러 세정액이 사용될 수 있다. 이러한 세정액을 통틀어‘약액’이라 한다.
상기 배스(Bath,20)는, 약액을 수용하며 상기 카세트(10)를 출입시켜 기판를 세정하기 위한 용기이다. 상기 배스(20)에 채워지는 약액은 필요에 의해 교체될 수 있으며, 이를 위해 상기 배스(20)에 약액유입구(미도시)와 약액배출구(미도시)가 구비될 수 있다. 또한, 상기 약액의 출입을 제어하기 위한 밸브(미도시)가 더 구비될 수 있다.
상기 리프트(30)는, 구동부(미도시)를 포함하며, 상기 배스(20)의 상측으로부터 승강운동하여 상기 배스(20)를 출입한다.
상기 회전판(32)은, 도 4 내지 도 7에 나타난 바와 같이, 상기 회전축(31)을 중심으로 회전하여 기울어진 상태로 상기 리프트(30)의 승강운동에 연동하여 승강된다.
상기 회전판(32)이 기울어지면 종래 기술의 평평한 판에 비해 수평방향의 면적이 좁아지므로, 약액이 담겨있는 상기 배스(20) 내부에서 상하로 움직일 때 받는 유압이 작아져 거센 저항 없는 부드러운 공정 진행이 가능하다. 이로 통해 거센 흐름으로 인한 와류현상과 오버플로우를 방지하여 낭비되는 약액을 줄이고 경제적인 효과를 얻을 수 있다.
또한, 상기 회전판(32)이 상기 배스(20) 내부로부터 상기 배스(20) 외부로 상승할 때 상기 회전판(32) 및 상기 회전판(32)에 탑재된 상기 카세트(10)에 남은 물기가 상기 회전판(32)의 경사를 따라 흘러내려 빠른 건조 효과를 볼 수 있다. 즉, 상기 기판에 잔류하는 물기로 인한 산화막 등의 공정 불량을 방지할 수 있다.
또한, 상기 매엽식 기판 처리 장치에는, 롤러(50)와 상기 롤러(50)의 위치를 조정하는 미세조정볼트(51)가 장착될 수 있다.
상기 롤러(50)는, 도 9에 나타난 바와 같이, 상기 회전판(32) 및 상기 리프트(30)(도 9에 나타난 복수 개의 카세트(10)의 아래쪽 범위)의 가장자리에 한 개 이상 설치되어 상기 배스(20)와 상기 회전판(32) 및 상기 리프트(30) 사이에 마찰을 최소화하는 역할을 한다.
또한, 상기 미세조정볼트(51)를 통해 상기 롤러(50)의 위치를 조정하면 상기 회전판(32)이 수평을 이룰 때(도 4와 도 7 참조) 상기 롤러(50)가 상기 배스(20)와 상기 회전판(32) 및 상기 리프트(30) 사이 간격을 지지하여 흔들림 없이 안정적인 공정 진행을 할 수 있다.
상기 미세조정 볼트(51)는, 도 10에 나타난 바와 같이, 끝단이 상기 롤러(50)가 고정설치된 박스의 볼트홀에 끼워져, 상기 미세조정볼트(51)를 회전시키면 상기 박스의 위치가 가변되어 상기 롤러(50)의 위치를 조정할 수 있도록 구비될 수 있다.
또한, 상기 매엽식 기판 처리 장치는, 상기 회전판(32) 상단에 위치하며 상기 카세트(10)의 양끝단을 상기 회전판(32)에 고정하는 카세트 고정부(미도시)를 포함하여, 기울어지는 상기 회전판(32)에서 상기 카세트(10)가 떨어지지 않도록 할 수 있다.
도 11을 참조하여 본 발명의 매엽식 기판 처리 장치의 구동을 설명하며 구동에 필요한 세 종류의 고정부를 함께 설명한다.
상기 매엽식 기판 처리 장치에는, 상기 회전판(32)의 경사를 일정하게 고정하는 경사고정부가 포함될 수 있다. 상기 경사고정부는 상기 리프트(30)의 상단에 설치되는 각도스토퍼(41)일 수 있다.
또한, 상기 회전판(32)의 끝단이 상기 배스(20) 바닥에 떨어져 공정사고가 발생하는 것을 방지하는 추락방지부가 포함될 수 있다. 상기추락방지부는 상기 배스(20)의 하단에 설치되는 하부스토퍼(42)일 수 있다.
또한, 상기 배스(20)의 상측에서 상기 카세트(10)가 로딩 또는 언로딩될 때 상기 회전판(32)이 수평을 이루도록 고정하는 수평유지부가 포함될 수 있다. 상기 수평유지부는 상기 배스(20)의 상측에 설치되는 상부스토퍼(43)일 수 있다.
또한, 상기 각도스토퍼(41)와 상부스토퍼(43)를 이용하기 위한 구성으로 상기 회전판(32)의 양측 가장자리에 가이드(33)가 설치될 수 있다. 상기 가이드(33)는 상기 회전판(32)의 양측 끝단에서 시작하여 상기 회전축(31)의 상측을 지나 상기 리프트(30)의 수직축에 이르는 팔걸이 형태로 구비될 수 있다.(도 4 참조)
단계 S10은, 상기 카세트(10)가 로딩되어 상기 회전판(32)에 안착되는 동안 상기 리프트(30)와 상기 회전판(32)이 상기 배스(20)의 상측에서 수평을 이루는 형태로 위치하는 단계이다.
도 4를 참조하면, 상기 단계 S10이 이루어지는 동안 상기 회전판(32)이 기울어지지 않고 수평을 이루도록 고정하는 것은 상기 상부스토퍼(43)이다. 상기 회전축(31)을 중심으로 상기 회전판(32)의 끝단의 반대측단이 상기 가이드(33)에 의해 아래방향으로 눌리면 시소의 원리에 의해 상기 회전판(32)이 상기 회전축(41)을 기준으로 회전하여 상기 회전판(32)의 끝단이 들어올려진다. 이를 이용하면 상기 회전판(32)이 기울어진 상태에서 배스(20) 내부로부터 상승하여 상기 가이드(33)가 상기 상부스토퍼(43)에 접촉되면 상기 회전판(32)의 끝단이 들어올려져 수평상태를 이루도록 고정할 수 있다. 상기 상부스토퍼(43)는 시소의 원리를 적용하기 위해 상기 회전축(31)을 중심으로 상기 회전판(32)의 끝단의 반대측에 위치하며, 상기 리프트(30)와 상기 회전판(32)의 승강운동에 영향을 받지 않도록 상기 배스(20)에 고정 설치된다.
또한 상기 상부스토퍼(43)는 상기 가이드(33)를 포함한 상기 회전판(32)의 상승 한계점의 역할도 한다. 도 8을 참조하면, 상기 상부스토퍼(43)를 기준으로 상기 가이드(33)를 포함한 상기 회전판(32)의 상승 한계가 정해지는 것을 볼 수 있다.
단계 S20은, 상기 리프트(30)가 하강하며 상기 회전판(32)이 상기 상부스토퍼(43)의 영향을 벗어나 기울어지는 단계이다.
도 5에 나타난 바와 같이, 상기 단계 S20이 이루어지는 동안 중력에 의해 상기 회전판(32)이 점점 기울어지다가 각도스토퍼(41)에 의해 고정된다. 상기 각도스토퍼(41)는, 상기 리프트(30)의 양측 끝단에 설치되며, 상기 가이드(33)의 양측 끝단이 더 상승하지 못하도록 고정한다. 상기 가이드(33)의 끝단이 상승하지 못하면 상기 회전판(32)과 지면이 이루는 각도도 더 커지지 못한다. 상기 배스(20)의 하단에는 가열장치 등이 배치될 수 있는데, 상기 각도스토퍼(41)를 이용하여 상기 회전판(32)이 필요 이상으로 가파르게 기울어져 상기 회전판(32)의 끝단이 상기 배스(20) 하단에 부딪히는 공정 사고가 발생하는 것을 방지할 수 있다.
단계 S30은, 상기 리프트(30)가 더욱 하강하여 상기 회전판(42)이 상기 배스(20)의 내부에서 수평을 이루고 상기 회전판(32)에 탑재된 상기 카세트(10)가 상기 배스(20) 내부에 수용된 약액에 완전히 잠기도록 하는 단계이다.
도 6에 나타난 바와 같이, 하강하던 상기 회전판(32)의 끝단은 상기 배스(20) 하부에서 상기 하부스토퍼(42)와 만난다. 상기 하부스토퍼(42)는 상기 단계 S20에서 설명한 바와 같은 공정사고를 방지하기 위해 상기 배스(20)의 하단에서 상측으로 약간 떨어진 위치에 설치될 수 있다.
다음은 도 7에 나타난 바와 같이, 상기 하부스토퍼(42)로 인한 상기 회전판(32)의 끝단의 위치에 맞추어 상기 리프트(30)를 하강시키면 상기 회전판(32)이 수평을 이루고 상기 카세트(10)가 상기 약액에 완전히 잠기게 된다. 즉, 상기 하부스토퍼(42)는 상기 회전판(32)과 상기 리프트(30)의 하강 한계점의 역할을 한다.
단계 S40은, 상기 리프트(30)를 상승시키는 단계이다. 단계 S20에서와 마찬가지로 중력에 의해 상기 회전판(32)과 지면이 이루는 각도가 점점 커지다가 각도스토퍼(41)에 의해 고정된다.
단계 S50은, 상기 리프트(30)가 상승하여 상기 배스(20)의 상측에서 상기 회전판(32)이 수평을 이루는 단계이다. 상기 회전판(32)이 수평을 유지하는 동안 상기 카세트(10)가 상기 회전판(32)으로부터 언로딩된다. 상기 회전판(32)을 수평으로 유지시키는 장치는 단계 S10에서 설명한 바와 같이 상부스토퍼(43)이다.
전술한 바와 같이 본 발명에 대하여 바람직한 실시예를 들어 상세히 설명하였지만, 본 발명은 전술한 실시예들에 한정되는 것이 아니고, 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명에 속한다.
100 : 카세트 200 : 배스
300 : 리프트 10 : 카세트
20 : 배스 30 : 리프트
31 : 회전축 32 : 회전판
33 : 가이드 41 : 각도스토퍼
42 : 하부스토퍼 43 : 상부스토퍼
50 : 롤러 51 : 미세조정볼트
W : 기판

Claims (11)

  1. 약액을 수용하는 배스;
    상기 배스를 출입하도록 승강하는 리프트;
    상기 리프트의 일측에 회전 가능하게 연결되며 복수 매의 기판이 탑재된 카세트를 지지하고 상기 리프트와 함께 승강하여 상기 배스를 출입하는 회전판; 및
    상기 리프트와 상기 회전판을 연결하며 상기 회전판의 회전 중심이 되는 회전축;
    을 포함하는 배치식 기판 처리 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 회전판과 수평면이 이루는 경사를 일정하게 고정하는 경사고정부;
    를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 배치식 기판 처리 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 회전판의 양측에는 가이드가 구비되고;
    상기 경사고정부는, 상기 리프트의 양측 상단에 설치되는 각도스토퍼이고;
    상기 회전판이 회전하면 상기 가이드의 끝단이 상기 각도스토퍼의 하단에 닿아 상기 회전판의 기울기의 최대치가 정해지는 것;
    을 특징으로 하는 배치식 기판 처리 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 회전판의 끝단이 상기 배스 바닥에 떨어져 공정사고가 발생하는 것을 방지하는 추락방지부;
    를 더 포함하는 배치식 기판 처리 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 추락방지부는 상기 배스 내부에 설치되는 하부스토퍼이고;
    상기 리프트가 하강하여 상기 회전판의 끝단이 상기 하부스토퍼의 상단에 닿으면 상기 하부스토퍼에 높이에 맞추어 상기 리프트를 더 하강시켜 상기 회전판이 수평을 이루고 상기 카세트가 상기 배스 내부의 상기 약액에 완전히 잠기도록 하는 것;을 특징으로 하는 배치식 기판 처리 장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 카세트가 상기 회전판으로 로딩 또는 상기 회전판으로부터 언로딩되는 과정에서 상기 회전판이 수평을 유지하도록 하는 수평유지부;
    를 더 포함하는 배치식 기판 처리 장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 회전판의 양측에는 가이드가 구비되되, 상기 가이드는 상기 회전판의 끝단에서 시작하여 상기 회전축의 상측을 지나 상기 리프트의 수직축에 이르도록 구비되고;
    상기 수평유지부는 배스에 설치되는 상부스토퍼로서, 상기 가이드의 상측이며 상기 회전축을 기준으로 상기 회전판의 끝단의 반대방향에 위치하고;
    상기 리프트가 상승할 때 상기 가이드의 상단이 상기 상부스토퍼의 하단에 눌려 시소의 원리로 상기 회전판의 수평이 유지되는 것;
    을 특징으로 하는 배치식 기판 처리 장치.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 리프트의 가장자리에 롤러를 구비하고;
    상기 롤러의 위치를 조정하는 미세조정볼트를 더 구비하여;
    상기 리프트와 상기 배스 사이의 마찰을 최소화하는 것;
    을 특징으로 하는 배치식 기판 처리 장치.
  9. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 회전판의 가장자리에 롤러를 구비하고;
    상기 롤러의 위치를 조정하는 미세조정볼트를 더 구비하여;
    상기 회전판과 상기 배스 사이의 마찰을 최소화하는 것;
    을 특징으로 하는 배치식 기판 처리 장치.
  10. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 회전판의 상단에 위치하며 상기 카세트의 양끝단을 상기 회전판에 고정하는 카세트 고정장치;
    를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 배치식 기판 처리 장치.
  11. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 회전판은 수평면을 기준으로 0°에서 -30°사이의 각도에서 회전이 가능하도록 구성되는;
    것을 특징으로 하는 배치식 기판 처리 장치.
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